第一章 头 部.doc

第一章 头 部第一节 概述一、境界与分区头部head以下颌骨下缘、下颌角、乳突尖端、上项线和枕外隆突的连线与颈部分界。以经眶上缘、颧弓上缘、外耳门上缘和乳突根部的连线为界，将头部分为后上方的颅部和前下方的面部。二、骨性标志1. 眉弓superciliary arch 为眶上缘上方的弓形隆起，男性显著。眉弓恰对大脑额叶下缘，其内侧半深部有额窦。2. 额结节frontal tuber 为眉弓上方约5cm处的最突出部，其深面正对额中回。3. 顶结节parietal tuber 为耳廓尖上方5cm 处的顶骨外面最突出处，其下方2cm处的深部对应大脑外侧沟后升支的末端。4. 颧弓zygomatic arch 位于耳屏至眶下缘的连线上，全长可触及。颧弓上缘相当于大脑颞叶前端的下缘。5. 翼点pterion 位于颧弓中点上方约两横指处，额、顶、颞、蝶四骨在此处呈“H形”交接。此处是颅骨的薄弱区，内面对应脑膜中动脉前支，骨折损伤该动脉时易形成硬膜外血肿。6. 乳突mastoid process 位于耳廓后方，为颞骨后下方的突起。乳突根部前内侧有茎乳孔，其后部内面有乙状窦。7. 枕外隆突external occipital protuberance 位于头后方正中处，其内面对应窦汇。枕外隆突向前至鼻额点连线的深面为大脑镰和上矢状窦所在。8. 上项线superior nuchal line 位于枕外隆突两侧，其内面平对横窦。三、头部断层解剖学常用基线（一）横断层常用基线由于不同的应用目的而存在不同的横断层基线。由于基线不同，按照不同基线所获得的同一高度的横断层标本或扫描图像上的层面结构可互不相同，有时差别显著。另外须强调的是所有横断层标本和影像图像均为其下面观，初学者应特别注意，以免出现左、右侧别颠倒。1. 眦耳线(canthomeatal line， CML)或眶耳线(orbitomeatal line， OML) 为外眦与外耳门中点的连线。颅脑横断层扫描多以此线为基线，但实际应用中常依不同的检查目的使扫描平面与CML向上或向下成020角。2. Reid基线(Reids base line， RBL) 为眶下缘至外耳门中点的连线，有时又称为人类学基线。头部横断层标本的制作常以此线为准，冠状断层标本的制作也常以该线的垂线为基线。RBL与CML向尾侧成角16.742.52。3. Frankfort平面（Frankfort horizontal plane，FHP） 为眶下缘和左、右外耳门上缘组成的平面，接近于Reid基线平面。活体时相当于人直立、臀部和背部靠墙、两眼向前平视时的颅骨位置。此平面常用于颅骨和头面部测量，为国际人类学家所采用的统一标准平面，故又称为人类学平面。4. 上眶耳线(supraorbitomeatal line， SML) 为眶上缘中点至外耳门中点的连线。经该线的平面与颅底平面一致，有利于显示颅后窝的结构及减少颅骨伪影。SML与RBL的夹角为26.124.56。5. 连合间线(intercommissural line) 为前连合(anterior commissure， AC)后缘中点至后连合(posterior commissure， PC)前缘中点的连线，又称AC-PC线。脑立体定向手术和X-刀、-刀治疗多以此线为准，故脑立体定位断层解剖研究多以此线为基线。（二）冠状断层基线经外耳门中点向眦耳线所做的垂线即为冠状断层基线。头部冠状扫描多以与眦耳线垂直的两侧外耳门中点连线层面为基线层面，分别向前、后按一定的层厚进行，取其前面进行观察。