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3.1 半导体的基本知识,3.3 半导体二极管,3.4 二极管基本电路及其分析方法,3.5 特殊二极管,3.2 PN结的形成及特性,3 二极管及其基本电路,3 二极管及其基本电路,3.1 半导体的基本知识,3.1.1 半导体材料,3.1.2 半导体的共价键结构,3.1.3 本征半导体,3.1.4 杂质半导体,3 二极管及其基本电路,3.1.1 半导体材料,根据物体导电能力(电阻率)的不同,,分,导体、,绝缘体、,半导体,导体,(例 铁、铜等),导电能力强的物质,绝缘体,(例 橡胶等),几乎不导电的物质,导电性能介于导体和绝缘体之间的物体。,半导体,(在一定条件下可导电),典型的半导体材料,硅(Si)、锗(Ge),元素半导体:,化合物半导体:,砷化镓(GaAs),3 二极管及其基本电路,半导体不同于其它物质的特点:,受光照后导电能力增强(光敏器件),受热后导电能力增强(热敏器件),(2) 掺入微量杂质导电能力增强,(1)在外界能源的作用下,3 二极管及其基本电路,3.1.2 半导体的共价键结构,常用半导体简化原子结构模型,Ge(32共4层),Si(14共3层),共价健结构示意图 (平面结构,实际为三维),正离子核,共价键,物质的性质是由价电子决定的 。,3 二极管及其基本电路,本征半导体 化学成分纯净的、结构完整的半导体晶体。,3.1.3 本征半导体,共价键上的两个电子是由相邻原子各用一个电子组成的,这两个电子被成为束缚电子。 束缚电子同时受两个原子的约束,如果没有足够的能量,不易脱离轨道。 因此,在绝对温度T=0K(-273 C)时,由于共价键中的电子被束缚着,本征半导体中没有自由电子,不导电。只有在激发下,本征半导体才能导电。,3 二极管及其基本电路,电子与空穴,由于随机热振动致使共价键被打破而产生空穴电子对,当导体处于热力学温度0K时,导体中没有自由电子。当温度升高或受到光的照射时,价电子能量增高,有的价电子可以挣脱原子核的束缚,而参与导电,成为自由电子。,上述现象称为本征激发,也称热激发。,由于随机热振动致使共价键被打破而产生空穴电子对,3 二极管及其基本电路,自由电子产生的同时,在其原来的共价键中就出现了一个空位,原子的电中性被破坏,呈现出正电性,其正电量与电子的负电量相等,人们常称呈现正电性的这个空位为空穴。,空穴的出现是半导体区别于导体的一个重要特点,可见因热激发而出现的自由电子和空穴是同时成对出现的,称为电子空穴对。游离的部分自由电子也可能回到空穴中去,称为复合。本征激发和复合在一定温度下会达到动态平衡。,3 二极管及其基本电路,由于共价键中出现了空穴,在外加能源的激发下,邻近的价电子有可能挣脱束缚补到这个空位上,而这个电子原来的位置又出现了空穴,其它电子又有可能转移到该位置上。这样一来在共价键中就出现了电荷迁移电流。,电流的方向与电子移动的方向相反,与空穴移动的方向相同。本征半导体中,产生电流的根本原因是由于共价键中出现了空穴。,自由电子,空穴,3 二极管及其基本电路,3.1.4 杂质半导体,在本征半导体中掺入某些微量元素作为杂质,可使半导体的导电性发生显著变化。掺入的杂质主要是三价或五价元素。掺入杂质的本征半导体称为杂质半导体。,N型半导体 掺入五价杂质元素(如磷)的半导体。,P型半导体 掺入三价杂质元素(如硼)的半导体。,3 二极管及其基本电路,3 二极管及其基本电路,1. N型半导体,因五价杂质原子中只有四个价电子能与周围四个半导体原子中的价电子形成共价键,而多余的一个价电子因无共价键束缚而很容易形成自由电子。,在N型半导体中自由电子是多数载流子,它主要由杂质原子提供;空穴是少数载流子, 由热激发形成。