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文档简介
第八章 真空镀膜机设计 The Design of Vacuum Coating Equipments,8.1真空设备设计原则,先功能,后结构。先给出指标参数、生产要求、功能 先核心,后辅助。由内向外。先决定 靶尺寸、靶基距 先局部,后整体。再由整体,定局部。 先设计,后校核。由粗到细。,镀膜机常用技术指标,镀膜方法:CVD,PVD(蒸发、溅射、离子镀、复合镀) 被镀工件的形状、尺寸;工件架尺寸;真空室尺寸; 生产方式:连续、半连续、周期式。生产周期。生产量。生产速率。 技术参数:设备极限真空度、工作本底真空度、工作真空度、工作气氛; 漏率、抽空时间、恢复真空时间。 工作(烘烤)温度;(热处理炉、冻干机) 膜厚不均匀程度; 功率;最高电压;,8.2真空镀膜机的分类 按作业方式划分,(1)间歇式(周期式) 特点:一个真空室。如钟罩式、盒式的蒸发、溅射镀膜机。 一个周期内的工序:装料、抽空、镀膜、放气、出炉。 (2)半连续式(节拍式) 特点:常常有2个或2个以上真空室,双室有不同的真空度。 节拍式作业。如大卷绕半连续蒸发镀膜机、枚叶式节拍溅射镀膜机。 (3)连续式 特点:有多个真空室,分别完成不同的功能,保持真空度不变。 基片(工件)依次从一端进入,从另一端输出。,真空镀膜机的构成,真空室与机架 源基系统(蒸发源、溅射靶+工件架) 真空系统 供电系统 测量与控制系统 水冷系统 充气系统 其它辅助系统,8.3真空室与机架 - 1结构布置,立式中轴线垂直,高度尺寸大 卧式中轴线水平,长度尺寸大。 又分 立卧(高度尺寸第二大) 平卧(高度尺寸最小),钟罩式 (垂直提升,有机架、台面) 扁箱式 (平板形基片)如 立卧或平卧、周期或连续式、平板玻璃镀膜机 方箱式 前开门 圆筒式 前开门,蚌壳炉(门大,可装大工件)。 盒式 长方形 圆形 上揭盖(垂直提升,有机架、台面) 球形 适于化学气相合成,可接许多接口(分析仪器),并都对准中心,8.3真空室与机架 - 2外形,8.3真空室与机架 -3功能作用与要求,形成并保持真空环境; 耐压要求、漏率要求、耐温要求 摆放、布置内外各个系统;提供安装位置、接口、并要便于作业功能作用与要求,8.3真空室与机架 - 4构成与附件,室体壁厚考虑强度,水冷考虑温度(盘管 式、间壁式),焊接考虑工艺 法兰门与接口的法兰,要符合标准,接管 的加工工艺 门强度问题、大法兰平整问题、密封问题(钟罩式、开门式)、门拉手、门锁 门轴支撑结构(钟罩悬挂、开启式、简单与复杂门轴、弯臂式、双自由度或平动),8.3真空室与机架 - 4构成与附件,底板支撑整个真空室和工件,厚,开许多接口,底板布置 观察窗基本要求:看得清; 内部照明:借助烘烤灯、辉光、弧光,专用灯。 保持真空、橡胶密封低真空普通窗、金属密封超高真空石英窗。 特殊要求:防污染。防污染措施:转动式或百叶窗式挡板、卷膜、双层玻璃。