但脑立体定位术和脑的冠状断层解剖学研究多采用经AC-PC连线中点所做的垂线为冠状断层基线。（三）矢状断层基线颅的正中矢状线即为矢状断层基线。头部矢状断层标本制作和矢状扫描是以正中矢状断面为基线层面，分别向左、右以一定的层厚进行断层标本锯切或图像扫描，取其左侧面进行观察。第二节 大脑沟、回应用解剖学端脑telencephalon，又称大脑cerebrum，是脑的最发达部分，主要包括左、右大脑半球，两半球之间由大脑纵裂分隔。大脑纵裂底部有连结两侧半球的横行纤维构成胼胝体corpus callosum。大脑半球和小脑之间有大脑横裂。其上面观为后部较宽大的卵圆形，最大横径在两侧顶结节之间。半球表层为一层灰质，称大脑皮质cerebral cortex。皮质深面的白质称为髓质。在端脑底部的白质中包藏着一些神经核团，称基底核basal nuclei。大脑半球内部的空腔为侧脑室lateral ventricle。一、大脑半球的主要沟裂和分叶大脑半球表面凸凹不平，布满深浅不同的沟，沟与沟之间隆起的部分是脑回。每个半球可分为背外侧面，宽广而隆凸与颅盖穹隆状弯曲相一致；内侧面呈矢状位，平坦而垂直，借大脑纵裂和前后走行的大脑镰与对侧半球分隔；底面不规则，前部为额叶的眶部，位于颅前窝额骨眶板与筛骨筛板的上方，中部为颞叶，与颅中窝一致，后部为枕叶，在小脑幕上方，小脑幕近水平位插于枕叶和小脑之间。背外侧面和内侧面以半球的上缘(上内侧缘)为界，背外侧面和下面则以半球的下缘(下外侧缘)为界。大脑半球以3条脑沟为标记，分为5个脑叶。这3条沟是：中央沟是大脑半球最明显的沟之一，起自半球上缘中点稍后方，向前下于半球背外侧面斜行约810cm，止于外侧沟的稍上方，与大脑半球上缘形成约72的夹角。外侧沟是大脑半球最深、最明显的沟，起自半球下面的前穿质，在额叶眶面和颞极之间转向上外侧面，位于大脑半球外侧面中部，由前下方行向后上方约7 cm，向上止于顶叶，与蝶骨小翼后缘的方向基本一致。顶枕沟位于半球内侧面的后部，从前下方行向后上方，并绕半球上缘转向上外侧面。中央沟前方、外侧沟上方的部分是额叶frontal lobe，即从额极（额叶的前端）至中央沟之间的部分；中央沟后方和外侧沟上方的部分为顶叶parietal lobe；外侧沟下方的部分为颞叶temporal lobe，颞叶的前端为颞极；顶枕沟以后较小的部分为枕叶occipital lobe，枕叶的后端为枕极。通常又以自顶枕沟至枕前切迹(自枕极向前约4cm处)的连线作为枕叶的前界，自此线的中点到外侧沟后端的连线，是顶、颞二叶的分界。岛叶insula位于外侧沟的深面，呈三角形，表面有几个长短不等的脑回，其前下角的尖为岛阈，岛叶与额、顶、颞叶的分界是岛环状沟，额、顶、颞叶掩盖岛叶的部分称为岛盖。大脑分叶是人为的，这种区分纯属是为了叙述方便，每叶的范围并不完全与同名的颅骨范围相一致。脑回和脑沟的位置和排列基本上是恒定的，但其范围和微细结构却存在差异，这种差异不仅存在于不同个体，也存在于同一脑的两侧半球之间。二、大脑半球背外侧面的沟和回 1. 额叶的上界为上内侧缘，下界为外侧沟，后界为中央沟。在额叶上有与中央沟平行的中央前沟，二者之间的部分称中央前回precentral gyrus。其上端与内侧面的中央旁小叶前部相连，其皮质是许多粗大的皮质核束和皮质脊髓束的起点。自中央前沟水平向前走出两条沟，额上沟自中央前沟的中点弯向前方，额下沟位置较低，与其平行，额上沟以上的部分为额上回superior frontal gyrus，此回较宽大，包括大脑半球内侧面扣带沟以上的一部分，额上、下沟之间的部分为额中回middle frontal gyrus，通常还有一条不完整的沟分隔额中回，额下沟和外侧沟之间的部分为额下回inferior frontal gyrus，形成大脑外侧沟的上壁。