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2020/5/8,A,1,Cadence:DRC、LVS、PEX操作参考,65nm工艺HDU微电子CAD研究所,A,2,A,3,DRC(版图设计规则验证)：,用IBM_PDK下的DRC,A,4,选择rule文件,2020/5/8,A,5,设置environment:,A,6,根据提示修正版图：,A,7,LVS:,RunLVS:根据提示修改layout,1,A,8,PEX:,A,9,RunPEX,A,10,RUNPEX之后会弹出此对话框：,设置如右图,OK之后显示此对话框,之后便可关闭layout窗口，进行后仿相关步骤,A,11,1.在原理图文件中创建config,1,后仿：,A,12,2,3,A,13,save,保存后library中出现：,A,14,打开此congfig文件进行仿真，即为带寄生参数的后仿,
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