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文档简介
反射式偏光膜之基础专利分析与对策,反射式偏光膜,反射式偏光膜的概念最早源自宝丽莱(polaroidcorp.)在1969年由howardg.rogers提出以多层高分子来制作偏光反射膜,并应用此高分子式反射偏光膜于车灯之中,后来陶氏化学(dowchemicalcorp.)将其制程与材料开始深化专利与技术。后来3m开始将其光学技术转用于显示器,3m最早于1993年提出三篇专利的基础母案来布局反射式偏光膜(产品称dbef)领域,后续十几年不间断以美国特有之接续案延伸繁衍出百篇以上的相关专利,期间美国专利制度虽有修正,但仍有不少基础专利因申请时间甚早,故获得较长专利时限的保护。,3muspatentslist,5594830568697958255425828488583137560258976080467608806160881596101032612497162107856335999644909265157856543152654315366418836642977,application,process&material,apparatus,3438691548694956128205808794582554258255425825543586731658827745962114601841960963756111697611753061574906208466629692763076766335051,3mdbefrelatedpatents,超过106篇相关专利,66714526804058682907168948216924014693408269754557038745714790372096287245431732146474181887423708742370874241977557989,63686996459514658393065907076610356661342166249366635337673715470648977083847709446170944617256936729739377244347744987,50947885094793526999553893245872653596524759652476096375657402567833496808658682788669394996946188694921269916957088511739649376043817740470,63527616449093649868365695156574045664190067445616888677694618871412977150907734513774592047568204,3,dbefusbasicpatentslist,3m大陆专利列表,application,process&material,apparatus,3mdbefrelatedpatents,94194547.297192660.397192877.097192908.497192877.097192908.496196475.800813089.202808295.8200680019659.5200980114664.8200980111535.3200880120331.1,5,98807825.299803904.798807825.298813054.801817131.1,94194568.594194895.1,以申请号排列,3m于大陆市场的dbef专利的布局几乎同步于美国专利布局时间,大陆虽无如美国接续案的制度,但其在美国的主要基础专利仍有一定障碍,3m台湾专利列表,application,process&material,apparatus,3mdbefrelatedpatents,6,577832i278717i276538i230809,i257349,197489577832,3m在台湾专利申请多以后制程为主(包装雷射裁切等)等,且关最早的专利申请案都在2000年后才申请,这时几乎都已经无法保护基础重要专利的优先权了,3m基础美陆案专利家族比较,summary,summaryofusdbefpatents2012.10.2后可以在美国制作一般聚脂类多层膜产品2013.12.21后可以在美国使用dbef于显示器中2014.12.20后可以在美国制作含萘基聚脂
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