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文档简介
新编印制电路板故障排除手册之五 非机械钻孔部分 近年来随着微电子技术的飞速发展,大规模和超大规模集成电路的广泛应用,微组装技术的进步,使印制电路板的制造向着积层化、多功能化方向发展,使印制电路图形细微导线化、微孔化及窄间距化,加工中所采用的机械方式钻孔工艺技术已不能满足要求,而迅速发展起来的一种新型的微孔加工方式即激光钻孔技术。1、问题与解决方法(1)问题:开铜窗法的CO2激光钻孔位置与底靶标位置之间失准原因: 制作内层芯板焊盘与导线图形的底片,与涂树脂铜箔(RCC)增层后开窗口用的底片,由于两者都会因为湿度与温度的影响尺寸增大与缩小的潜在因素。 芯板制作导线焊盘图形时基材本身的尺寸的涨缩,以及高温压贴涂树脂铜箔(RCC)增层后,内外层基板材料又出现尺寸的涨缩因素存在所至。 d() :激光光束直径 图示:此种因板材尺寸涨缩而造成激光钻孔孔位的失准,可采用扩大光束直径方法去做某种程度的解决。图为其计算示意图。 d:开窗口直径/蚀刻的孔 A:基板开窗口位置误差 B:基板开窗口介质层直径 C::激光光束位置误差 经验值为光束直径孔径90100m 蚀刻所开铜窗口尺寸大小与位置也都会产生误差。 激光机本身的光点与台面位移之间的所造成的误差。 二阶盲孔对准度难度就更大,更易引起位置误差。 解决方法: 采取缩小排版尺寸,多数厂家制作多层板排版采取450600或525600(mm)。但对于加工导线宽度为0.10mm与盲孔孔径为0.15mm的手机板,最好采用排版尺寸为350450(mm)上限。 加大激光直径:目的就是增加对铜窗口被罩住的范围。其具体的做法采取光束直径孔直径90100m。能量密度不足时可多打一两枪加以解决。 采取开大铜窗口工艺方法:这时只是铜窗口尺寸变大而孔径却未改动,因此激光成孔的直径已不再完全由窗口位置来决定,使得孔位可直接根据芯板上的底垫靶标位置去烧孔。 由光化学成像与蚀刻开窗口改成YAG激光开窗法:就是采用YAG激光光点按芯板的基准孔首先开窗口,然后再用CO2激光就其窗位去烧出孔来,解决成像所造成的误差。 积层两次再制作二阶微盲孔法:当芯板两面各积层一层涂树脂铜箔(RCC)后,若还需再积层一次RCC与制作出二阶盲孔(即积二)者,其积二的盲孔的对位,就必须按照瞄准积一去成孔。而无法再利用芯板的原始靶标。也就是当积一成孔与成垫时,其板边也会制作出靶标。所以,积二的RCC压贴上后,即可通过X射线机对积一上的靶标而另钻出积二的四个机械基准孔,然后再成孔成线,采取此法可使积二尽量对准积一。 图示:采用显微镜放大200倍切片图以对角线的方式收入图面, 其目的就是将同一块积层板面上的二阶盲孔与一阶盲孔,同时呈现以方便对比。 (2)问题:孔型不正确原因: 涂树脂铜箔经压贴后介质层的厚度难免有差异,在相同钻孔的能量下,对介质层较薄的部分的底垫不但要承受较多的能量,也会反射较多的能量,因而将孔壁打成向外扩张的壶形。这将对积层多层板层间的电气互连品质产生较大的影响。解决方法: 严格控制涂树脂铜箔压贴时介质层厚度差异在510m之间。 改变激光的能量密度与脉冲数(枪数),可通过试验方法找出批量生产的工艺条件。 图示一:通常采用的RCC中的标准铜箔经半蚀与黑化后,用CO2激光直接钻孔之后的孔型。 图示二:采用背铜式UTC所压制成的RCC,经撕掉背铜、UTC黑氧化、与CO2激光直接钻孔后;再进行特殊强力喷蚀,其孔口薄铜经过上下喷蚀,发现铜窗稍微变大的情形,再经过除钻污即可将不良的壶孔变成所需要的锥孔,而使得微盲孔品质更隹。(3)问题:孔底胶渣与孔壁的碳渣的清除不良原因: 大排板上的微盲孔数量太多(平均约69万个孔),介质层厚度不同,采取同一能量的激光钻孔时,底垫上所残留下的胶渣的厚薄也就不相同。经除钻污处理就不可能确保全部残留物彻底干净,再加上检查手段比较差,一旦有缺陷时,常会造成后续镀铜层与底垫与孔壁的结合力。解决方法: 严格控制RCC压贴后其介质厚度差异在510m之间。 采用工艺试验方法找出最隹的除钻污工艺条件。 经除胶渣与干燥后,采用立体显微镜全面进行检查。 (4)问题:关于其它CO2激光与铜窗的成孔问题原因解决方法(1)孔壁侧蚀:主要原因是由于第一枪后,其它两枪能量过高,造成底铜反射而损伤孔壁(1)采用工艺试验方法找出每个脉冲的正确宽度与准确的脉冲数(即脉冲宽度单位S)(2)铜窗分层:激光光束能量过高造成与RCC铜层轻微分离(2)用工艺试验方法找出最合适工艺条件。(3)孔形状不正:是由于单模光束的能量的主峰落点不准确(3)A缩短每个脉冲的时间(s);B选择最隹的脉冲数目;C改单模方式光束为多模方式光束。(4)孔壁玻璃纤维突出:这由于CO2激光对烧蚀玻纤作用不明显(4)A增加脉冲能量密度到20J/cm2左右;B改用RCC代替半固化片进行积层(5)底垫有残余胶渣或未烧尽的树脂层: A激光单一光束能量不稳 由于基板弯曲或起翘造成接收能量不均匀所至 C单模光束能量过于集中(5)A装置应加装输出能量监视器。B对基板进行检查与复压校正。C改为多模方式光束的机种。(6)底垫外缘与树脂间产生微裂: A光束能量过高被反射的光与反射热所击伤。B由于多模式光束的能量密度较大,其落点边缘能量向外扩张所造成(6)A应用工艺试验方法调整光束能量。B在激光机加装特殊的另件以去除 扩张能量。(7)底垫铜箔的表面受伤或铜箔背面自基材上剥离:A单一脉冲的时间过长造成铜箔温度太高,致使膨胀的剪应力超过附着力而剥离 B单模光束的峰值能量过高 C铜箔与基材间附着力不够或层压在玻璃布的织点处(7)A应用工艺试验方法找出每个脉冲最隹 脉冲宽度的准确s数。 B改用多模光束激光机。C改用半固化片胶含量与改善层压技术以减少流胶。图示:左为铜窗与底垫位置正确的盲孔
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