标准解读

《GB/T 8756-2018 锗晶体缺陷图谱》是一项国家标准,旨在为锗单晶材料中常见的各种缺陷提供标准化的识别方法。该标准适用于锗单晶生产过程中的质量控制以及科学研究领域对锗晶体缺陷的研究。

在内容上,《GB/T 8756-2018 锗晶体缺陷图谱》详细列出了锗晶体中可能出现的不同类型缺陷,并通过图形和文字描述了这些缺陷的特点。它不仅涵盖了点缺陷、线缺陷(如位错)、面缺陷等基本分类下的具体实例,还特别强调了如何利用光学显微镜、电子背散射衍射技术(EBSD)等手段来观察与分析这些缺陷。

此外,该标准还介绍了几种重要的表征技术及其应用范围,比如X射线衍射(XRD)用于测定晶体结构参数;扫描电子显微镜(SEM)结合能谱仪(EDS)可以实现对微观形貌及成分分布的精确测量等。通过上述方法,能够有效地区分不同类型或级别的缺陷,从而指导后续处理工艺的选择与优化。


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  • 现行
  • 正在执行有效
  • 2018-12-28 颁布
  • 2019-07-01 实施
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文档简介

ICS29045H 80 .中 华 人 民 共 和 国 国 家 标 准 GB/T87562018 代替 GB/T87561988 锗晶体缺陷图谱 Collectionofmetallographsondefectsofgermaniumcrystal2018-12-28发布 2019-07-01实施 国 家 市 场 监 督 管 理 总 局 发 布 中国国家标准化管理委员会 GB/T87562018 前 言 本标准按照 给出的规则起草 GB/T1.12009 。 本标准代替 锗晶体缺陷图谱 本标准与 相比 主要技术变 GB/T87561988 。 GB/T87561988 ,化如下 : 删除了原标准缺陷图谱 张 分别为图 图 图 图 图 图 图 图 图 图 34 , 1、 2、 3、 4、 6、 8、 9、 15、 16、 20、 图 图 图 图 图 图 图 图 图 图 图 图 图 图 21、 23、 24、 28、 29、 30、 32、 33、 78、 87、 88、 90、 91、 95、 图 图 图 图 图 图 图 图 图 图 见 年版的第 96、 102、 106、 113、 114、 115、 116、 124、 125、 132( 1988 1 章 第 章 第 章 、 2 、 3 ); 增加了术语和定义 见第 章 ( 3 ); 增加了图谱 张 分别为图 图 图 图 图 图 图 图 图 图 图 图 44 , 1、 2、 3、 4、 6、 8、 9、 13、 14、 15、 16、 22、 图 图 图 图 图 图 图 图 图 图 图 图 图 图 23、 24、 29、 30、 31、 33、 34、 80、 89、 90、 92、 93、 96、 97、 图 图 图 图 图 图 图 图 图 图 图 图 98、 99、 105、 106、 116、 117、 118、 119、 120、 128、 129、 130、 图 图 图 图 图 图 见第 章 131、 132、 133、 135、 141、 142( 4 ); 完善了各类缺陷的特征及产生原因 见第 章 ( 4 ); 增加了资料性附录 晶体缺陷消除方法 给出了部分晶体缺陷的消除方法 见附录 A“ ”, ( A); 删除了原标准中的 附录 透射电子显微镜技术 补充件 见 年版的附录 “ B (TEM)( )”( 1988 B)。 本标准由中国有色金属工业协会提出 。 本标准由全国有色金属标准化技术委员会 归口 (SAC/TC243) 。 本标准起草单位 云南临沧鑫圆锗业股份有限公司 有研光电新材料有限责任公司 云南中科鑫圆 : 、 、晶体材料有限公司 中锗科技有限公司 广东先导稀材股份有限公司 云南东昌金属加工有限公司 有色 、 、 、 、金属技术经济研究院 。 本标准主要起草人 普世坤 惠峰 董汝昆 冯德伸 柯尊斌 尹士平 朱刘 李素青 : 、 、 、 、 、 、 、 。 本标准所代替标准的历次版本发布情况为 : GB/T87561988。 GB/T87562018 锗晶体缺陷图谱1 范围 本标准规定了锗多晶 锗单晶制备和机械加工过程中产生的缺陷 给出了各类缺陷的特征 产生原 、 , 、 因及消除方法 。 本标准适用于区熔锗锭 锗单晶 锗研磨片和锗抛光片生产过程中产生的缺陷 、 、 。2 规范性引用文件 下列文件对于本文件的应用是必不可少的 凡是注日期的引用文件 仅注日期的版本适用于本文 。 , 件 凡是不注日期的引用文件 其最新版本 包括所有的修改单 适用于本文件 。 , ( ) 。 半导体材料术语 GB/T14264 3 术语和定义 界定的以及下列术语和定义适用于本文件 GB/T14264 。31 . 杂质管道 impuritiespipeline 在锗单晶中 沿晶体纵向形成的管道状杂质富集区 , 。4 锗晶体缺陷 41 锗多晶 . 411 氧化物 . 4111 特征 . 晶体表面失去银灰色金属光泽 呈现不同颜色的表面膜 如图 所示 , , 1 。4112 产生原因 . 氧化物是由于晶体在高温状态下或长期暴露在空气中 以及在操作过程中引进的有机物在高温下 , 分解后 氧与锗反应生成 , 。412 浮渣 . 4121 特征

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