汤有纶浅谈电子特气发展趋势PPT课件.ppt

绿菱电子材料 天津 有限公司2012 10 28 浅谈电子特气发展趋势 2 28 2020 1 2020 2 28 前言 电子气体经过几十年的发展 已经成为一个重要的气体分支 它在发展电子信息产业起着至关重要的支撑作用 随着科学技术的不断发展 它不仅广泛的应用于IC LED PV TFT LCD 光纤等工艺制程中 它还广泛的应用于核电 航天 电力 医药 建材 国防等领域中 据不完全按统计 电子气体和金属有机化合物仅半导体制造业采用的各类气体和金属有机化合物共计150多种 约占半导体制造企业原材料采购成本的20 左右 可以预见我国电子特气的前途无量 本报告就有关电子特气的目前的发展趋势 谈谈我们的一些认识 意在为振兴我国电子信息产业和民族工业与同行携手开拓我国电子特气产业的发展 使我国电子特气不断的有所发现 有所创造 有所前进 2 2020 2 28 电子特气应用分类 按应用领域 TFT LCDICPVLED光纤锂电池 按工艺用途 晶硅制造外延参杂 离子注入刻蚀清洗MOCVDALD 3 电子特气总揽 氟化物系列1 2 28 2020 4 电子特气总揽 氟化物系列2 2 28 2020 5 电子特气总揽 氟化物系列3 2 28 2020 6 电子特气总揽 氟化物系列4 2 28 2020 7 电子特气总揽 硅烷系列 2 28 2020 8 电子特气纵览 B P As Ge Se等烷类化合物 2 28 2020 9 电子特气纵览 其它气体 2 28 2020 10 电子特气纵览 有机气体 2 28 2020 11 电子特气纵览 其它气体 2 28 2020 12 电子特气纵览 高纯气体 稀有气体 2 28 2020 13 电子特气纵览 MO源 2 28 2020 14 2020 2 28 应对45nm以下制程技术的材料创新 15 OrganicMetallicCompounds OtherPrecursors 2 28 2020 16 OrganicMetallicCompounds HafniumPrecursors 鉿系金属有机化合物 2 28 2020 17 Low kMaterials 2 28 2020 18 Low T SiN SiO Precursors 2 28 2020 19 2020 2 28 各气体公司围绕新制程技术电子特气研究动态 20 AP SpecialtyChemicalsUsedinElectronics ThinFilmDepositionNH3AntimonySbBis tertiary butylamino silane BTBAS Germanium Ge HafniumTetrachloride HfCl4 Lanthanide La Strontium Sr TantalumTetraethoxideDimethylaminoethoxide TAT DMAE Tellurium Te Tetrakis dimethylaminoTitanium TDMAT Tetrakis ethylmethylaminoZirconium TEMAZ Tetramethylcyclotetrasiloxane ZTOMCATS Tetramethylsilane Z4MS TiCL4 TitaniumTetrachloride Titanium Ti Trimethylsilane 3MS Yittrium Y 2 28 2020 21 Crystalline ThinFilmPVManufacturing Doping BoronTriBromide BBr3 Trans LC Trans1 2 Dichloroethylene Triethylarsenate TEASAT Triethylborate TEB Triethylphosphate TEPO Trimethlyborate TMB Trimethylphosphate TMPO Trimethylphosphite TMPI AP SpecialtyChemicalsUsedinElectronics 2 28 2020 22 Metallization PorousFilmThinFilmDeposition CupraSelect CuTMVS Pentakis dimethylaminoTantalum PDMAT Tetrakis dimethylaminoTitanium TDMAT ATRPDiethoxymethylsilane DEMS ILDPrecursor PDEMS ILDProcess AP SpecialtyChemicalsUsedinElectronics 2 28 2020 23 ShowaDenko SDK 昭和电工 HIGHPURITYSPECIALTYGASES HIGHPURITYSPECIALTYGASES 高纯度HFC 41高纯度FC 2316高纯度五乙氧基鉭高纯度一氧化二氮 2 28 2020 24 KantoDenkaKogyo KDK关东电化 2 28 2020 25 KantoDenkaKogyo KDK关东电化 2 28 2020 26 AirLiquide 法液空 动向 Gases ALOHA AdvancedPrecursors 2 28 2020 27 AirLiquide 法液空 相关产品 Gases Precursors High k 2 28 2020 28 AirLiquide 法液空 相关产品 Gases Precursors Low k 2 28 2020 29 Low T SiN SiO AirLiquide 法液空 相关产品 Gases Precursors 2 28 2020 30 Generation FOn SiteFluorineGenerators Meetingtheexactingspecificationsofthephotovoltaics displayandsemiconductorsectorswithovertenyearsofunrivalledexperienceinthesafeandreliablegenerationanddeliveryoffluorineFluorineisanactiveelementrequiredforalldrychambercleaningprocesses