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蒸发源的特性及膜厚分布

第二节蒸发源的蒸发特性及膜厚分布姓名邬红班级14级材料1班本节知识点概括1掌握点蒸发源小平面蒸发源细长平面蒸发源的原理和膜厚2了解环状蒸发源和球面基板上的膜厚分布3了解实际蒸发源的发射特性4了解蒸发源与基板的相对位置配置在真空蒸发镀膜过程中能否在基板上获得均匀膜厚是制膜的关键问题基板上不同蒸发位置的

蒸发源的特性及膜厚分布Tag内容描述:<p>1、第二节蒸发源的蒸发特性及膜厚分布 姓名 邬红 班级 14级材料1班 本节知识点概括 1 掌握点蒸发源 小平面蒸发源 细长平面蒸发源的原理和膜厚 2 了解环状蒸发源和球面基板上的膜厚分布 3 了解实际蒸发源的发射特性 4 了解蒸发源与基板的相对位置配置 在真空蒸发镀膜过程中 能否在基板上获得均匀膜厚 是制膜的关键问题 基板上不同蒸发位置的膜厚 取决于蒸发源的蒸发 或发射 特性 基板与蒸发源的几何形。</p>
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