蒸发源的特性及膜厚分布课件
2. 了解环状蒸发源和球面基板上的膜厚分布。3. 了解实际蒸发源的发射特性。能否在基板上获得均匀膜厚。
蒸发源的特性及膜厚分布课件Tag内容描述：<p>1、,第二节蒸发源的蒸发特性及膜厚分布,姓名：邬红,班级：14级材料1班,.,本节知识点概括：,1.掌握点蒸发源、小平面蒸发源、细长平面蒸发源的原理和膜厚。,2.了解环状蒸发源和球面基板上的膜厚分布。,3.了解实际蒸发源的发射特性。,4.了解蒸发源与基板的相对位置配置。,.,在真空蒸发镀膜过程中，能否在基板上获得均匀膜厚，是制膜的关键问题。基板上不同蒸发位置的膜厚，取决于蒸发源的蒸发(或发射)特。</p><p>2、第二节蒸发源的蒸发特性及膜厚分布 姓名 邬红 14级材料1班 本节知识点概括 1 掌握点蒸发源 小平面蒸发源 细长平面蒸发源的原理和膜厚 2 了解环状蒸发源和球面基板上的膜厚分布 3 了解实际蒸发源的发射特性 4 了解蒸发源与基板的相对位置配置 在真空蒸发镀膜过程中 能否在基板上获得均匀膜厚 是制膜的关键问题 基板上不同蒸发位置的膜厚 取决于蒸发源的蒸发 或发射 特性 基板与蒸发源的几何形状 相。</p><p>3、第二节 蒸发源的蒸发特性及膜厚分布,姓名：邬红,14级材料1班,本节知识点概括：,1. 掌握点蒸发源、小平面蒸发源、细长平面蒸发源的原理和膜厚。,2. 了解环状蒸发源和球面基板上的膜厚分布。,3. 了解实际蒸发源的发射特性。,4. 了解蒸发源与基板的相对位置配置。,在真空蒸发镀膜过程中，能否在基板上获得均匀膜厚，是制膜的关键问题。 基板上不同蒸发位置的膜厚，取决于蒸发源的蒸发(或发射)特性、基。</p>
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