（国际法学专业论文）集成电路布图设计的国际保护与我国的立法探析.pdf

摘要 二十世纪是信息时代，电子信息产业高速发展，集成电路作为微电子技术的 核心曰益成为各国经济发展和国际贸易关注的热点。集成电路法律保护制度应运 而生，它适应了信息产业的发展，促进了集成电路技术的开发研究。与其他传统 知识产权制度相比，集成电路布图设计法律保护制度既不同于版权制度，又不同 于专利制度，而是兼备版权制度和专利制度特点的新型知识产权制度。它丰富了 知识产权制度理论，为学术研究提供了许多宝贵的经验。本文从集成电路产业的 发展的实践性要求、法学理论和经济分析等方面论述了立法保护集成电路布图设 计的必要性，并进一步分析了对集成电路布图设计进行保护的所需要的条件以及 通过对专利法，著作权法等法律保护集成电路都不能提供充分的保护，所以世界 上绝大多数国家采取了专门立法的模式来保护集成电路布图设计。事实上，当前 国际保护集成电路布图设计的标准已经形成，布图设计法已经自成体系，是独具 特色的知识产权法。因此为了适应t r i p s 协议的规定，完善我国知识产权制度的， 保障我国集成电路产业健康发展，我国在2 0 0 1 年制定了集成电路御图设计保护 条例，通过对条例进行正反两方面的剖析，认为我国现行集成电路布图设 计保护条例在符合t r i p s 协议规定的前提下，充分考虑到我国集成电路产业不 发达的实际情况，尽量减弱对布图设计的保护力度是非常明智的。最后，由于我 国集成电路产业发展很快，对将来时机成熟时如何修改集成电路布图设计保护 条例提出了一些前瞻性的建议，以期有利于我国集成电路布图设计保护法的修 改和完善。 关键词：集成电路；集成电路布围设计；世界知识产权组织l p i c t 条约；t r i p s 协议 t h ei n t e r n a t i o n a lp r o t e c t i o no ft h ei n t e g r a t e dc i r c u i tc l o t h d i a g r a md e s i g na n d o u rc o u n t r yo fl a w m a k i n g d i s c u s s i o na n d a n a l y s i s a b s t r a c t i nt h ei n f o r m a t i o nt i m e so f 2 0c e n t u r nt h ei n f o r m a t i o ni n d u s t r yd e v e l o p e da t ah i g hs p e e d a st h ec o r eo fm i c r o e l e c t r o n i ct e c h n o l o g y , t h ei n t e g r a t e dc i r c u i tg a i n s al o t o fa t t e n t i o ni nt h ee c o n o m i cd e v e l o p m e n ta n di n t e r n a t i o n a lt r a d eo fm a n y c o u n t r i e s h e n c et h es y s t e mo np r o t e c t i n gt h ei n t e g r a t e dc i r c u i tc a m ei n t ob e i n g i t s a t i s f i e st h e d e v e l o p m e n to ft h e i n f o r m a t i o ni n d u s t r y , a n df o s t e r st h ed e v e l o p m e n t o fi n t e g r a t e d c i r c u i tt e c h n o l o g y i ti sav e r ys p e c i a ls y s t e mw h i c he n r i c h e st h e i n t e l l e c t u a lp r o p e r t y t h e o r ya n do f f e r sm u c he x p e r i e n c e f o ra c a d e m i cr e s e a r c h i n a c c o r d a n c ew i t ht h e r e q u i r e m e n t o ft r i p s ，c h i n ae s t a b l i s h e d “r e g u l a t i o n f o rt h e p r o t e c t i o no f l a y o u t d e s i g no fi n t e g r a t e dc i r c u i t ”i n2 0 0 1 i nt h i sa r t i c l e ，t h e a u t h o re m p l o y st h e c o m p a r a t i v em e t h o d ，r e f e r st ot h ec o