,提供自由电子的五价杂质原子因带正电荷而成为正离子,因此五价杂质原子也称为施主杂质。,N型半导体的结构示意图如图所示:,所以,N型半导体中的导电粒子有两种: 自由电子多数载流子(主要由掺杂形成) 空穴少数载流子,3 二极管及其基本电路,2.P型半导体,因三价杂质原子在与硅原子形成共价键时,缺少一个价电子而在共价键中留下一个空穴。,在P型半导体中空穴是多数载流子,它主要由掺杂形成;自由电子是少数载流子,由热激发形成。,空穴很容易俘获电子,使杂质原子成为负离子。三价杂质 因而也称为受主杂质。,3 二极管及其基本电路,P型半导体的结构示意图如图所示:,所以,P型半导体中的导电粒子也有两种: : 空穴多数载流子(主要由掺杂形成) 电子少数载流子(由热激发形成),3 二极管及其基本电路,3 二极管及其基本电路,3.杂质对半导体导电性的影响,掺入杂质对本征半导体的导电性有很大的影响,一些典型的数据如下(了解):,以上三个浓度基本上依次相差106/cm3 。,本征半导体、杂质半导体,本节中的有关概念,自由电子、空穴,N型半导体、P型半导体,多数载流子、少数载流子,施主杂质、受主杂质,3 二极管及其基本电路,3.2 PN结的形成及特性,3.2.2 PN 结的形成,3.2.3 PN 结的单向导电性,3.2.4 PN 结的反向击穿,3.2.5 PN 结的电容效应,3.2.1 载流子的漂移与扩散,3 二极管及其基本电路,3 二极管及其基本电路,3.2.1 载流子的漂移与扩散,漂移运动: 在电场作用引起的载流子的运动称为漂移运动。,扩散运动: 由载流子浓度差引起的载流子的运动称为扩散运动。,3.2.2 PN结的形成,交界面附近多子扩散过程:,多子扩散,因浓度差,PN结加宽,内电场加强,PN结变窄,内电场削弱,多子又扩散,最终,扩散运动等于漂移运动 (多子) (少子),P型,N型,3 二极管及其基本电路,PN结的形成过程中的两种运动: 多数载流子扩散,少数载流子漂移,总之,扩散到对方的载流子在P区和N区的交界处附近被相互中和掉,使P区一侧因失去空穴而留下不能移动的负离子,N区一侧因失去电子而留下不能移动的正离子。这样在两种半导体交界处逐渐形成由正、负离子组成的空间电荷区(耗尽层)。由于P区一侧带负电,N区一侧带正电,所以出现了方向由N区指向P区的内电场。,3 二极管及其基本电路,当扩散和漂移运动达到平衡后,空间电荷区的宽度和内电场电位就相对稳定下来。此时,有多少个多子扩散到对方,就有多少个少子从对方飘移过来,二者产生的电流大小相等,方向相反。因此,在相对平衡时,流过PN结的电流为0。,3 二极管及其基本电路,3 二极管及其基本电路,3.2.3 PN结的单向导电性,当外加电压使PN结中P区的电位高于N区的电位,称为加正向电压,简称正偏;反之称为加反向电压,简称反偏。,(1) PN结加正向电压时,外加的正向电压有一部分降落在PN结区,方向与PN结内电场方向相反,削弱了内电场。于是,内电场对多子扩散运动的阻碍减弱,扩散电流加大。扩散电流远大于漂移电流,可忽略漂移电流的影响,PN结呈现低阻性。,PN结加正向电压时伏安特性,3 二极管及其基本电路,结论:正向的PN结表现为一 个很小的电阻。即正向电流 大。,(2) PN结加反向电压时,3 二极管及其基本电路,外加的反向电压方向与PN结内电场方向相同,加强了内电场。内电场对多子扩散运动的阻碍增强,扩散电流大大减小。此时PN结区的少子在内电场的作用下形成的漂移电流大于扩散电流,可忽略扩散电流,PN结呈现高阻性。,3 二极管及其基本电路,PN 结加反向电压时伏安特性,PN结的伏安特性,3 二极管及其基本电路,反向特性,结论:反向的PN结表现为 一个很大的电阻。即反向 电流很小。,PN 结加正向电压时,呈现低电阻,具有较大的正向扩散电流;,PN结的单向导电性结论:,PN 结加反向电压时,呈现高电阻,具有很小的反向漂移电流。