标准解读
GB/T 26332.1-2018《光学和光子学 光学薄膜 第1部分:定义》与GB/T 26332.1-2010版本相比,在多个方面进行了修订和完善。主要变化体现在以下几个方面:
一、标准名称的调整,从“光学和光学仪器”变更为“光学和光子学”,这一变动反映了技术领域扩展的趋势,更准确地涵盖了当前该领域的研究范围。
二、术语定义上有所更新。新版本中对一些关键概念进行了重新定义或补充说明,以更好地适应行业发展需求和技术进步。例如,对于某些特定类型的光学薄膜材料及其性能指标有了更加明确详细的描述。
三、增加了新的内容。随着科学技术的发展,出现了一些新技术、新材料以及新应用领域,因此2018版标准新增了若干相关条目,旨在为这些新兴方向提供标准化指导和支持。
四、结构布局优化。为了使标准更具逻辑性和易读性,2018年版本对原有章节进行了适当调整,并且通过增加示例等方式增强了其实用价值。
五、参考文献更新。鉴于科学研究成果日新月异,新版标准也相应地更新了所引用的国内外标准及其他参考资料列表,确保信息的时效性和权威性。
如需获取更多详尽信息,请直接参考下方经官方授权发布的权威标准文档。
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文档简介
ICS17180 N 30 . 中 华 人 民 共 和 国 国 家 标 准 GB/T2633212018/ISO9211-12010 . 代替 : GB/T26332.12010 光学和光子学 光学薄膜 第1部分 定义 : OpticsandphotonicsOpticalcoatings Part1 Definitions : (ISO9211-1:2010,IDT)2018-03-15发布 2018-10-01实施 中华人民共和国国家质量监督检验检疫总局 发 布 中 国 国 家 标 准 化 管 理 委 员 会 GB/T2633212018/ISO9211-12010 . : 目 次 前言 范围1 1 基本定义2 1 按功能定义薄膜3 4 常见的薄膜缺陷定义4 4 其他术语和定义5 6 附录 资料性附录 常见的薄膜缺陷的显微照片 A ( ) 7 参考文献 16 GB/T2633212018/ISO9211-12010 . : 前 言 光学和光子学 光学薄膜 分为以下 个部分 GB/T26332 4 : 第 部分 定义 1 : ; 第 部分 光学特性 2 : ; 第 部分 环境适应性 3 : ; 第 部分 规定的试验方法 4 : 。 本部分为 的第 部分 GB/T26332 1 。 本部分按照 给出的规则起草 GB/T1.12009 。 本部分代替 光学和光学仪器 光学薄膜 第 部分 定义 GB/T26332.12010 1 : 。 本部分与 相比 主要技术变化如下 GB/T26332.12010 , : 更改了标准的名称 ; 删除了 微划痕 大溅点 大微粒 和 孔径锥角 个术语 “ ”“ ”“ ” “ ”4 ; 删除了术语 通光孔径 的别名 有用区域 “ ” “ ”; 附录 中的手绘图片均改为显微照片 A ; 对部分文字表述进行了调整 ; 将术语 细划痕 改为 发状划痕 “ ” “ ”; 将术语 薄膜空隙 改为 薄膜空缺 “ ” “ ”; 将术语 相变 改为 相移 “ ” “ ”; 将术语 溅点 改为 喷溅点 “ ” “ ”; 将术语 裂纹 改为 断裂 “ ” “ ”; 将术语 龟裂 改为 裂纹 “ ” “ ”; 将术语 污点 改为 色斑 “ ” “ ”; 将术语 剥离 改为 剥落 “ ” “ ”。 本部分使用翻译法等同采用 光学和光子学 光学薄膜 第 部分 定义 ISO9211-1:2010 1 : 。 本部分由中国机械工业联合会提出并归口 。 本部分起草单位 沈阳仪表科学研究院有限公司 浙江大学 大连化学物理研究所 同济大学 沈阳 : 、 、 、 、汇博光学公司 杭州科汀光学技术有限公司 、 。 本部分主要起草人 高鹏 阴晓俊 费 书 国 孙 龙 章 岳 光 王 占 山 顾 培 夫 程 鑫 彬 邓 淞 文 王 峰 : 、 、 、 、 、 、 、 、 、 、赵帅锋 王瑞生 王银河 徐秋玲 殷波 、 、 、 、 。 本部分所替代标准的历次版本发布情况为 : GB/T26332.12010。 GB/T2633212018/ISO9211-12010 . : 光学和光子学 光学薄膜 第1部分 定义 :1 范围 规定了在光学元器件及基片表面镀制的光学薄膜的应用功能分类 技术指标的标准 GB/T26332 、 表述形式 常规特性及试验测量方法 但不拟用于规定镀制方法 、 , 。 不适用于眼科光学 眼镜 的光学薄膜 GB/T26332 ( ) 。 的本部分界定了光学薄膜的相关术语 包括基本定义 按功能定义薄膜 常见的薄膜 GB/T26332 , 、 、 缺陷定义 其他术语和定义 、 。2 基本定义 21 镀膜表面 . 211 . 元件和基片的表面镀膜 surfacetreatmentofcomponentsandsubstrates 使用一种或多种材料 在元件表面镀膜 用以改变元件原表面的光学 物理或化学性质 , , 、 。 注 基片被视为是几何完美和光学均质的 在实际操作中 将基片及其表面作为一个整体进行检验测量 : 。 , 。212 . 入射介质 incidentmedium 光射入薄膜前经过的介质 。213 . 出射介质 emergentmedium 光射出薄膜后进入的介质 。 注 基片除了作为薄膜的机械支撑基底 也是薄膜的入射和 或 出射介质 : , ( ) 。22 镀膜表面的光学特性 . 221 概述 . 镀膜表面的光学特性可以用分光光度值来描述 这些特性与电磁波传播的能量 辐射或发光 相关 , ( ) , 并为波长 入射角 偏振态的函数 另外 散射也是影响镀膜表面光学特性的因素 、 、 。 , 。 注1 在表述与光谱相关的函数时 通常将波长 写入圆括号内作为符号的一部分来表示 : , 。 注2 波长 可用波数 或光子能量 h 来代替 h 普朗克常数 频率 建议波长的单位为纳米 或微 : () () ( ) 。 = ;= 。 (nm) 米 波数的单位为厘米的倒数 -1 光子能量的单位为电子伏特 (m), (cm ), (eV)。222 . 光谱透射比 spectraltransmittance () 透过的与入射的辐射能通量或光通量的光谱密集度之比 。
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