n c e r n i n gl e g i s l a t i o na n d i n t e r n a t i o n a la g r e e m e n to n t h i sa s p e c t ，a n dt r i e st od i s c u s st h el e g a li s s u eo n p r o t e c f i n gt h el a y o u t - d e s i g no f i n t e g r a t e dc i r c u i tw i t ht h eh o p eo fd o i n gs o m eg o o d t o o u ra c a d e m i cr e s e a r c ha n d l e g i s l a t i o no nt h i sa s p e c t i no r d e ri nl i n ew i t ht r i p s ，c h i n aa p p l i e st h es p e c i a lm o d eo fl e g i s l a t i o nt op r o t e c t t h el a y o u t d e s i g no fi n t e g r a t e dc i r c u i t i nt h i sp a r t ，t h ea u t h o rd i s c u s s e st h er e a s o nt o s e l e c tt h i sm o d eo fl e g i s l a t i o nt op r o t e c tt h el a y o u t - d e s i g n o fi n t e g r a t e dc i r c u i tf r o m t h e o r yt h ea u t h o rd i s c u s s e st h eo b j e c t sa n ds u b j e c t so f r i g h t sa n do t h e ra s p e c t so ft h e l a y o u t d e s i g n o fi n t e g r a t e dc i r c u i tw i t hh e rm a i n a t t e n t i o no nr e g u l a t i o n sf o rt h e p r o t e c t i o no fl a y o u t d e s i g n i n go fi n t e g r a t e d c i r c u i t s a tt h es a m et i m es h ec o m p a r e st h e p r o v i s i o n so nt h e s ea s p e c t so fo t h e r c o u n t r i e sa tal i m i t e ds e n s e a f t e rc a r e f u la n a l y s i s ， t h ea u t h o rt h i n k st h a tt h er i g h t i nt h el a y o u t d e s i g no fi n t e g r a t e dc i r c u i ts h o u l db es u b j e c t t os o m e l i m i t a t i o n s l a y o u t d e s i g n i n g o f i n t e g r a t e d c i r c u i t s t oc o n s i d e r t h e u n d e r d e v e l o p e dt h i n g s o fi n t e g r a t e dc i r c u i t s i n d u s t r y i nc h i n aa n d p r o v i d e 5 l i m i t e d p r o t e c t i o nf o rl a y o u t - d e s i g no fi n t e g r a t e dc i r c u i t h o w e v e r , t h i sr e g u l a t i o nm a y b e i m p r o v e dw i t ht h er a p i dd e v e l o p m e n to fi n t e g r a t e dc i r c u i ti n d u s t r y k e yw o r d s ：i n t e g r a t e dc i r c u i t s ；l a y o u t d e s i g j n g ；i p i c ；t r i p s 6 大连海事大学学位论文原创性声明和使用授权说明 原创性声明 本人郑重声明：本论文是在导师的指导下，独立进行研究工作所取得的成果， 撰写成博士硕士学位论文 论文中已经注明弓l 用的内容 。除 均已 在文中以明确方式标明。本论文中不包含任何未加明确注明的其他个人或集体已 经公开发表或未公开发表的成果。 