额下回被外侧沟前支和升支自前向后分为眶部、三角部和岛部，后两部合称Broca区。2. 顶叶的前界为中央沟，后界为顶枕沟至枕前切迹的连线，下界的一部分由外侧沟后段构成。顶叶上有与中央沟平行的中央后沟，二者之间的部分称中央后回postcentral gyrus。其上端与内侧面的中央旁小叶后部相连。在中央后沟中点后方有一与半球上缘几乎平行的、向后下横过顶叶的顶内沟intraparietal sulcus，呈间断地自前向后走行。此沟将顶叶分为上、下二部，上部称顶上小叶superior parietal lobule，下部称顶下小叶inferior parietal lobule。顶上小叶位于上内侧缘与顶内沟之间，顶下小叶位居顶内沟下方，中央后沟下部后方，顶下小叶由前向后分为3部分，前部为缘上回supramarginal gyrus，弓形围绕外侧沟的末端，向前与中央后回下部相连；中部为角回angular gyrus，呈弓状跨过颞上沟末端，向后下与颞中回相连；后部形成颞枕弓（顶后回），弧形跨过颞下沟末端进入枕叶的上部。3. 颞叶位于外侧沟下方，后界为顶枕沟至枕前切迹的连线，主要的沟、回大多前后纵向走行，颞上沟自颞极开始，斜向后上与外侧沟大致平行，止于顶叶，二者之间的部分称颞上回suoerior temporal gyrus。自颞上回转入外侧沟下壁，有2个短而横行的脑回，称为颞横回transverse temporal gyri(图14)。颞下沟与颞上沟大致平行，二者之间的部分称颞中回middle temporal gyrus。颞下沟以下的部分称颞下回inferior temporal gyrus。4. 枕叶位于顶枕沟至枕前切迹连线的后方，枕叶上外侧面以枕横沟和枕外侧沟为界分为枕上、中、下回。5. 岛叶深居外侧沟底，外侧沟在岛叶表面扩展形成外侧窝。岛叶大致呈三角形，几乎完全被岛环状沟所围绕，周围皮质区形成岛盖覆盖在岛叶的表面，其深部为屏状核和壳。三、大脑半球内侧面的沟和回大脑半球内侧面最显著的特点是：粗大的连合纤维胼胝体，它是位于大脑纵裂中部底面的宽大弓状纤维板，其前部弯曲称为膝，后部圆隆称为压部，膝向下延续为狭窄的嘴，与终板的上端相连，膝与压部之间为干，是胼胝体的主要部分。在嘴、膝、干的凹侧与带状弯曲的穹窿之间是透明隔。左右两隔之间有透明隔间腔（第五脑室）。额、顶、颞、枕叶均延伸至半球的内侧面。内侧面的重要沟回有：扣带沟cingulate sulcus起于胼胝体嘴的下方，先向前，再向上向后与胼胝体的弯曲一致，其末端止于上缘中点后方4cm处。中央沟延展到半球内侧面。扣带沟以上的部分以中央沟上端延线为界，前方属于额叶，后方属于顶叶。扣带沟在中央沟的前后方分别向上和上后方发出中央旁沟和扣带沟缘支，二者之间为中央旁小叶，是中央前、后回上端延伸到半球内侧面的部分。扣带沟发出緣支以后直至胼胝体压部后方的部分称顶下沟，构成楔前叶的下界。胼胝体沟环形于胼胝体的背面，它绕过胼胝体压部的后面向前下移行为海马沟。扣带沟与胼胝体沟之间的脑回称扣带回。扣带回向后下延伸，位于距状沟前部前方的狭窄部分称为扣带回峡。内侧面后区有两条沟：顶枕沟起自枕极前方5cm处的上缘，斜向前下与距状沟中部相交；顶枕沟与扣带沟缘支之间的部分属于顶叶的楔前叶。距状沟起自枕极附近，向前呈微向上凸的弧形，在胼胝体压部的后方以锐角与顶枕沟相交并继续前行，以交点为界分为前后两部，前部推顶脑回突入侧脑室后角内侧壁形成一隆起称为禽距，若横断面上辨认距状沟困难时，可以禽距为标志。