OurGeneration F on sitefluorinegeneratorsprovidethelowestcost per cleanforplasma enhancedorthermalCVDtooldry chambercleaning Fluorineistheidealreplacementforfluorine bearinggasessuchasNF3 ClF3 SF6andF2 N2mixtureswhereinactivecomponentscancompromisecleaningperformance Ultra purefluorinegasdeliveredfromGeneration Fsystemsoffersthehighestcleaningperformance productivitygainsrelativetoCVDtools andreducedenergyconsumptionandenvironmentalimpactthankstozeroGlobalWarmingPotential GWP Thisseriescomesinamodulardesigncapableofmeetingallflow concentrationandvolumerequirementsrangingfromonetonnetohundredsoftonneseachyearSowhetheryouoperateasingletooloralarge scalefab wehavethesolutionforyou BenefitsandhighlightsofGeneration Fon sitegeneratorsinclude Improvedproductivitythankstosafe reliablesupplyofhigh purityfluorineSustainablealternativetohigh GWPgasesnitrogentrifluoride NF3 andsulphurhexafluoride SF6 forCVDchambercleaningEliminationoflargevolume high pressurestoragefacilitiesLargeinstalledbase Currently morethan30Generation Fsystemsareinstalledworldwide Linde 林德 ElectronicSpecialGases 2 28 2020 31 CentraLGlass 中央硝子 相关产品 CleaningGasesforSemiconductorsandLiquidCrystalManufacturingEquipment 2 28 2020 32 CVDProcessGasesforSemiconductors CentraLGlass 中央硝子 相关产品 2 28 2020 33 CentraLGlass 中央硝子 相关产品 OtherFluorineProducts 2 28 2020 34 CentraLGlass 中央硝子 相关产品 OrganicMetallicCompounds Makingfulluseofthecylinderbusinessexperiencegainedthroughourworkwithfluorinegases CentralGlassisalsoworkingtodevelopnon fluorineproducts WesupplyHf Zr Ti Si TaandothercompoundsasprecursorsfortheMOCVD ALDtechnique andweexploitourproprietarypurificationandanalyticaltechnologiestothefulltoattainahighpurity Inparticular wehavedevelopedatechniqueforremovingZrfromHfcompoundswhichhasbeendifficulttodoasZrandHfareofthesamefamilyofelements 2 28 2020 35 CentraLGlass 中央硝子 相关产品 OrganicMetallicCompounds HafniumPrecursors 2 28 2020 36 CentraLGlass 中央硝子 相关产品 OrganicMetallicCompounds OtherPrecursors OtherPrecursors OtherPrecursors 2 28 2020 37 Protectivegascompositionformagnesium magnesiumalloyproduction 含氟有机化合物 1 1 1 3 3 五氟丙烷 HFC 245fa 1 3 3 3 四氟丙烯 OHFC 1234ze 1 1 2 2 四氟乙基醚 HFE 254pc 以及它们的混合物替代SF6 减少温室气体排放 CentraLGlass 中央硝子 相关产品 2 28 2020 38 2020 2 28 值得关注的气体动向 氟化物系列C4F6 C3F6 BrF3 ClF3 PF5 XeF2 COF2 B11F3 SiF4硅系列SiH4 Si2H6 Si2Cl6B P As Ge Se系列B2H6 TMB 三甲基硼 PH3 AsH3 GeH4 B11F3 H2Se其它气体NO COS C3H8 n C4H10 i C4H10 CO Cl2高K的金属有机化合物TMA TDEAA HTB TDEAH TEMAH TAETO Star Ti Yttrium TEMAZ ZyALD Hexane Octane Pyridine 39 2020 2 28 绿菱电子材料 天津 有限公司简介 40 2020 2 28 绿菱电子材料 天津 有限公司 1 41 绿菱电子天津工厂 2 28 2020 42 紧急集合点 一期用地 消防泵房 消防通道 消防通道 消防通道 消防通道 消防通道 正门 侧门 事故水池 消防水池 紧急集合点 易燃易爆车间 有毒有害车