本声明的法律责任由本人承担。 论文作者繇私蟊麝啪，曰 学位论文版权使用授权书 本学位论文作者及指导教师完全了解“大连海事大学研究生学位论文提交、 版权使用管理办法”，同意大连海事大学保留并向国家有关部门或机构送交学位论 文的复印件和电子版，允许论文被查阅和借阅。本人授权大连海事大学可以将本 学位论文的全部或部分内容编入有关数据库进行检索，也可采用影印、缩印或扫 描等复制手段保存和汇编学位论文。 保密口，在年解密后适用本授权书。 榉雠娟t 篡以扩，不保密阿( 请在以上方框内打“”) 论文作者繇融触新签名：韶 日期：d 年哆月矿日 啕 引言 1 9 4 7 年，在美国的贝尔实验室里，巴丁、布莱顿发明了世界上第一个晶体管， 预示着电子线路集成化时代即将到来。1 9 5 8 年，美国德克萨斯仪器公司首次在一 块硅片上制成包括晶体管电阻、电容的振荡器，标志着集成电路的诞生。自此以 后，人们进入了微电子时代【1 】。此后的四十多年问，集成电路从只有几十个集成元 件的小规模集成电路迅速发展到含有数亿个集成元件的极规模集成电路，其发展 速度之快、水平之高，令世人惊叹【”。今天，集成电路已遍布世问的各个角落，从 空中卫星、航天飞机、智能计算机、通讯设各到金融卡、随身昕、家用电器，无 不有着集成电路的影子。不论将来科技如何进步，其扮演精密工业重心之角色不 易改变，重要性质不言而喻。 3 】 随着集成电路的迅猛发展，世界各国开始研究集成电路的法律保护问题，美 国于1 9 8 4 年率先立法通过保护布图设计的方式对其予以保护，此后一系列国家纷 纷立法，时至今日，对布图设计进行知识产权保护已成为世界潮流。我国也于2 0 0 1 年4 月颁布了集成电路布图设计保护条例( 以下简称条例) ，对集成电路予 以保护。 集成电路的知识产权保护问题已实实在在的摆在了我们面前，这就要求我们 对其进行认真的研究。但由于我国的研究起步晚，大多集中于介绍一些世界其他 国家的立法和法律内容，没有进行全面系统的研究、论证。为此，本文以集成电 路布图设计的知识产权保护为题，运用分析比较的方法，从理论上和实践上对集 成电路的立法模式、保护内容等进行研究，期望能撩开集成电路布图设计的“面 纱”，使人们认识它，以更好地运用知识产权法律去保护它，从而促进集成电路产 业的发展。 【1 1 车俊主编：计算机法学，北京：科学技术文献山版社1 9 9 2 年版第3 1 页。 1 2 1 刘春茂主编：中国民法学知识产权，北京：中国人民公安大学出版社1 9 9 7 年版，第7 9 2 页。 1 3 陈家俊：“评析我国积体电路布局法”载法令爿刊( 台湾) ，第4 6 卷第1 1 期。 第1 章集成电路与布图设计概述 1 1 集成电路简介 集成电路英文为i n t e g r a t e dc i r c u i t s 简称为i c 。它的称谓在各国有所不同。由 于迄今为止，半导体芯片一直是集成电路的主要元件，因而美国就把集成电路直 接称之为半导体芯片，欧共体则称之为半导体产品，日本称之为半导体集成电路， 世界知识产权组织则称之为集成电路。但是，现在集成电路已并不仅仅限于以半 导体芯片为主要元件，比如目前已有的生物芯片、超导芯片等也成为集成电路的 构成元件。本文认为还是使用集成电路为好，因为自1 9 8 9 年世界知识产权组织的 华盛顿条约使用集成电路以来，大多数立法的国家均使用集成电路一词，使 用集成电路一词能够顺应世界潮流，同时，为使集成电路的法律保护更有弹性， 以备将来扩大保护生物芯片集成电路等，防止重复立法，增加条例的稳定性 和灵活性，也应该使用集成电路一词。 集成电路不仅称谓不同，而且定义的表述也各不相同。美国半导体芯片保 护法第9 0 1 条规定：“半导体芯片产品”为下述任何产品的最后或中间形式：( a ) 依预定图案，在一块半导体材料上沉积或蚀刻二层以上的金属、绝缘或半导体材 料；并且( b ) 发挥电子电路的功能。欧共体指令关于半导体产品拓扑图的法律 保护第1 条规定：l 、本法中( a ) “半导体产品”是指具有以下特点的任何产品， 无论是其最终形态还是中间形态：( 1 ) 由一片包含有一层半导体材料的材料构成； ( 2 ) 产品中含有一层或多层由半导体、导体、绝缘体材料所组成的材料而各层之 间是按照预先设计的三维模式进行布置的：( 3 ) 用以单独或连同其他功能一道执 行某种电子功能。华盛顿条约第2 条规定：“集成电路”是指一种产品，在它 的最终形念或中间形态，是将多个元件，其中至少一个是有源元件，和部分或全 部互连集成在一块半导体之中和或之上，以执行某种电子功能。我国条例第 2 条第1 款规定：“集成电路，是指半导体集成电路，即以半导体材料为基片，将 至少有一个是有源元件的两个以上元件和部分或者全部互联线路集成在基片之中 或者之上，以执行某种电子功能的中间产品或最终产品。” 对比以上的定义，我们可以看出，它们从实质上是相同的概念，只是表述方 式各异而已。因为，第一，它们指的是一种产品的最终或中间形态( 或形式) 。第 二，它们都建立在半导体材料上。第三，各种元件是互连集成的。第四，它们所 指的产品都发挥( 执行) 某种电子功能。但是，这些概念的侧重点有所不同。