距状沟后部把枕叶内侧面分为上方的楔叶（距状沟后部与顶枕沟之间）和下方的舌回（后部属于枕叶，向前延续为颞叶的海马旁回）。距状沟的下方，自枕叶向前伸向颞叶的沟，称侧副沟。侧副沟前部上方的脑回，称海马旁回，其前端向后弯曲的部分称钩。四、大脑半球底面的沟和回在半球底面被外侧沟分为两部。前部较小，属于额叶眶面，其内侧部可见前后走向的嗅束沟，沟内有纵行的嗅束，其前端膨大称嗅球，后部扩大称嗅三角（嗅结节、内外侧嗅纹），嗅三角与视束之间为前穿质。嗅束沟的内侧为直回，外侧称眶回，被H形的沟分为前、后和内、外侧眶回。后部较大，属于颞叶和枕叶，可见起自枕极与距状沟平行向前走行的至颞叶的侧副沟；侧副沟的外侧颞叶内可见与之平行的枕颞沟。侧副沟内侧，枕叶内为舌回、颞叶内有海马旁回，海马旁回内侧为海马沟，海马沟的外侧有齿状回，齿状回的外侧，于侧脑室下角底壁上有一呈弓状的隆起称海马。侧副沟与枕颞沟之间为枕颞内侧回；枕颞沟外侧为枕颞外侧回。第三节 颅脑连续横断层解剖初学者应特别注意，所有横断层标本和影像扫描图像均为其下面观，以免出现左、右侧别颠倒。一、矢状缝层面（断层一）此断层为Reid基线上方第16断层。关键结构：顶骨，矢状缝。断面上，颅骨矢状缝明显，两侧为顶骨。头皮由皮肤、浅筋膜和帽状腱膜紧密连接而成，围绕于顶骨周围。浅筋膜内有数条浅静脉。二、上矢状窦和大脑上静脉层面（断层二） 此断层为Reid基线上方第15断层，关键结构：上矢状窦，大脑上静脉。上矢状窦位于中线两端，前细后粗，其两侧出现大脑实质和数条大脑上静脉的断面。中央沟被切及，其前方为中央前回、中央前沟和额上回；后方为中央后回、中央后沟和顶上小叶。大脑上静脉收集大脑半球上外侧面和内侧面上部（胼胝体以上）的静脉血，约710条，位于硬膜下隙的部分称桥段，与硬脑膜相贴的部分称贴段，在神经外科手术时极易受损出血，故有危险带之称。三、中央旁小叶层面（断层三）此断层为Reid基线上方第14断层。关键结构：额内侧回，中央旁小叶，楔前叶。颅腔内可见左、右大脑半球，两大脑半球间为大脑纵裂，内有大脑镰。在大脑镰前、后两端，可见三角形的上矢状窦。其外侧面由前向后表现为额上回、中央前沟、中央前回、中央沟、中央后回和顶上小叶。内侧面由前向后可见额内侧回、中央旁沟、中央旁小叶、扣带沟缘支和楔前叶。上矢状窦血栓形成时，造影剂增强检查，此三角区的中心出现不强化区，称之为空三角征（empty delta sign）四、经中央沟上部层面 此断层为Reid基线上方第13断层，经额骨和顶骨。关键结构：中央沟，额叶，顶叶。此断面主要为顶骨和大脑半球上部层面，仅出现额叶与顶叶，枕叶尚未出现。额叶与顶叶之间的界线为中央沟，故在断面上辨别中央沟对确认脑叶、脑沟和脑回具有重要意义。在横断面上根据以下六点可准确地辨别中央沟：中央沟大部分(87) 为一不被中断的沟；中央沟较深，均自脑断面外缘约中份处向后内延伸，弯曲走行，在其前方和后方可见中央前沟、中央后沟与之伴行；般中央前回厚于中央后回，中央前回处皮质厚度为4.5mm左右；先通过位于大脑半球内侧面的扣带沟缘支辨认出中央旁小叶，再进一步辨认中央沟；中央沟在大脑半球外侧面走行约810cm ；大脑白质的髓型有助于辨认中央沟。在CT图像上，正常脑沟宽度不超过5mm。五、经中央旁小叶下部层面 此断层为Reid基线上方第11断层，经额骨、顶骨和中央旁小叶。 关键结构：中央前回，中央后回，中央旁小叶。此断面通过扣带沟上方的中央旁小叶，大脑半球内侧面靠近中份是扣带沟缘支，靠近前份的是中央旁沟，两者之间是中央旁小叶，其前后分别是额内侧回与楔前叶、楔叶。中央沟从脑断面外缘中段伸向后内，中央前、后沟较短与之伴行。