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最新材料工程硕士论文提纲 材料工程硕士论文提纲范文一 摘要4-5 Abstract5 1绪论9-17 1.1引言9 1.2黑化技术的发展及趋势9-15 1.2.1热碱发蓝9-10 1.2.2常温发黑10-12 1.2.3黑色磷化12-13 1.2.4Q工艺13 1.2.5真空离子镀黑色Ti-N膜技术13-14 1.2.6化学复合镀黑镍技术14 1.2.7急冷发黑处理14-15 1.3课题研究的目的、意义和研究内容15-17 1.3.1课题研究的目的和意义15 1.3.2课题研究内容15-17 2实验部分17-25 2.1实验材料和仪器17-18 2.1.1实验基材17 2.1.2实验试剂及仪器17-18 2.2实验方法18-19 2.2.1黑色磷化工艺流程18 2.2.2Q工艺流程18-19 2.2.3常温发黑工艺流程19 2.2.4急冷发黑工艺流程19 2.3各工序的基本作用19-21 2.3.1喷砂20 2.3.2表调20 2.3.3黑色磷化20 2.3.4皂化封闭20 2.3.5去油20-21 2.3.6酸洗21 2.3.7氮化21 2.3.8氧化21 2.3.9发黑21 2.3.10急冷发黑21 2.4磷化液分析及表面膜层性能测试21-25 2.4.1磷化液分析21-22 2.4.2外观检测22 2.4.3黑化膜耐蚀性测试22-23 2.4.4机械强度测试23 2.4.5HRC硬度检测23 2.4.6黑化膜层表面形貌观察23 2.4.7黑化膜XRD分析23-25 3黑色磷化工艺研究25-31 3.1表调工艺对黑化膜的影响25-27 3.1.1表调时间对黑化膜的影响25-26 3.1.2表调温度对黑化膜的影响26 3.1.3表调剂浓度对黑化膜的影响26-27 3.2磷化工艺对黑化膜的影响27-29 3.2.1游离酸及总酸的影响27 3.2.2磷化液浓度的影响27-28 3.2.3磷化温度的影响28-29 3.2.4磷化时间的影响29 3.3小结29-31 4Q处理工艺探索31-35 4.1氮化温度对黑化膜的影响31 4.2氧化温度对黑化膜的影响31-32 4.3氧化时间对黑化膜的影响32-33 4.4小结33-35 5其它发黑工艺研究35-45 5.1常温发黑工艺35-36 5.1.1发黑剂浓度对黑化膜的影响35 5.1.2发黑时间对黑化膜的影响35-36 5.2急冷发黑工艺36-37 5.2.1冷却液对黑化膜的影响36-37 5.3复合表面处理技术37-43 5.3.1常温发黑后黑色磷化与黑色磷化后常温发黑37-38 5.3.2预发黑黑色磷化复合工艺研究38-43 5.4小结43-45 6粉末注射件磷化发花试样与复合处理合格试样对比分析45-57 6.1XRD检测45-48 6.2表面形貌和成分48-55 6.3小结55-57 7结论57-59 参考文献59-61 致谢61-63 个人简历、在学期间发表的学术论文及取得的研究成果63 材料工程硕士论文提纲范文二 摘要4-5 ABSTRACT5-6 目录7-10 第一章绪论10-24 1.1引言10 1.2纳米材料的定义及维度分类10-11 1.3纳米晶的基本性质11-12 1.4II-VI族镉基半导体简介12-16 1.4.1II-VI族半导体简介12-13 1.4.2镉基半导体介绍13-16 1.5II-VI族半导体纳米晶的光电应用16-22 1.5.1II-VI族半导体纳米晶的太阳能电池应用16-20 1.5.2II-VI族半导体纳米晶的光探测器应用20-22 1.6本论文的研究思路和创新之处22-24 第二章实验原料与实验装置24-34 2.1实验原料24-25 2.2实验装置25-27 2.2.1超声波清洗器(SK2200LH)25 2.2.2电子天平25 2.2.3真空干燥箱25-26 2.2.4拉膜机26 2.2.5马弗炉26 2.2.6真空管式炉26 2.2.7移液枪26-27 2.2.8Keithley2611数字源表27 2.2.9离心机27 2.3表征手段27-29 2.3.1表面形貌表征(SEM)27 2.3.2成分分析(EDS)27 