磁控溅射真空镀膜机造成不均匀的因素有哪些？ppt课件_第1页
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文档简介

,磁控溅射真空镀膜机造成不均匀的因素主要有真空状态、磁场、氩气这三个方面。,磁控溅射真空镀膜机的运作就是通过真空,1,状态下正交磁场使电子轰击氩气形成的氩离子再轰击靶材，靶材离子沉积于工件表面成膜。,真空状态就需要抽气系统来控制的，每个抽,2,0c79f0e真空镀膜设备,气口都要同时开动并力度一致，这样就可以控制好抽气的均匀性，如果抽气不均匀，在真空室内的压强就不能均匀了，压强对离子的运动是存在一定的影响的。另外抽气的时间也要控制，太短,3,会造成真空度不够，但太长又浪费资源，不过有真空计的存在，要控制好还是不成问题的。,磁场是正交运作的，但你要把磁场强度做到,4,0c79f0e真空镀膜设备,百分之一百均匀是不可能的，一般磁场强的地方，成膜厚度就大，相反就小，所以会造成膜层厚度的不一致，不过在生产过程中，由于磁场的不均匀导致的膜层不均匀的情况却不是常见的，,5,为什么呢？原来磁场强弱虽然不好控制，但同时工件也在同时运转，而且是靶材原子多次沉积才会结束镀膜工序，在一段时间内虽然某些部位厚，某些部位薄，但另一个时间内，磁场强的作,6,0c79f0e真空镀膜设备,用下在原来薄的部位沉积上厚的，在厚的部位沉积上薄的，如此多次，整个膜层最终成膜后，均匀性还是比较不错的。,7,氩气的送气均匀性也会对膜层的均匀性产生影响，原理其实和真空度差不多，由于氩气的进入，真空室内压
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