根据大脑白质的髓型，中央沟的前方依次可见额上回、额中回和中央前回；中央沟的后方依次有中央后回、顶下小叶和顶上小叶。大脑镰位置居中，位于左右半球之间，其前后方可见上矢状窦的断面。六、经扣带回上部层面此断层为Reid基线上方第10断层，经扣带沟、扣带回和顶枕沟。 关键结构：扣带回，额叶，顶叶，枕叶。大脑半球内侧面的中部是扣带回，其前方为额内侧回，后方为楔前叶和楔叶。依据大脑白质的髓型，此断面上大脑半球外侧面由前至后依次为额上回、额中回、额下回、宽厚的中央前回、略窄细的中央后回、顶下小叶和顶上小叶。枕叶出现，其与顶叶的分界为顶枕沟。大脑镰位置居中，位于左右半球之间呈矢状位，其前后方可见上矢状窦的断面。七、经半卵圆中心层面 此断层为Reid基线上方第9断层，经胼胝体上方及扣带回下部。 关键结构：半卵圆中心，大脑镰。此断面经胼胝体上方，大脑镰呈线状贯穿中线，位居左右半球之间，大脑镰位的前、后方可见上矢状窦的断面。中线两侧是一个非常广泛的髓质区，为左右大脑半球髓质形成的半卵圆中心centrum semiovale所占据，大脑半球皮质和髓质分界明显。此处大脑半球的髓质成自三种纤维：投射纤维，连接大脑皮质和皮质下诸结构，呈扇形放射，称辐射冠；联络纤维，连接一侧半球各皮质区，人脑的联络纤维极为发达，与投射纤维和连合纤维相比其数量最大；连合纤维，连接左、右大脑半球的相应皮质区。半卵圆中心的纤维主要为有髓纤维，故在MRI Tl加权图像上呈高信号，在CT图像上为低密度。脑内的脱髓鞘病变如多发性硬化、肾上腺脑白质营养不良以及脑结节硬化症等，常于该区出现单发或多发病灶。大脑白质的髓型更加易于辨认，脑叶、脑沟、脑回的情况大致如下：大脑半球内侧面由前向后为额内侧回、扣带沟、扣带回、顶下沟、楔前叶、顶枕沟和楔叶。大脑半球外侧面由前向后依次为额上回、额中回、额下回、中央前回、中央后回、缘上回、角回和枕叶。八、经侧脑室上部层面 此断层为Reid基线上方第8断层，经侧脑室上部和胼胝体干。 关键结构：胼胝体干，侧脑室，尾状核。侧脑室位于断面中部中线的两侧呈“八”字形，分为前角、中央部和后角，可见其内侧的胼胝体和外侧的尾状核。尾状核紧贴侧脑室外侧壁，呈前大后小两个断面。胼胝体位居中线，在侧脑室之间，呈“工”字形，“工”字形的两横伸入半球髓质内形成额钳和枕钳，侧脑室前角之间的部分为胼胝体膝，后角之间的部分为胼胝体压部。大脑半球内侧面被胼胝体分成前、后两部，前部由前至后为额内侧回和扣带回，后部由前至后为扣带回、楔叶和舌回。大脑半球外侧面的脑回由前至后依次为：额上回、额中回、额下回、中央前回、中央后回、缘上回、角回和枕外侧回。九、经第三脑室上部层面此断层为Reid基线上方第7断层，经室间孔。 关键结构：基底核，内囊，侧脑室，第三脑室。侧脑室前角前部呈倒“八”字形的缝隙向前外伸展，后部宽大位于透明隔的两侧，并经室间孔与第三脑室相连，透明隔的后方与穹隆柱相连。第三脑室呈纵向走行的裂隙状，后方为胼胝体压部。侧脑室前角的外侧壁为尾状核头，两侧前角之间为胼胝体膝。背侧丘脑呈团块状，位于第三脑室的两侧，前端为丘脑前结节，后端为丘脑枕。尾状核和背侧丘脑的外侧是“”形的内囊，在CT图像上基底核和内囊清晰可辨。内囊外侧为豆状核壳的断面，壳的外侧为屏状核和岛叶，岛叶外侧的深沟为外侧沟，其内有大脑中动脉走行。后部的小脑幕呈“V”字形，小脑幕与后方的大脑镰连接呈“高脚杯”状，杯内结构是小脑蚓。大脑半球内侧面前部可见额内侧回和扣带回，大脑半球内侧面后部可见扣带回和舌回。大脑半球外侧面的脑回由前至后依次为：额上回、额中回、额下回、中央前回、中央后回、缘上回、角回和枕外侧回。