,故 PN 结具有单向导电性。,3 二极管及其基本电路,(3)PN结V-I特性表达式,其中,PN结的伏安特性,IS 反向饱和电流,VT 温度的电压当量,且在常温下(T=300K),3 二极管及其基本电路,3.2.4 PN结的反向击穿,当PN结的反向电压增加到一定数值时,反向电流突然快速增加,此现象称为PN结的反向击穿。,热击穿不可逆,电击穿可逆,PN结被击穿后,PN结上的压降高,电流大,功率大。当PN结上的功耗使PN结发热,并超过它的耗散功率时,PN结将发生热击穿。这时PN结的电流和温度之间出现恶性循环,最终将导致PN结烧毁。,3 二极管及其基本电路,3.2.5 PN结的电容效应,(1) 扩散电容CD,(2) 势垒电容CB,(此部分略),3 二极管及其基本电路,3.3 半导体二极管,3.3.1 半导体二极管的结构,3.3.2 二极管的伏安特性,3.3.3 二极管的主要参数,3 二极管及其基本电路,3.3.1 半导体二极管的结构,在PN结上加上引线和封装,就成为一个二极管。二极管按结构分有点接触型、面接触型两大类。,(1) 点接触型二极管,3 二极管及其基本电路,PN结面积小,结电容小,用于检波和变频等高频电路。,(a)面接触型 (b)集成电路中的平面型 (c)代表符号,(2) 面接触型二极管,(b)面接触型,PN结面积大,用于工频大电流整流电路。,3 二极管及其基本电路,3 二极管及其基本电路,面接触型二极管一般由硅材料制作的较多,常见小功率硅二极管外形见下图所示。,锗二极管2AP15的V-I 特性,硅二极管2CP10的V-I 特性,3.3.2 二极管的伏安特性,二极管的伏安特性曲线可用式 表示,3 二极管及其基本电路,锗二极管2AP15的V-I特性,当0VVth时,正向电流为零,Vth称为死区电压或门坎电压。,当V 0 即处于正向特性区域。正向区又分为两段:,当V Vth时,开始出现正向 电流,并按指数规律增长。,3 二极管及其基本电路, 正向特性,硅二极管的死区电压Vth=0.5V左右;实际导通电压约0.60.8V( iD1mA )。 锗二极管的死区电压Vth=0.1V左右;实际导通电压约0.20.3V左右。,锗二极管2AP15的V-I特性,当V0 时,即处于反向特性区域。反向区也分两个区域:,当VBRV0 时,反向电流很小,且基本不随反向电压的变化而变化,此时的反向电流也称反向饱和电流 IS 。,当V VBR时,反向电流急剧增加,VBR称为反向击穿电压 。, 反向特性,3 二极管及其基本电路,3.3.3 二极管的主要参数,(1) 最大整流电流 IF,(2)反向击穿电压VBR和最大反向工作电压VRM,二极管长期连续工作时,允许通过二极管的最大整流电流的平均值。,二极管反向电流急剧增加时对应的反向电压值称为反向击穿电压VBR。,为安全计,在实际工作时,最大反向工作电压VRM一般只按反向击穿电压VBR的一半计算。,3 二极管及其基本电路,(3)反向电流IR,(4)正向压降VF,(5) 极间电容 CJ(CB、 CD ),在室温下,在规定的反向电压下,一般是最大反向工作电压下的反向电流值。硅二极管的反向电流一般在纳安(nA)级;锗二极管在微安(A)级。,在规定的正向电流下,二极管的正向电压降。小电流硅二极管的正向压降在中等电流水平下,约0.60.8V;锗二极管约0.20.3V。,3 二极管及其基本电路,3.4 二极管基本电路及其分析方法,3.4.1 简单二极管电路的图解分析方法,3.4.2 二极管电路的简化模型分析方法,3 二极管及其基本电路,3.4.1 简单二极管电路的图解分析方法,二极管是一种非线性器件,因而其电路一般要采用非线性电路的分析方法,相对来说比较复杂,而图解分析法则较简单,但前提条件是已知二极管的V -I 特性曲线。