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文档简介

第二讲:半导体基础知识,罗子江讲述,元素周期表,1半导体,一、本征半导体,二、杂质半导体,三、PN结的形成及其单向导电性,一、本征半导体,导电性介于导体与绝缘体之间的物质称为半导体。,本征半导体是纯净的晶体结构的半导体。,1、什么是半导体?什么是本征半导体?,导体铁、铝、铜等金属元素等低价元素,其最外层电子在外电场作用下很容易产生定向移动,形成电流。,绝缘体惰性气体、橡胶等,其原子的最外层电子受原子核的束缚力很强,只有在外电场强到一定程度时才可能导电。,半导体硅(Si)、锗(Ge),均为四价元素,它们原子的最外层电子受原子核的束缚力介于导体与绝缘体之间。,2、本征半导体的结构,由于热运动,具有足够能量的价电子挣脱共价键的束缚而成为自由电子,自由电子的产生使共价键中留有一个空位置,称为空穴,自由电子与空穴相碰同时消失,称为复合。,共价键,一定温度下,自由电子与空穴对的浓度一定;温度升高,热运动加剧,挣脱共价键的电子增多,自由电子与空穴对的浓度加大。,外加电场时,带负电的自由电子和带正电的空穴均参与导电,且运动方向相反。由于载流子数目很少,故导电性很差。,3、本征半导体中的两种载流子,运载电荷的粒子称为载流子。,温度升高,热运动加剧,载流子浓度增大,导电性增强。热力学温度0K时不导电。,二、杂质半导体1.N型半导体,磷(P),杂质半导体主要靠多数载流子导电。掺入杂质越多,多子浓度越高,导电性越强,实现导电性可控。,多数载流子,空穴比未加杂质时的数目多了?少了?为什么?,2.P型半导体,硼(B),多数载流子,P型半导体主要靠空穴导电,掺入杂质越多,空穴浓度越高,导电性越强,,在杂质半导体中,温度变化时,载流子的数目变化吗?少子与多子变化的数目相同吗?少子与多子浓度的变化相同吗?,三、PN结的形成及其单向导电性,物质因浓度差而产生的运动称为扩散运动。气体、液体、固体均有之。,P区空穴浓度远高于N区。,N区自由电子浓度远高于P区。,扩散运动使靠近接触面P区的空穴浓度降低、靠近接触面N区的自由电子浓度降低,产生内电场。,PN结的形成,因电场作用所产生的运动称为漂移运动。,参与扩散运动和漂移运动的载流子数目相同,达到动态平衡,就形成了PN结。,由于扩散运动使P区与N区的交界面缺少多数载流子,形成内电场,从而阻止扩散运动的进行。内电场使空穴从N区向P区、自由电子从P区向N区运动。,PN结加正向电压导通:耗尽层变窄,扩散运动加剧,由于外电源的作用,形成扩散电流,PN结处于导通状态。,PN结加反向电压截止:耗尽层变宽,阻止扩散运动,有利于漂移运动,形成漂移电流。由于电流很小,故可近似认为其截止。,PN结的单向导电性,2半导体二极管,一、二极管的组成,二、二极管的伏安特性及电流方程,三、二极管的应用举例,四、二极管的主要参数,一、二极管的组成,将PN结封装,引出两个电极,就构成了二极管。,小功率二极管,大功率二极管,稳压二极管,发光二极管,一、二极管的组成,点接触型:结面积小,结电容小,故结允许的电流小,最高工作频率高。,面接触型:结面积大,结电容大,故结允许的电流大,最高工作频率低。,平面型:结面积可小、可大,小的工作频率高,大的结允许的电流大。,二、二极管的伏安特性及电流方程,开启电压,反向饱和电流,击穿电压,温度的电压当量,二极管的电流与其端电压的关系称为伏安特性。,三.二极管的应用举例,注意:分析实际电路时为简单化,通常把二极管进行理想化处理,即正偏时视其为“短路”,截止时视其为“开路”。,UD=0,UD=,正向导通时相当一个闭合的开关,+,反向阻断时相当一个打开的开关,(1)二极管的开关作用,(2)二极管的整流作用,二极管半波整流电路,二极管全波整流电路,(3)二极管的限幅作用,图示为一限幅电路。电源uS是一个周期性的矩形脉冲,高电平幅值为+5V,低电平幅值为-5V。试分析电路的输出电压为多少。,分析,当输入电压ui=5V时,二极管反偏截止,此时电路可视为开路,输出电压u0=0V;,当输入电压ui=+5V时,二极管正偏导通,导通时二极管管压降近似为零,故输出电压u0+5V。,显然输出电压u0限幅在0+5V之间。,u0,四、二极管的主要参数,最大整流电流IF:最大平均值最大反向工作电压UR:最大瞬时值反向电流IR:即IS最高工作频率fM:因PN结有电容效应,3晶体三极管,一、晶体管的结构和符号,二、晶体管的放大原理,三、晶体管的共射输入特性和输出特性,四、温度对晶体管特性的影响,五、主要参数,一、晶体管的结构和符号,多子浓度高,多子浓度很低,且很薄,面积大,晶体管有三个极、三个区、两个PN结。