美 国侧重于集成电路的制作过程；欧共体则侧重于集成电路的内部构成；而世界知 识产权组织和中国则侧重于集成电路的组成要素。从现在的趋势来看，大多数国 家倾向使用华盛顿条约的定义。 1 2 集成电路布图设计 1 2 1 集成电路布图设计的概念 集成电路布图设计，如同集成电路，在不同的国家有不同的称谓，但并无本 质区别。美国称之为掩膜作品( m a s k w o r k ) ，同本称为线路布局( c i r c u i tl a v o u t ) ， 欧共体国家( 如：英国、法国、德国、丹麦、西班牙、意大利等圜) 因欧共体指 令而称之为拓扑图( t o p o g r a p h y ) ，中国、瑞典、韩国、俄罗斯等国则称之为布图 设计( 1 a y o u t d e s i g n ) ，台湾则称为电路布局，华盛顿条约关贸总协定达成的与 贸易有关的知识产权协议( 简称t r i p s ) ，及香港等则将布图设计与拓扑图视为 同义词，统称为布图设计( 拓扑图) ，英文为l a y o u t d e s i g n ( t o p o g r a p h y ) 【4 】。以 上这些国家或地区、国际组织对布图设计称呼不同，他们又是如何对其定义呢? 美国半导体芯片保护法规定：“掩膜作品”是指一系列不论以何种方式 固定或编码的图像，它们( 1 ) 具有或代表着在半导体芯片产品涂层上存在的，或 从半导体涂层上除去的金属材料、绝缘材料或半导体材料的立体图形；( 2 ) 在这 一系列图像中，图像之间的相互关系是，每一个图像都是半导体芯片产品的一种 结构的表面图形。欧共体指令规定：半导体产品“拓扑图”指的是以任何方式固 定或编码的一系列相关的图像；( 1 ) 反映了构成半导体产品的那些材料层之间的 三维配置方式；( 2 ) 每一图像分别体现了半导体产品制造过程中各个阶段的表面 模式的整体或部分。世界知识产权组织的华盛顿条约规定：“布图设计( 拓扑 图) 是指集成电路中多个元件。其中至少有一个是有源元件，和其部分或全部集 成电路互连的三维配置，或者是指为集成电路的制造准备的这样的三维配置”。我 【4 1 郑胜利：“集成电路布图设计保护法比较研究”载王兵主编高新技术知识产权保护新论 北京：中国法制出版社2 0 0 2 年第2 5 0 页。 式各异而已。因为，第一，它们指的是 二，它们都建立在半导体材料上。第三 种产品的最终或中间形态( 或形式) 。第 各种元件是互连集成的。第四，它们所 指的产品都发挥( 执行) 某种电子功能。但足，这些概念的侧重点有所不同。美 国侧重于集成电路的制作过程；欧共体m u 倒重于集成电路的内部构成；而世界知 识产权组织和中国则侧重于集成电路的组成要素。从现在的趋势来看，大多数国 家倾向使用华盛顿条约的定义。 1 2 集成电路布图设计 1 2 1 集成电路布图设计的概念 集成电路布图设计，如同集成电路，在不同的国家有不同的称谓，但并兀本 质区别。美国称之为掩膜作品( m a s k w o r k ) ，日本称为线路布局( c i r c u i tl a y o u t ) 欧共体国家( 如：英国、法国、德国、丹麦、西班牙、意人利等圜) 因欧共体指 令而称之为拓扑图( t o p o g r a p h y ) ，中国、瑞典、韩国、俄罗斯等国则称之为布图 设计( 1 a y o u t d e s i g n ) ，台湾则称为电路布局，华盛顿条约关贸总协定达成的与 贸易有关的知识产权协议( 简称t r i p s ) ，及香港等则将靠图设计与拓扑图视为 同义侧，统称为布图设计( 拓扑图) ，英文为l a y o u t - d e s i g n ( t o p o g r a p h y ) 4 1 。以 上这些国家或地区、围际组织对布图设计称呼不同，他们又是如何对其定义呢? 美国半导体芯片保护法规定：“掩膜作品”是指系列不论以何种方式 回定或编码的图像，它们( 1 ) 具有或代表着在半导体芯片产品涂层上存在的，或 从半导体涂层上除去的金属材料、绝缘材料或半导体材料的立体图形；( 2 ) 在这 一系列图像中，图像之间的相互关系是，每一个图像都是半导体芯片产品的一种 结构的表面图形。欧共体指令规定：半导体产品“托扑图”指的是以任似方式固 定或编码的一系列相关的图像；( 1 ) 反映了构成半导体产品的那些材料层之间的 三维配置方式；( 2 ) 每一图像分别体现了半导体产品制造过程中各个阶段的表面 模式的整体或部分。世界知识产权组织的华盛顿条约规定：“布图没计( 拓扑 图) 是指集成电路中多个元件。其中至少有一个是有源元件，和其部分或全部集 成电路互连的三维配置，或者是指为集成电路的制造准备的这样的三维配置”。我 成电路互连的三维配置，或者是指为集成电路的制造准备的这样的三维配簧”。我 郑胜利：“集成电路布图设计保护法比较研究”载王兵主编高新技术知识产权保护新论 ，i l 京：中国法制出版社2 0 0 2 年第2 5 0 页。 国条例第二条第二款规定：“集成电路布图设计是指在集成电路中至少有一个 是有源元件的两个以上元件和部分或全部的互联线路的三维配置，或者为制造集 成电路准备的上述三维配置。”对比以上定义可以看出，欧共体和美国的定义几乎 一致，而华盛顿条约和中国的定义几乎一致。