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浅析热敏版的六大技术特征【天意数字快印】最近，市场上出现了一种最新式的数字胶印版，人们称之为热敏版。热敏版的感光范围830nm1064nm，甚至更宽。其印版技术包括熔化、烧蚀、转移、交联、光电子分解等。无论通过上述哪种技术成像后，再经过显影便得到印版。由于版材的不同，有些需要经过湿加工。1、化学不溶性通过激光热，使活性层中的聚合物交联，产生化学不溶性，形成负像，经过ir曝光受热产生酸，催化聚合物粘合剂进行化学交联，使曝光区有选择性的进行交联。预加热程序能够使多分子反应后获得足够高的交联度。因此，这样的版要获得高印程，在预加热工艺后采用传统的湿加工和后烤版，即可得到。预加热的宽容度要小，加热箱的控制性要好。2、物理不溶性该技术是通过活性层受热产生物理不溶性物质。活性层中含一均匀的分散热塑流水聚合物乳胶粒子，它能快速溶解，但经ir-激光曝光，热塑聚合物粒子受热聚结抑制了聚合层的溶解度，这种粒子的双重性能产生高质量的图像。该技术的优点是明室化，质量稳定，同时可内外鼓印版图文输出成像，属印图板，湿加工后再烤版，能得到高印程的版。爱克发的rd-9版材的感光波长范围830nm1100nm，兼有内外鼓记录成像技术，但目前尚未商品化。3、化学溶解型这种技术是通过活性层受热，产生化学溶解物质，无需加热，获得阳图版，完全明室化，湿加工后再烤版，印程高。其活性层可使用酸荃树脂作基础，热成像时，该层的溶解度提高。如果该层中加入红线-吸收种作为溶解抑制剂的话，就会有选择性的除掉曝光区。4、感热紫外光掩膜该技术感可见光，用ir-射线进行成像曝光，使紫外线吸收层不再溶于碱性显影液，从而担当了下层的紫外光掩膜。另一种形式是通过感红外的紫外吸收层，经热蚀曝光，对底层的紫外感光层曝光成像，但它的缺点是工艺复杂，需2部加工才能完全或不完全去掉紫外掩膜层。5、感热的物理掩膜此技术由爱克发首创，是一种新型热敏阳图板，取名为thermostar。它是通过高能激光对物理的掩膜层加热使其结构发生改变，该保护层中的炭或ir染料吸收ir光后，红外光能转化为热，热能使活性层中的温度急剧升高，达到400或更高，从而完成曝光。其特定的温度是由层热扩散系数、曝光时间、层厚及邻层的热扩散系数决定，同时，薄活性层能承受光脉冲所产生的膨胀，而且该层的体积和厚度有所增大，相同时间的曝光两所用的激光能可以完成层中的烧蚀反应。由于该版保护层上的ir光吸收容量高，因此对相对低的曝光能级也能产生高温使保护层发生物理变形。这种物理变形不仅可以有效的使碱性显影溶液湿润版面的曝光部分，而且还能快速的渗透保护层，进入底层，有效的溶解底层，并且比非曝光区溶解的更快，其保护层对碱性保护膜来说起一种掩膜的作用，显然它的表面和界面张力是冲洗加工的重要参数。由此得出结论，该技术是利用物理显影剂的不同作用而成像，这种独特的非烧蚀工艺是在层内尚未形成有害的挥发性化合物之前，或层中的部分组分尚未退化之前就已成像。由于层中化合物组分在处理时，不会污染环境。因此利用上述技术，可以减少危险性，同时还可以不用吸尘设备而激光烧蚀技术则需在成像区配备吸尘设施。6、成像技术的非烧蚀特性烧蚀包括红外感光层的蒸发和分解。其间，层中发生了物理和化学变化，当该层作为保护层时，烧蚀过的材料蒸发到空气中，在大多数情况下有一部分呈粉末状，重新沉积在材料的表面。这有可能进而影响到材料