2.3.3结晶相分析(XRD)27-28 2.3.4微观结构分析(TEM)28 2.3.5紫外-可见分光光度计(UV-1901)28 2.3.6电池/光响应性能测试系统28-29 2.4实验方法29-34 2.4.1FTO的清洗29 2.4.2水热法制备CdS量子点29 2.4.3水热法制备PS微球29-30 2.4.4真空自组装法制备多孔密堆CdS量子点结构30 2.4.5水热法制备ZnO纳米线30-31 2.4.6电沉积法制备CdS纳米晶31-32 2.4.7电沉积法制备CdSe纳米晶32 2.4.8CVD法生长Cd纳米片阵列32 2.4.9气相转化法制备CdTe纳米片阵列32-34 第三章高导电性三维多孔结构CdS量子点太阳能电池34-47 3.1引言34-35 3.2实验过程35 3.3结果及讨论35-46 3.3.1三维多孔密堆CdS阳极的制备35-36 3.3.2电沉积后处理CdS骨架改善阳极导电性36-44 3.3.3电沉积后处理CdSe提升光电转换性能44-46 3.4本章小结46-47 第四章CdTe纳米片层阵列的气相模板法制备及光响应性能47-60 4.1引言47-48 4.2实验过程48 4.3结果及讨论48-58 4.3.1镉纳米片阵列的CVD法制备及表征48-49 4.3.2碲化镉纳米片阵列的模板法制备及表征49-51 4.3.3不同处理工艺对产物形貌、物相的影响比较51-54 4.3.4普通升温(NH)与快速升温(PIH)作用区别的比较54-55 4.3.5CdTe纳米结构的光电性能比较55-58 4.4本章小结58-60 第五章电沉积参数对CdSe敏化太阳能电池光电转换效率的影响60-74 5.1引言60-61 5.2实验过程61 5.3结果及讨论61-72 5.3.1ZnONWs/CdS/CdSe三元电池结构的制备及表征61-65 5.3.2电沉积CdS时间的优化65-66 5.3.3电沉积制备CdSe敏化层薄膜工艺参数的优化66-72 5.4本章小结72-74 第六章全文总结74-75 参考文献75-82 发表论文和参加科研情况说明82-83 致谢83-84 材料工程硕士论文提纲范文三 摘要4-5 ABSTRACT5 第一章绪论8-20 1.1热喷涂技术的分类及特点8-9 1.2超音速火焰喷涂技术(HVOF)的工作原理和发展历程9-13 1.2.1超音速火焰喷涂技术的工作原理9-10 1.2.2超音速火焰喷涂技术的发展历程和现状10-13 1.2.3HVOF喷涂的应用和前景13 1.3WC-Co金属陶瓷涂层13-18 1.3.1WC的性质13-14 1.3.2Co的性质14-15 1.3.3用于热喷涂的WC-Co金属陶瓷粉末制备方法15-16 1.3.4WC-Co涂层的应用16-17 1.3.5HVOF喷涂WC-12Co的研究现状17-18 1.4本课题的背景、意义及主要研究内容18-20 第二章WC-12Co涂层磨损机理的研究20-31 2.1实验部分20-24 2.1.1实验材料与涂层的制备20-22 2.1.2涂层孔隙率的测试22-23 2.1.3涂层显微硬度测试23 2.1.4摩擦实验与显微分析23-24 2.2结果与讨论24-30 2.2.1涂层组织结构24-25 2.2.2涂层的物相分析25-26 2.2.3涂层的摩擦磨损性能26-28 2.2.4摩擦机理讨论28-30 2.3小结30-31 第三章Al元素机械合金化的WC-12Co粉末和涂层的制备31-41 3.1机械合金化与球磨32-39 3.1.1机械合金化的发展概况32-33 3.1.2机械合金化球磨装置及其磨碎机理33-35 3.1.3行星球磨机的公转速度、填充系数和球料比对球磨的影响35 3.1.4WC-12Co粉末和Al粉末的球磨机理35-37 3.1.5WC-12Co-3Al喷涂粉末的制备37-39 3.2WC-12Co-3Al涂层的制备39-40 3.2.1喷涂前的预处理39 3.2.2WC-12Co-3Al涂层的制备39-40 3.3结论40-41 第四章WC-12Co-3Al涂层的性能研究41-52 4.1WC-12Co-3Al粉末的分析41-43 4.2WC-12Co-3Al