这两类定义虽然角度不同，但 实质上是一样的，主要表现在：第一，它们都指的是立体图形( 三维配置) 。第二， 它们都指的是集成电路的组成部分。既然这些名称的定义从实质上是一致的，那 么以何者最佳呢? 本文认为，既然华盛顿条约规定为“布图设计”，而且为t r i p s 所采纳，还是采用“布图设计”为最好。因为“掩膜作品”一词取意于早期集成 电路生产中所采用的掩膜版。集成电路发展到今天，已不可能再使用掩膜版生产 集成电路了，如：采用离子注入技术、电子束曝光技术等则可取代掩膜版，“掩膜 作品”一词已有过时落后之嫌。“线路布局”一词又难免与电子线路中印刷线路版 的布线设计混淆。而有人把欧共体的称谓称之为“形貌结构”，此词原意为地貌、 地形，并非电子学术语，用以指布图设计只是一种借用。相比之下，还是世界知 识产权组织采用的“布图设计”一词较为妥当，它不仅避免了其它名词的缺陷， 同时这一名词本身已在产业界及有关学术界得到广泛使用。【5 】 1 2 2 集成电路布图设计的功能 集成电路布图设计的功能主要体现在集成电路的制作过程中。集成电路的制 作和设计一般认为可分为二个部分，即布图设计和制作工艺。具体说来，大体要 经历以下步骤：( 1 ) 确定该集成电路所要具备的功能和其所能达到的规格；( 2 ) 确定为实现这些功能规格所需要具备的电性能和物理性能；( 3 ) 设计出能实现这 些性能的逻辑图和电路设计图；( 4 ) 把电路图中所需要的成千上万个元器件分配 在多个叠层中，以作出尽可能合理的安排，做出每一叠层的平面设计和每一叠层 之间多个元器件的连线及结构设计( 即三维布图设计) ；( 5 ) 把所完成的电路三维 布图中每一层电路布图根据实物要求和设计要求，缩小复制，制成用于生产芯片 的掩膜作品。一个集成电路，则有一组掩膜作品与之相对应；( 6 ) 根据掩膜作品， 采用有关的半导体工艺技术，把电路的布图设计一层一层地做在半导体芯片上， 5 1 郭禾：知识产权选论，北京：人民交通出版社2 0 0 1 年版，第1 4 6 页。 4 构成芯片；( 7 ) 对芯片加以封装，便可得到可供实际使用的集成电路。 6 1 上述步骤中，关键的是( 4 ) 和( 5 ) ，即设计，尤其是电路的三维布图设计， 是整个制作过程的核心，可以说，集成电路技术主要体现在布图设计上，这就需 要付出巨大的创造性的精细的劳动，花费创作人员大量的心血和智慧。据统计， 布图设计的开发成本，占芯片开发总投资的5 0 以上，它代表着芯片开发中的主 要投资，固化着创造者的艰辛劳动。随着集成电路的集成度越来越高，其布图设 计的难度也越来越大，集成电路布图设计在集成电路中的重要作用也同益显著。 也正是由于布图设计的重要作用，才更加需要用法律保护集成电路的布图设计。 1 2 3 集成电路布图设计的特征 ( 一) 劳动智力成果 通过上面对集成电路制作过程的分析，我们知道，布图设计是艺术创造力与 精密的电子工程技术融合的产物，要完成布图设计，就必须要求创作人付出艰辛 的劳动。特别是技术含量高的布图设计，甚至需要花费许多创作人员几年的、甚 至几十年的时间和心血，可以说，布图设计凝结着创作者的智慧。同时，在集成 电路的生产过程中，由于集成电路的高度集成化和相互依赖性，再加上集成电路 是一次做成的，不可能对出错地方或不合格的地方进行修补，只要集成电路中的 一个元件出错，哪怕是一根连线出错，对于集成电路来说，都是灾难性的、不可 挽回的错误。这就要求，在布图设计的创作过程中，不容许有一丝一毫的差错， 创作人员对整个布图设计的每一个细微处，都必须周密考虑，不得有任何疏忽。 而且，随着集成电路的飞速发展，集成化程度的提高，布图设计创作人员要想设 计出先进性更高的布图设计，就必须付出更多的脑力劳动。可见，布图设计无疑 是智力劳动的产物。【7 】 ( 二) 无形性 布图设计是集成电路中所有元器件之间的一种配置方式捧1 ，这种“配置方式” 6 1 蒋坡：计算机法律保护通论，上海：上海大学出版社1 9 9 8 年版，第3 8 6 页。 7 1 唐广良等编：计算机法北京：中国社会出版社1 9 9 3 年版，第1 3 1 页。 8 1 韩天森主编：走向2 l 世纪的中国知识产权法，北京：中国t 人出版社1 9 9 9 年版，第6 0 7 页。 本身是抽象的、无形的，以一种信息状态而存在，不占据任何空间。它是人们对 客观事物的主观反映。但是当这种主观反映附着在一定的载体上时，它就可以为 人所感知。前面提到布图设计在集成电路芯片中表现为一定的图形，这种图形是 可见的。同样，在掩膜版上布图设计也是以图形方式存在的。在其他载体上，布 图设计还可以以其他方式而存在。比如：计算机辅助技术的发展，使得布图设计 可以数据代码的方式储存在磁盘或磁带中，在计算机控制的离子注入机或者电子 束曝光装置中，布图设计也是以一系列的代码方式存在。【9 】因而，在不同的载体上， 布图设计存在的方式也是不同的。 ( 三) 可复制性 当布图设计的载体为掩膜时，布图设计就以图形方式存在于掩膜版上，这时， 只需对全套全套掩膜版加以翻拍，即可复制出全部的布图设计。当布图设计以磁 盘或磁带为载体时，同样可以用通常的磁带或磁盘拷贝方法复制布图设计。