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2019/6/24,1,光學設計軟體介紹,主講人:游鎮名,OSLO,2019/6/24,2,摘要,OSLO簡介 序列描光與非序列描光 OSLO的操作 優化與公差,2019/6/24,3,OSLO簡介,OSLO的介紹 序列性描光 ( Sequential Ray Tracing ) &非序列性描光( Non-Sequential Ray Tracing ) 的介紹,2019/6/24,4,OSLO的介紹,美國Lambda Research Corporation所發展的光學設計軟體。 可做光學元件設計與照明系統的照度分析。 建立反射、折射、繞射等光學模型,並結合優化、公差等分析功能。 目前版本:6.3 每年更新版本數次。 版本等級 Light Standard Premium,2019/6/24,5,序列性描光與非序列性描光的軟體比較,Non-Sequential Ray Tracing TracePro LightTools ASAP,Sequential Ray Tracing ZEMAX OSLO Code V,2019/6/24,6,序列性描光 ( Sequential Ray Tracing ),以表面( Surface ) 為單位,光線從表面1到27會依順序做計算,而不會從2到6到3到1做計算。 速度快 好處是光線在一個表面只做一次計算 優點是可以作優化,公差分析。 缺點是較不接近真實世界。 常運用在成像系統中作透鏡的設計。,1,2,3,4,5,6,7,IMA,2019/6/24,7,非序列性描光 ( Non-Sequential Ray Tracing ),光線在一個表面上並不只做一次計算。 優點是接近真實世界。 缺點是光線數過多且變數也較複雜,所以無法 優化設計,且運算時間較長。 常運用在照明系統或是雜散光分析。,1,3,7,6,5,4,10,9,2,8,11,2019/6/24,8,OSLO的使用介面,功能選單,主要 工具列,指令列,指令 控制鍵,圖形輸出視窗,表欄式 編輯器,文字輸出視窗,狀態列,2019/6/24,9,OSLO的操作順序,資料輸入,報表輸出,成像品質分析,優化與公差計算,2019/6/24,10,資料輸入,系統參數 (System parameters) 波長 (Wavelengths) 視場角 (Field angle) 透鏡參數 (Lens parameters) 曲率半徑 (Curvature radius) 厚度 (Thickness) 半高 (Aperture radius) 玻璃材質 (Glass materials) 近軸參數 (Paraxial parameters) 光瞳半徑 (Beam radius) F/#,2019/6/24,11,資料輸入畫面,2019/6/24,12,分析,光線分析( Ray Analysis ) 波前分析( Wavefront Analysis ) 光斑圖( Spot Diagrams ) 點傳播函數( Point Spread Function ) 調節轉換函數( Modulation Transfer Function ) 離焦MTF( Through-Focus MTF ),2019/6/24,13,光線分析( Ray Analysis ),2019/6/24,14,波前分析( Wavefront Analysis ),2019/6/24,15,光斑圖( Spot Diagrams ),2019/6/24,16,點傳播函數( Point Spread Function ),2019/6/24,17,調節轉換函數( Modulation Transfer Function ),2019/6/24,18
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