,8.3真空室与机架 - 4构成与附件,动密封用途:工件转架、工件传送、各种挡板、转靶、机械手(拨叉、送料杆) 橡胶圈、皮碗密封(不能用润滑液,低速蠕动), 波纹管及胶片密封,磁耦合传动,磁流体密封 辐射与屏蔽屏 支撑与绝缘件,8.4工件架 -1 功能作用与要求,多装料 装卡要求 利于膜厚分布 满足对基片的要求(加偏压、加热 冷却),8.4工件架 - 2 结构形式,与真空室形式及源靶布置方式相匹配 包括静止工件架、基片转架和多自由度工件架 静止镀镜 杆式工件架,小车式 三球面行星轮系(钟罩式室体、小平面蒸发源、上拨动),8.4工件架 - 2 结构形式,公转与自转-行星杆系(立式前开门体、中心圆柱靶或两侧平面靶或多弧) 蒸发(或溅射)用多自由度旋转平台 (盒式室体、多功能实验设备,可调3维位置和角度) 筒形工件架 2种(多弧镀钻头) (堆积滚动、镀膜电阻, 小元件表面) 大卷绕系统 (半连续) 连续镀膜送件平台(卧式胶辊,立式槽轮,带小车),挂 夹 卡 粘 插 电弧离子镀镀钻头的多种装法,8.4工件架 - 3 工件装卡(夹)方式,8.4工件架 - 4 驱动机构,定速运行交流电机+减速器 调速要求直流电机+减速器、步进电机; 皮带轮传动可防卡死 功耗计算,8.4工件架 - 5挡板机构,作用是控制蒸发 (多靶时)防各靶间相互污染,8.4工件架 - 6 设计要求,强度要求 运动要求 灵活性(转动轻快,无卡滞,无噪音;不加润滑剂) 稳定性(运行平稳,可靠,耐烘烤,能长期工作) 满足膜厚均匀性要求(行星杆系速比) 密封要求 烘烤或水冷要求(基片平台带发热体) 偏压与绝缘要求,8.5靶的布置形式,(1)单蒸发源如电子枪、舟、丝。点源在中心,小平面源在球底。 (2)多蒸发源如镀镜机。多源平行排成一排,平面布置。 (3)单靶中心圆柱靶,上下圆靶(方靶),长方靶伸入圆筒中。 (4)多靶多个圆柱靶平行(如平板玻璃镀膜机)或环绕排列(如太阳能集热管镀膜机)。 多弧靶在圆柱面螺旋排列。中心圆柱靶+两侧矩形靶。,8.6真空系统,(1)泵扩散泵+旋片泵;分子泵+旋片泵;离子泵+分子泵+旋片泵; (2)阀高阀、预抽阀、前级阀、泵口压差阀、放气阀、节流阀,闸阀; (3)管主管路、预抽管路、前级管路;冷阱,8.7供电系统,蒸发镀膜用大电流的产生与输送 大电流三相平衡变压器,送电汇流排,水冷铜电极、铜坩埚, 动静电接头:电卡头、电触头铜钥匙、插板式、花瓣式、铜箔弹簧 中频感应电源(8000Hz)及电容补偿,,8.8测量与控制系统,膜厚测量 光学法、石英振荡法 真空测量 镀膜电参数测量与控制放电电压、电流、气体压力、流量,源功率、温度, 状态监控传感元件,8.9水冷系统 -1要求水冷的部位,(舟、丝)蒸发源的水冷电极,感应源的水冷线圈,电子枪的水冷坩埚,各种磁控溅射靶的靶材,蒸发挡板的水冷挡板,内部带烘烤的镀膜机的真空室体水冷壁及橡胶密封圈部位,要求薄膜低温生长的基片(架),真空系统的扩散泵、水冷障板、旋片泵。,散热功率(W) 水流量 (Kg/s) 比热 cJ/(kg。K) 温度 tK,8.9水冷系统 - 2 用水量的计算,8.9水冷系统 - 3 水流设计,设计流道的结构及尺寸、水流流速的大小、水压压降、流阻 A、换热能否满足要求 换热形式主要是间壁式对流换热,考虑受热、换热面积有多大?单位面积总换热系数有多大?传热总温差有多大? B、流动能否实现 对流换热要求多大的流速?由总流量决定流道的横截面积,总流道有多长?有多大的流阻?需要多高的水压?,8.9水冷系统 - 4 元器件与构成,水源总阀门,分水排,橡胶(金属)水管,回水槽,水压继电器、水流继电器, 可移动设备供水管的履带结构, 中空回转轴的供水元件水冷转轴供水接头 水冷系统工作状态的检测、显示、控制系统(传感器、显示器模拟屏或计算机、执行器),8.9水冷系统 - 5 注意事项,局部流道的设计急转弯处
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