高中化学 第二课时-二氧化硅与信息材料 苏教版必修1

用心 爱心 专心1 第三单元第三单元 第二课时第二课时 二氧化硅与信息材料二氧化硅与信息材料 本栏目内容 在学生用书中以活页形式分册装订 一 选择题一 选择题 1 2009 年黄山高一检测 光导纤维被认为是 20 世纪最伟大的发明之一 它使信息科 学迅猛发展 光导纤维的主要成分是 A CaCO3 B SiO2 C Na2SiO3 D CaSiO3 答案 B 2 地壳中含量位于第一 二位的元素之间形成的化合物不具有的性质是 A 常温下与苛性钠反应 B 常温下与水反应 C 常温下与氢氟酸反应 D 高温下与氧化钙反应 解析 地壳中含量位于第一 二位的分别是 O Si 元素 形成的化合物是 SiO2 答案 B 3 下列物品或设备 水泥路桥 门窗玻璃 水晶镜片 石英钟表 玛瑙手镯 硅太阳能电池 光导纤维 计算机芯片 所用材料为 SiO2或要用到 SiO2的是 A B 全部 C D 解析 用到的材料是 Si 而不是 SiO2 其余都用到 SiO2 答案 A 4 在室温下 下列物质不与晶体硅反应的是 A F2 B 氢氟酸 C KOH 溶液 D Cl2 解析 Si 的性质不活泼 常温下除与 F2 氢氟酸和强碱溶液反应外 不与其他物质 反应 加热时可与 O2 Cl2等反应 答案 D 5 下列说法不正确的是 A 硅是非金属元素 但它的单质是灰黑色有金属光泽的固体 用心 爱心 专心2 B 硅的导电性介于导体和绝缘体之间 是良好的半导体材料 C 硅的化学性质不活泼 常温下不与任何物质反应 D SiO2既与氢氟酸反应 又与氢氧化钠反应 但是 SiO2不属于两性氧化物 解析 硅是灰黑色有金属光泽的固体 但它属于非金属 是半导体 硅在常温下 可与 F2 HF 和强碱反应 SiO2可与强碱反应 不与一般的酸反应 只与 HF 反应 SiO2是酸 性氧化物 答案 C 6 现有下列 5 个转化过程 其中能通过一步反应实现的是 SiO2 Na2SiO3 CuSO4 CuCl2 SiO2 H2SiO3 CuO Cu OH 2 Na2O2 Na2SO4 A B C D 解析 SiO2与水不反应 不能一步生成 H2SiO3 CuO 也不能一步与 H2O 生成 Cu OH 2 Na2O2先与溶液中的水反应 而后才与其他物质反应 答案 A 7 2009 年运城高一检测 如下图为刻蚀在玻璃上的精美的花纹图案 则该刻蚀过程中 发生的主要化学反应为 A CaCO3 2HCl CaCl2 H2O CO2 B NaHCO3 HCl NaCl H2O CO2 C Si 4HF SiF4 2H2 D SiO2 4HF SiF4 2H2O 解析 玻璃的成分中含有 SiO2 SiO2易与氢氟酸反应 生成气体 不留残迹 故选 D 答案 D 8 2009 年莆田高一检测 下列不能用带玻璃塞的试剂瓶保存的溶液是 A 硫酸钠溶液 B 烧碱溶液 C 硝酸溶液 D 浓硫酸 用心 爱心 专心3 解析 因玻璃塞磨口处暴露出的 SiO2易与 NaOH 溶液反应 产生具有粘性的 Na2SiO3 不但烧碱变质 而且瓶塞不易打开 答案 B 二 非选择题二 非选择题 9 下表中括号内物质是杂质 试将除杂试剂及分离方法填入表内 混合物SiO2 CaCO3 CO2 SO2 NaHCO3 Na2SiO3 SiO2 NaCl 除杂 试剂 除杂 方法 解析 SiO2 CaCO3 可利用 SiO2不溶于盐酸而 CaCO3溶于盐酸除去 CaCO3 CO2 SO2 可通入饱和 NaHCO3溶液 NaHCO3 Na2SiO3 通入足量 CO2气体 SiO2 NaCl 溶于水过滤 答案 混合物SiO2 CaCO3 CO2 SO2 NaHC3 Na2SiO3 SiO2 NaCl 除杂 试剂 盐酸 饱和 NaHCO3 溶液 通入足量 CO2水 除杂 方法 过滤洗气过滤过滤 10 露置于空气中一段时间后的水玻璃会浑浊 向此浑浊溶液中加入稀盐酸 会生成白 色沉淀 同时伴随有气泡产生 用化学方程式解释产生上述现象的原因 1 溶液变浑浊 2 生成白色沉淀 3 产生气泡 答案 1 Na2SiO3 CO2 H2O H2SiO3 Na2CO3 用心 爱心 专心4 2 Na2SiO3 2HCl H2SiO3 2NaCl 3 Na2CO3 2HCl 2NaCl CO2 H2O 11 2009 年潍坊质检 已知 A 是一种不溶于水的非金属氧化物固体 根据下图中的转 化关系 回答 1 A 是 B 是 D 是 2 写出下列化学方程式 3 写出下列离子方程式 解析 由 A 是不溶于水的非金属氧化物 可推知 A 为 SiO2 再结合 SiO2的相关 性质 SiO2跟 Na2CO3在高温下反应生成 Na2SiO3和 CO2 二者在水中会反应生成 H2SiO3沉 淀 H2SiO3受热分解生成 SiO2 验证 A 是 SiO2是正确的 SiO2 B H2SiO3知 B 为 Na2SiO3 答案 1 SiO2 Na2SiO3 H2SiO3 2 Na2CO3 SiO2Na2SiO3 CO2 H2SiO3H2O SiO2 高温 3 CO2 H2O SiO32 CO32 H2SiO3 SiO2 2OH SiO32 H2O SiO32 2H H2SiO3 12 能力提高 在半导体工业中 有一道工序叫烧氢 烧氢的工艺流程如图所示 工 作时 是将石英管 D 出口处氢气点燃 半导体硅片 焊片和金属零件从石英管口送入加热 区 在氢气还原气氛中加热使焊片熔化 将单晶硅与金属零件焊接在一起 焊接后再将零 件拉至冷却区 冷却后取出 烧氢工艺中的氢气纯度要求极高 工业氢气虽含氢量达 99 9 但仍含有极微量的水蒸气和氧气 所以点燃氢气前应检验氢气的纯度 试回答下列问题 用心 爱心 专心5 1 装置 B 的作用 发生反应的化学方程式是 2 装置 C 的物质是 C 的作用是 3 点燃氢气前将 E 带导管胶塞 接在 D 的出口处 目的是 4 装置 A 是安全瓶 可防止氢气燃烧回火 引起爆炸 其中填充大量纯铜的作用是 5 写出工业制取粗硅的化学方程式 粗硅提纯精硅的反应方程式 6 在整个工序中 氢气所起的作用是 解析 本题以 工艺技术 提出问题 但落点较低 主要考查了氢气的可燃性 还 原性 而且还考查了硅易氧化 为防氧化采取的一系列措施 答案 1 除去空气中的氧气 2Cu O22CuO CuO