当布 图设计被“固化”到已制成的集成电路产品中时，复制过程相对复杂些，但仍 可以通过解剖产品、显微照相、逐层腐蚀、微量分析，获得全部布图设计口0 】。当 然，以后随着技术的发展，还会有新的复制方法出现。 ( 四) 非任意性 布图设计虽然在集成电路芯片中或掩膜版上以图形的方式存在，在磁盘上或 磁带上以编码的方式存在，但是其表现形式因受着诸多因素的影响和限制，却是 有限的或者非任意性的。这主要因为：第一，布图设计图形的形状及其大小受着 集成电路参数要求的限制。如果要求集成电路具有较高的击穿电压，设计人在完 成布图设计时就必须将晶体管的基区图形设计为圆形，以克服结面曲率半径较小 处电场强度过高容易导致击穿的现象。对于用于功率放大的集成电路，其功放管 图形的面积必须较大，否则，便难以承受大电流的冲击。第二，布图设计还受着 生产工艺水平的限制。为了提高集成电路的集成度或者追求高频特性，常常需将 集成电路中各元件的面积减小。这样，布图设计的线条尺寸、宽度也相对狭窄。 目前，国外已达到亚微米的数量级，如果将线条设计得太细，以致工艺难度太大 1 9 1 郭不：知识产权法选论，j 七京：人民交通出版社2 0 0 1 年版，第1 4 7 页。 1 0 1 韩大森主编：走向2 1 世纪的中国知识产权法，北京：中国t j 人出版丰十1 9 9 9 年版，第 6 0 7 页。 将会大大地降低集成电路的成品率和可靠性，这是极不经济的。同样地，如果一 味追求功率参数，将芯片面积增大，也会降低集成电路的成品率。因为芯片材料 的缺陷密度与材料的制作工艺水平直接相关。芯片面积越大，其中包含的缺陷的 概率也越大，从而导致成品率越低。第三，布图设计还受着一些物理定律以及材 料种类及其特性等多种因素的限制。比如：对各发射极管，各发射极间可能因为 基区自偏压效应而具有不同电位，为克服基区自偏压效应，则需在发射极上加上 一基区均压条的图形。 ( 五) 工业实用性 集成电路的作用就是实现电子电路的功能，作为集成电路核心的布图设计， 必须为了实现集成电路的功能，通过电子的流通与截止，元件的开与关，从而实 现信息的传递与处理，也就是说，布图设计就是为了集成电路的制造而存在，如 果布图设计不具有这一作用，那就不能应用于工业生产，也就去了其应具备的价 值。 1 2 4 布图设计与作品和发明创造 由布图设计的特征，我们可以看出它既类似于版权法保护的作品，又类似于 专利法保护的发明创造，它们相互之间的关系如下： ( 一) 行图设计与作品 布图设计作为一种立体设计，它与版权法上的作品相似，主要为：第一，布 图设计与作品一样都具有无形性。布图设计是确定用以制造集成电路的电子元件 在一传导材料中的排列和连接的布局设计，作为集成电路中各元器件的立体配置， 它是无形的。当然，布图设计虽然是无形的，但可以固定在磁盘或磁带以及掩膜 上，这时的磁盘或磁带以及掩膜仅仅是布图设计的物质载体。作品是人们对客观 世界的主观反映，作为思想、理论等是无形的，但它可以以文稿、图纸、磁带等 客观表现形式作为其物质载体。从这一点上二者是相似的。第二，布图设计和作 品的表现形式( 表现方式) 是相似的。二者都可以以编码的形式存在于磁盘或磁 带中。现在，随着数字化技术和设备的逐渐普及，相当一部分都采取了数字化编 码方式存在。最为常见的文字作品在输入计算机后也是以数字编码的方式存在。 车俊卡编：计算机法学，北京：科1 技术文献 l i 版社1 9 9 2 年舨，第3 5 页。 第三，布图设计与作品都具有可复制性。前面提到当布图设计的载体为掩膜时， 可用翻拍的方式复制；当以磁带或磁盘为载体时，可用拷贝的方式复制等。而作 品可以用手抄、复印、照相、录音、录像等方式复制。 由上可以看出，布图设计与作品非常相似，具有很密切的关系，但二者又有 很大的区别，主要表现在： 第一，二者的作用不同。任何形式的作品，都是为了给人们阅读、欣赏的， 都是为了满足人们的精神需求，仅仅是为了使人获得一定的感官享受，如：观看 影视作品、美术作品、阅读小说等。而布图设计存在于集成电路内部，非常细小， 人们无法用肉眼观察来满足感官的享受，它的主要作用是用来制造集成电路，作 为集成电路制造的关键部分，它的作用主要是为了半导体的工业应用。 第二，二者表现形式的限制程度不同。集成电路由一系列电子元件及连接这 些元件的导线所组成，是执行一定电子功能的电路。基于其使用目的、其元件的 布局、图形的大小，都由集成电路产品的电参数和生产技术水平决定，因此布图 设计的表现形式极为有限。若突破这些限制，由设计师任意发挥，则创作出的布 图设计就没有工业实用性。【12 i 而作品是由语言、文字、图形或符号等构成的，其 表现形式可以说多种多样，比如：音乐、戏剧、电影、电视、小说等等。 第三，二者的复制有着不同的含义。对作品的复制是指以任何方式将作品的 一部或全部制作成相同的若干份额的行为，通常主要是指仿制、翻印等，当然， 以电子手段或数字形式所表达的复制也属于复制【1 3 】。而布图设计的复制与作品的 复制不同。布图设计可以通过翻拍、拷贝、以及解剖产品、显微照相、逐层腐蚀、 微量分析等方法进行复制。但是，由于布图设计是一种立体设计，而且仅表现在 集成电路中的硅晶片上，如果要复制的话，也只能是复制在硅晶片上。很显然， 这种复制已经不再是真正的复制，实际上是在实施布图设计。