,3 二极管及其基本电路,例 3.4.1 电路如图所示,已知二极管的V-I特性曲线、电源VDD和电阻 R, 求二极管两端电压vD和流过二极管的电流iD 。,解:由电路的KVL方程,可得,即,3 二极管及其基本电路,是一条斜率为-1/R 的直线,称为负载线,Q 的坐标值(VD,ID)即为所求。Q 点称为电路的工作点,3.4.2 二极管电路的简化模型分析方法,1.二极管V-I 特性的建模,将指数模型 分段线性化,得到二极管特性的等效模型。,(a)V-I特性 (b)代表符号 (c)正向偏置时的电路模型 (d)反向偏置时的电路模型,3 二极管及其基本电路,(1)理想模型,(2)恒压降模型,(b)电路模型,(a)V-I 特性,(b)电路模型,(a)V-I 特性,3 二极管及其基本电路,(3)折线模型,(4)小信号模型,3 二极管及其基本电路,vs =0 时, Q点称为静态工作点 ,反映直流时的工作状态。,vs =Vmsin t 时(VmVDD), 将Q点附近小范围内的V-I 特性线性化,得到小信号模型,即以Q点为切点的一条直线。,过Q点的切线可以等效成一个微变电阻,即,根据,(a)V-I 特性 (b)电路模型,3 二极管及其基本电路,得Q点处的微变电导,则,常温下(T=300K),(a)V-I 特性 (b)电路模型,3 二极管及其基本电路,2模型分析法应用举例,(1)整流电路,(a)电路图 (b)vs 和 vo 的波形,3 二极管及其基本电路,(2)静态工作情况分析,例 设简单硅二极管基本电路如图a所示,R=10k,图b是它的习惯画法。 对于下列两种情况,求电路的ID和VD的值: VDD=10V; VDD=1V。在每种情况下,应用理想模型、恒压降模 型和折线模型求解。设折线模型中rD=0.2k。,(a)简单二极管电路 (b)习惯画法,3 二极管及其基本电路,理想模型,(R=10k),当 VDD=10V 时,,(a)简单二极管电路 (b)习惯画法,解:,3 二极管及其基本电路,恒压模型,(硅二极管典型值),折线模型,(硅二极管典型值),设,理想模型,同理,当VDD=1V 时,,恒压模型,折线模型,(a)简单二极管电路 (b)习惯画法,ID= 0.1 mA,ID= 0.03 mA,ID=0.049 mA,VD= 0.51V,而 VDD=10V 时,,理想模型,恒压模型,折线模型,ID= 1 mA,ID= 0.93 mA,ID=0.931 mA,VD= 0.69V,通过以上计算结果表明:,3 二极管及其基本电路,(3)限幅电路,3 二极管及其基本电路,电路如图,R = 1k,VREF = 3V,二极管为硅二极管。分别用理想模型和恒压降模型求解,当vI = 6sin t V时,绘出相应的输出电压vO的波形。,(4)开关电路,判断二极管的工作状态基本原则:,3 二极管及其基本电路,例:电路如右图所示,求AO的电压值,解:,先断开D,以O为基准电位, 即O点为0V。,则接D阳极的电位为-6V,接阴极的电位为-12V。,阳极电位高于阴极电位,D接入时正向导通。,导通后,D的压降等于零,即A点的电位就是D阳极的电位。,所以,AO的电压值为-6V。,3 二极管及其基本电路,(5)低电压稳压电路,利用二极管的正向稳压特性,可以获得较好的稳压性能。,例 低电压稳压电路如下图a所示。,3 二极管及其基本电路,设电路中电源电压增量为vD,等效电路如图b所示。,vD=VD+vD,iD=ID+iD,则电路中,vD=VD+vD,iD=ID+iD,由于vD 很小,故 vDvO,(6)小信号工作情况分析,在图示电路中,VDD = 5V,R = 5k,恒压降模型的VD= 0.7V, vs = 0.1sinw t

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