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文档简介

镀工艺顺序为：抽真空至 6.710-3Pa，通入 Ar 气，当炉内压强为 2.0Pa 时基体加载负偏压-800V，进行 Ar 气溅射清洗试件表面 10min。清洗后再次抽真空至 6.710-3Pa，打开钛靶对试样进行轰击。钛靶轰击不但有清洗活化试件表面的作用， 还可以加热试件， 并在试件表面形成一层纳米级的纯钛过渡层， 进一步提高基体和膜层之间的结合强度。 镀膜参数为：N2分压 0.8Pa，基体加载的负偏压 0-500V，钛靶电流为 60A，铝靶电流为 60A，交替沉积 TiN 和 TiAlN 膜层2.4.1 辉光清洗原理及作用尽管待镀工件的表面进行了严格的化学清洗处理，但化学清洗很难彻底消除工件表面的含油层，且经过化学清洗之后的工件表面还会留下很薄的残留物质，加上真空室内也绝非清洁，在真空离子放电过程中这些污处会出现异常的放电现象产生污点。所以要获得高质量的镀膜还需要对工件进行辉光离子轰击清洗。放入真空室内的试样，在经抽至底真空后，充氩气到 510Pa，在工件上加负偏压500600V（23min）后升到 900V。使氩气在低压放电的情况下形成淡紫色等离子体辉光，同时在电场作用下，具有高能量的氩离子对工件进行轰击。辉光轰击清洗一般可以在炉内不产生放电现象时停止，它的主要作用是将工件表面吸附的气体，杂质原子以及工件表面层原子碰撞下来，即活化了金属表面以提高镀膜的结合力。另外，带有高能量的离子在轰击工件时，将能量传递给工件，使工件温度上升，起到了预轰击加热的作用。2.4.2 弧光清洗原理及作用辉光清洗结束后，氩气降至 2Pa 左右，在工件上加 900V 负偏压，点燃 Ti 靶，利用高能量金属离子对基体进行轰击。此时真空室内呈现蓝白色的光晕。其作用主要是40：1）进一步轰击溅射清洗活化基体表面；2）使基体表面粗化产生缺陷，提高膜/基结合力；3）使基体温度升高，可以不用另设外加热源；4）轰击离子可以在试样表面区产生非扩散型混合，形成共渗层，大大提高膜/基结合力。该过程是轰击清洗和轰击加热同时进行的。由于在清洗的过程中使基体表面产生了粗化，因此对于要求表面光洁度的装饰镀膜控制好轰击时间是很关键的，轰击偏压也要稍微小一些。同时轰击时间过长，会导致温升过快，基体加热不均匀，多弧离子镀设备一般都另配外加热源。对于高速钢工件来说，镀膜温度上限不得超过 560，否则将会
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