,中功率管,大功率管,三极管的电流放大过程,晶体管芯结构剖面图,e发射极,集电区N,基区P,发射区N,b基极,c集电极,晶体管实现电流放大作用的内部结构条件,(1)发射区掺杂浓度很高,以便有足够的载流子供“发射”。,(2)为减少载流子在基区的复合机会,基区做得很薄,一般为几个微米,且掺杂浓度极低。,(3)集电区体积较大,且为了顺利收集边缘载流子,掺杂浓度界于发射极和基极之间。,可见,双极型三极管并非是两个PN结的简单组合,而是利用一定的掺杂工艺制作而成。因此,绝不能用两个二极管来代替,使用时也决不允许把发射极和集电极接反。,晶体管实现电流放大作用的外部条件,(1)发射结必须“正向偏置”,以利于发射区电子的扩散,扩散电流即发射极电流ie,扩散电子的少数与基区空穴复合,形成基极电流ib,多数继续向集电结边缘扩散。,(2)集电结必须“反向偏置”,以利于收集扩散到集电结边缘的多数扩散电子,收集到集电区的电子形成集电极电流ic。,IE,IC,IB,整个过程中,发射区向基区发射的电子数等于基区复合掉的电子与集电区收集的电子数之和,即:IE=IB+IC,二、晶体管的放大原理,扩散运动形成发射极电流IE,复合运动形成基极电流IB,漂移运动形成集电极电流IC。,少数载流子的运动,因发射区多子浓度高使大量电子从发射区扩散到基区,因基区薄且多子浓度低,使极少数扩散到基区的电子与空穴复合,因集电区面积大,在外电场作用下大部分扩散到基区的电子漂移到集电区,基区空穴的扩散,电流分配:IEIBICIE扩散运动形成的电流IB复合运动形成的电流IC漂移运动形成的电流,穿透电流,集电结反向电流,直流电流放大系数,交流电流放大系数,三、晶体管的伏安特性,(1)输入特性曲线,以常用的共射极放大电路为例说明,UCE=0V,令UBB从0开始增加,令UCC为0,UCE=0时的输入特性曲线,UCE为0时,令UBB重新从0开始增加,增大UCC,让UCE=0.5V,UCE=1V,UCE=0.5V,UCE=0.5V的特性曲线,继续增大UCC,让UCE=1V,令UBB重新从0开始增加,UCE=1V,UCE=1V的特性曲线,继续增大UCC使UCE=1V以上的多个值,结果发现:之后的所有输入特性几乎都与UCE=1V的特性相同,曲线基本不再变化。,实用中三极管的UCE值一般都超过1V,所以其输入特性通常采用UCE=1V时的曲线。从特性曲线可看出,双极型三极管的输入特性与二极管的正向特性非常相似。,UCE1V的特性曲线,(2)输出特性曲线,先把IB调到某一固定值保持不变。,当IB不变时,输出回路中的电流IC与管子输出端电压UCE之间的关系曲线称为输出特性。,然后调节UCC使UCE从0增大,观察毫安表中IC的变化并记录下来。,根据记录可给出IC随UCE变化的伏安特性曲线,此曲线就是晶体管的输出特性曲线。,IB,0,再调节IB1至另一稍小的固定值上保持不变。,仍然调节UCC使UCE从0增大,继续观察毫安表中IC的变化并记录下来。,根据电压、电流的记录值可绘出另一条IC随UCE变化的伏安特性曲线,此曲线较前面的稍低些。,IB1,IB2,IB3,IB=0,如此不断重复上述过程,我们即可得到不同基极电流IB对应相应IC、UCE数值的一组输出特性曲线。,输出曲线开始部分很陡,说明IC随UCE的增加而急剧增大。,当UCE增至一定数值时(一般小于1V),输出特性曲线变得平坦,表明IC基本上不再随UCE而变化。,当IB一定时,从发射区扩散到基区的电子数大致一定。当UCE超过1V以后,这些电子的绝大部分被拉入集电区而形成集电极电流IC。之后即使UCE继续增大,集电极电流IC也不会再有明显的增加,具有恒流特性。,当IB增大时,相应IC也增大,输出特性曲线上移,且IC增大的幅度比对应IB大得多。这一点正是晶体管的电流放大作用。,从输出特性曲线可求出三极管的电流放大系数。,取任意再两条特性曲线上的平坦段,读出其基极电流之差;,再读出这两条曲线对应的集电极电流之差IC=1.3mA;,IC,于是我们可得到三极管的电流放大倍数:=IC/IB=1.30.04=32.5,输出特性曲线上一般可分为三个区:,饱和区。当发射结和集电结均为正向偏置时,三极管处于饱和状态。此时集电极电流IC与基极电流IB之间不再成比例关系,IB的变化对IC的影响很小。,截止区。当基极电流IB等于0时,晶体管处于截止状态。实际上当发射结电压处在正向死区范围时,晶体管就已经截止,为让其可靠截止,常使UBE小于和等于零。,放大区,晶体管工作在放大状态时,发射结正偏,集电结反偏。在放大区,集电极电流与基极电流之间成倍的数量关系,即晶体管在放大区

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