距状沟和视辐射出现是此断层的重要特点。在横断面上辨认距状沟较为困难，禽距位于脑室后角内侧壁的腹侧，是由距状沟前部的皮质陷入侧脑室后角内而形成的隆起性结构，易于辨认，是识别距状沟的标志。临床影像学检查脑萎缩时，其影像学表现可见脑沟加深，脑裂变宽，蛛网膜下腔明显增宽，脑室系统多呈对称性扩大等改变。十、经松果体层面 此断层为Reid基线上方第6断层，经内囊、丘脑间粘合和上丘。 关键结构：基底核，内囊，松果体。尾状核头位于侧脑室前角的外侧，近似倒“八”字形，背侧丘脑为较大的灰质核团，居第三脑室两侧，其外侧有豆状核，呈三角形，两个白质板分隔其间，外侧大部称为壳，内侧两部合称苍白球，壳的外侧可见条纹状前后走行的屏状核，两者之间隔以外囊，屏状核的外侧是岛叶，两者之间隔以最外囊。尾状核、背侧丘脑与豆状核之间为内囊，可见内囊前肢，位于尾状核头与豆状核之间，内囊膝位于豆状核内侧角的尖端，内囊后肢位于背侧丘脑和豆状核之间。第三脑室居两侧背侧丘脑之间，其后方为缰三角、缰连合、松果体和大脑大静脉池。脑叶、脑沟与脑回大致同上一断层，在颞叶，可见皱叠的海马皮质被海马旁回所掩盖。十一、经前连合层面 此断层为reid基线上方第5断层，经前连合和上丘。 关键结构：前连合，中脑，小脑。大脑断面前移，大脑外侧沟分隔前方额叶及后方的颞叶，前方的额叶位于大脑纵裂的两边，颞叶位于断层左右两侧，小脑断面在其后方出现。中脑位居断面中央，其后部左右稍隆起者为上丘，中脑水管形似针孔样位于顶盖的前方，黑质颜色较深位于前外，红核位于其后内。前连合位于大脑纵裂和第三脑室之间，前连合左右对称，中部纤维聚集成束，两端分别向前、后放散，整体上呈“H”字型。在MRI图像上，前连合是重要的标志性结构。侧脑室前角外侧可见尾状核，尾状核和壳部分相连，其外侧可见屏状核和岛叶。侧脑室下角位于颞叶内，略成弧形裂隙，前壁可见尾状核尾，后壁为海马。小脑断面增大形似扇形，中间为小脑蚓两侧为小脑半球，小脑幕呈“八”字形位于颞叶和小脑之间，前方邻近海马旁回、枕颞内侧回和枕颞外侧回。十二、经鞍上池层面 此断层为Reid基线上方第4断层，经乳头体。关键结构：乳头体，中脑，小脑。鞍上池位于断面中部，因切制基线的不同可呈四角、五角或六角星形。六角星形鞍上池的前角连于纵裂池，两个前外侧角连于侧裂池，两个后外侧角延续为环池，其后角位于后缘中央，为脚间池。鞍上池内有时可见基底动脉、颈内动脉、大脑前、中、后动脉的断面。大脑前动脉位于鞍上池前缘，由此向纵裂池延伸；鞍上池前外侧角内有时可见颈内动脉的圆形断面，双侧大脑中动脉的水平段呈条纹状横行走入外侧裂池内；鞍上池后缘可见基底动脉的圆形断面，由此向两侧发出左右大脑后动脉沿鞍上池后缘伸入环池；在此基础上加上前后交通动脉围成“大脑动脉环”，此环镶嵌在鞍上池的周边。乳头体为一对近似圆形结构，位于中脑前方，靠近脚间窝。鞍上池前方为左右半球额叶的断面，两侧为颞叶的断面，两者之间隔以外侧裂；鞍上池后方为中脑，小脑幕分隔颞叶和小脑，在其后外侧与横窦相连。十三、经视交叉层面 此断层为Reid基线上方第3断层，经视交叉和漏斗。 关键结构：视交叉，漏斗，第四脑室。此断层中部可见鞍上池呈五角星状，由大脑纵裂池、外侧窝池、交叉池和桥池组成。池内可见视交叉、漏斗、大脑中动脉、基底动脉、后交通动脉和动眼神经，紧贴视交叉的两侧为颈内动脉的圆形断面。视交叉前方额叶的断面进一步缩小，可见内侧的直回和外侧的眶回；鞍上池两侧可见颞叶的断面，与额叶之间共同隔以蝶骨小翼和外侧沟；鞍上池的后方为脑桥，脑桥后方为小脑，二者之间连以粗大的神经纤维束即脑桥后部发出左右小脑上脚伸入扇形的小脑内为小脑中