所以，对于布图设 计而言，复制的含义应当是实施【l 。因而各国的版权法中，复制使用“c o p y ”一 词，而有关集成电路布图设计保护的立法中，复制则使用“r e p r o d u c e ”一词，但 是在汉语中无法区分，都使用“复制”一词。因此，集成电路布。图设计与作品 i t 2 i 刘文：“集成电路布幽设计知识产权性质和特点”载法商研究( 湖北) ，2 0 0 1 年第五期。 【”1 刘春茂主编：中国民法学咄口识产权，北京：中国人民公安大学出版社1 9 9 7 年版，第 1 3 1 页。 1 1 4 1 蒋丽珍，姜山：“知识产权保护的新课题”，半导体技术2 0 0 2 年第1 期。 尽管相似，但是由于具有本质的区别，二者是截然不同的。 ( 二) 布图设计与发明创造 布图设计作为为制造集成电路而准备的三维配置，它与发明创造有着密切的 联系。它们之间非常相似，主要表现在：第一、它们都具有工业实用性。不论是 布图设计，还是发明、实用新型、外观设计，它们的目的都是为了工业上的应用， 都必须具有特定的功能，能够在生产过程中实现其价值，最终都要表现在产品上。 发明、实用新型、外观设计可以表现在任何产品上，稚图设计则仅仅表现在集成 电路产品上。如果它们不能最终表现在产品上，不能在生产过程中应用，就失去 了存在的意义和价值。第二、它们都具有可实旋性。前面谈到，它们存在的目的 都是为了产业上的应用，因此，它们都应该能够付诸实施。布图设计的可实施性， 表现在可以用它来制作集成电路芯片，发明创造的可实旋性则表现在可以用它来 生产工业产品。 尽管布图设计与发明创造十分相似，但它们之间还是有很多差别的，这又表 现在：第一，布图设计是为制造集成电路所准备的三维配置，它仅仅是中间产品， 是制造集成电路产品非常重要的一个环节，不具有独立的功能，因而布图设计不 能单独取得专利【l ”。而发明创造则为对产品或其改进新的技术方案，具有独立的 功能，只要条件具备，一般都能获得专利。第二，布图设计的实施与发明创造的 实施有很大区别。布图设计的实施，其实是一个对布图设计进行复制的过程。对 于布图设计而言，复制与实施是分不开的，复制的过程就是实施的过程，没有复 制，就谈不上实施，实施离不丌复制，复制本身就是实施。但发明创造却不具备 这一特性，发明创造的复制与实施并不是同一个行为，是可以分开的。复制并不 意味着实施，而实施也不一定是复制【16 】。第三，受保护的要求不同。对发明创造 进行保护的是专利法，它往往要求受保护的发明创造必须具备新颖性、创造性和 实用性的实质性条件。而集成电路布图设计由于是为制造集成电路而准备的电子 元件的三维配置，它的大部分是为了提高集成度、节约材料、能源消耗，因而很 少具备专利法上的创造性，这样，对其进行保护的法律就不要求其具备专利法上 刘文：“集成电路布图设计知识产权性质和特点”载法商研究( 湖1 1 3 ) ，2 0 0 1 年第五期。 卅唐广良、是汉尔、董炳和、刘广三编：计算机法，北京：中国社会科学山版社1 9 9 年 版，第1 3 5 页。 的“三性”。由此看来，布图设计受保护的要求低于发明创造受保护的要求。 1 3 集成电路布图设计权 1 3 1 集成电路布图设计权的界定 随着世界各国立法对集成电路布图设计进行保护，便产生了一种新的知识产 权集成电路布图设计权。所谓布图设计权是指布图设计的创作人或其它权利 人依法对行图设计所享有的专有权利。也指国家依据有关集成电路布图设计的法 律规定，对于符合一定手续和条件的布图设计，授予其创作人或其他人在一定期 间内对布图设计进行复制和商业利用的权利。【1 1 布图设计的创作人在其进行创作过程中，付出了大量的智力劳动，与此相适 应，创作人当然享有对其劳动成果相应的权利，这是劳动享有权利的社会法则在 布图设计这一问题上的具体体现。 1 3 2 集成电路布图设计权的法律特征 既然布图设计权属于知识产权，那它理应具备知识产权的共同特点，即无形 性、专有性、时间性、地域性等。但布图设计权的专有性与其他知识产权的专有 形相比又有其特殊性。 所谓专有权或者独占权，就是某人所享有的对某一客体的排它的权利。决定 一项权利应当从两个方面来考虑。一是从权利主体上看，权利主体应是唯一的， 也就是晚对同一客体，只能有一个权利人，不能是两个以上的人对同一客体都享 有权利1 8 】。二是从权利内容上看，权利人对其智力成果享有独占、垄断和排它的 权利，任何人未经其许可，都不得使用权利人的智力成果( 法律另有规定的除外) 1 9 1 。根据这两个方面，我们来考察布图设计权是否为专有权。首先，根据各国关 于布图设计的立法，布图设计权不及于第三人独立创作的具有独创性的相同的布 图设计。如：华盛顿条约规定：“对于第三者独立创作出的相同的原创性布图 设计( 拓扑图) ，权利持有人不得行使其权利”。这就是说，即使两个布图设计完 1 17 林刚主编：知识产权法学，北京：中国法制出版社1 9 9 9 年版，第4 2 7 页。 ”1 刘春茂主编：中国民法学知识产权，北京：中国人民公安大学出版社1 9 9 7 年版，第8 页。 d 9 1 刘春戍主编：中国民法学知识产权，北京：中国人民公安人学山版社j 9 9 7 年版，第8 页。 o 全相同，如果各个创作者都是独立创作的，而不是复制他人的，并且该布图设计 又具有非常规性，则分别取得布图设计权。因此对于同一个布图设计，就拥有了 两个以上的主体，就违反了权利主体的唯一性标准。其次，既然权利主体不是唯 一的，那么一权利主体的布图设计权就不能排除其他权利主体的布图设计权，它 们只能是相互独立的，互不影响。因此，布图设计权并不是真正意义上的专有权， 只是借用了“专有权”这个词而已 2 。也有人持此观点，布图设计权不具有专有 权的性质，一个人取得了布图设计权，并不能排除他人对于相同的布图设计也取 得布图设计权，只要他人的布图设计是独立创作出来的，并且与前者同时创作或 同时登记，他仍然可以取得布图设计权。【2 l 】 确实，从专利权这种专有权的意义上来讲，布图设计权不是一种专有权。但 是就象哲学上所讲的世界上没有绝对的事物，绝对的真理，知识产权的独占性、 专有性也不是绝对的，它只能是专有性的程度有强有弱罢了。比如：著作权也并 非象专利权的捧他性那样强，它并不排斥他人独立创作类似或者雷同的作品，只 要该雷同或类似作品具有原创性，是作者独立创作而不是抄袭他人的东西，则同 样可以取得著作权。可是，并没有人否认作者享有对其作品的专有使用权。“专有” 把知识产权与公有领域分开，而且把它的受保护客体与可“自由流通”的有形商 品分开，这在国际上早已被公认 2 2 。知识产权属于私法，即决定了它的“专有性”， 未经权利人许可的使用，一般即构成侵权，只有在法定的例外场合，才会允许不 经许可而对知识产权的使用2 3 1 。从这个意义上来讲，布图设计权又是专有权，具 有专有性。实际上，作为兼有版权和专利权特点的布图设计权，其专有性类似于 版权中侵犯布图设计权的行为及法律救济。 布图设计权作为工业版权，除了具备知识产权所共有的特点外，还有自己独 特的个性( 主要是跟版权和工业产权相比较而言) 它主要表现在：第一，与版权 相比，布图设计权只有在履行一定的法定程序后才能产生。集成电路作为一种工 ”唐广良、吴汉东、董炳和、刘广三编：计算机法，北京：中国社会科学出版社1 9 9 3 年 版，第1 7 1 页。 口i 林刚主编：知识产权法学，北京：中国法制出版社1 9 9 9 年版，第4 2 9 页。 ”“郑成思著：知识产权法，北京：法律出版社1 9 9 7 年版，第1 9 页。 ”郑成思著：世界贸易组织与贸易有关的知识j “权，北京：中国人民人学：u 版社1 9 9 6 年 版，篇3 6 页。 业产品，一旦投放市场，将被应用于各个领域，性能优良的集成电路可能会因其 商业价值引来一些不法厂商的仿冒。另一方面，由于白图设计受到诸多因素的限 制，其人身权的性质远不如版权客体那样强。所以法律在规定布图设计权产生时， 必须对权利产生方式作出专门规定，否则，在确认布图设计在原创人和仿冒人， 以及不同的独立原创人之间的权利归属时可能会有困难。而版权的产生则不需履 行一定的法定程序，它是自然产生的。第二，与版权相比，布图设计权的复制权 受到更多的限制。版权中的复制权行使时受到合理使用、法定许可、强制许可、 强制收购等限制。而在集成电路技术的发展过程中，反向工程在技术发展中起着 非常重要的作用。如果照搬版权法的规定，实施反向工程将被认为是侵权行为。 为了集成电路的发展，就必须对复制权加以一定的限制，允许在一定条件下或合 理范围内实施反向工程【2 4 。第三，与工业产权相比，二者产生的实质条件不同。 一项发明创造要取得专利权，必须符合“三性”。而布图设计权的取得不需要有新 颖性和专利法所要求的那样高的创造性，只要求具有独创性和非常规性。 1 3 3 集成电路布图设计的权利内容 按照t r i p s 协议的要求规定了复制权和商业利用权两项布图设计专有权。我 国根据自己的实际情况，集成电路布图设计保护条例第7 条规定：“布图设计 权利人享有下列专有权：( 一) 对受保护的布图设计的全部或者其中任何具有独创 性的部分进行复制；( 二) 将受保护的布图设计、含有该布图设计的集成电路或者 含有该集成电路的物品投入商业利用。” ( 一) 复制权 谓“复制权”是指布图设计权人有权以光、电或任何其他方式复制或许可他 人复制其布图设计的全部或任何具有独创性的部分。除法律另有规定外，未经权 利人许可，任何第三人不得复制受保护的布图设计，无论是复制全部或者具有独 创性的局部。复制权是布图设计专有权人享有的最基本的、最为重要的一项权利， 因为权利人要想对布图设计进行进一步利用，获得更多的利益，就必须先复制布 图设计。同样复制也是侵犯布图设计专有权的必要手段，没有非法复制，也就不 可能有其他侵权行为的发生。而且，集成电路产业分工越来越细，集成电路设计 2 4 1 郭采著：知识产权法选沦，北京：人民交通 i j 版社2 0 0 1 年版，第1 5 0 页。 逐渐独立出来成为专门的一个行业。专门规定却图设计的复制权也是为了充分地 保护设计人的权益。复制权是从版权法巾的复制权衍化而来的，主要根源于布图 设计具有可复制性。但布图设计的复制却不同于著作权法意义上的复制。我国集 成电路布图设讨保护条例第2 条规定：“复制是重复制作布图设计或含有布图设 计的集成电路的行为。”集成电路布图设计的复制实际上是包括布图设计复制和含 有布图设计的集成电路复制。与著作权法中的复制权不同，布图设计反向工程而 复制的行为作为例外来