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文档简介
1.2.2PN结的单向导电性,当外加电压时,PN结的结构将发生变化(空间电荷区的宽窄变化),1、PN结外加正向电压,正向偏置P接电源正,N接电源负外电场与内电场方向相反(削弱内电场),使PN结变窄。扩散运动漂移运动。称为“正向导通”。,PN结外加正向电压(图),2、PN结外加反向电压,反向偏置P接电源负,N接电源正外电场与内电场方向相同(增强内电场),使PN结变宽。扩散运动漂移运动称为“反向截止”,PN结外加反向电压(图),3、PN结电流方程,流过PN结的电流I与外加电压V之间的关系为:I=IS(eqv/KT1)=IS(eV/VT1)其中VT=kT/qIS-反向饱和电流,PN结伏安特性,由上式I=IS(eV/VT1)当V为正时IIS(e+V/VT)PN结外加正电压时,流过电流为正电压的e指数关系。当V为负时I=IS(eV/VT1)ISPN结外加负电压时流过电流为饱和漏电流。,PN结伏安特性,单向导电性正向导通反向截止,1.2.3PN结电阻特性和电容特性,PN结还存在电阻特性电容特性,1、PN结电阻特性,两种电阻(1)静态电阻(直流电阻)R=V/I(2)动态电阻(交流电阻)r=v/I,PN结电阻特性(图),PN结电阻特性,由图示,静态电阻和动态电阻均与工作点(Q点)有关静态电阻(直流电阻)是工作点斜率的割线。动态电阻(交流电阻)是工作点斜率的切线。,2、PN结电容特性,PN结呈现电容效应有两种电容效应势垒电容扩散电容,(1)势垒电容CT,PN结外加反向偏置时,引起空间电荷区体积的变化(相当电容的极板间距变化和电荷量的变化)CT=dQ/dv=CTO/(1V/Vr)n其中CTO-外加电压v=0时的CTn-系数(决定于材料的杂质分布,一般取1/21/3)。Vr-PN结内建电压,势垒电容CT原理(图),(2)扩散电容CD,PN结外加正向偏置时,引起扩散浓度梯度变化出现的电容(电荷)效应。,扩散电容CD(图),扩散电容CD,CD=Q/V=(Qn/V)+(Qp/V)(Qn/V)(对PN+结)(nI/VT)其中:n为P区非平衡载流子平均寿命。I为PN结电流。,结电容的量级,CT和CD均在PF量级:CT一般在几几十PF。CD一般在几十几百PF。利用结电容可制成变容二极管。,(3)PN结电容和结电阻综合考虑,两者是并联关系:正向时,电阻小,电容效应不明显。反向时,电阻大,电容效应明显。故电容效应主要在反偏时才考虑。,PN结电容和结电阻综合考虑(图),r,c,1.2.4PN结击穿特性,当对PN结外加反向电压超过一定的限度,PN结会从反向截止发展到反向击穿。反向击穿破坏了PN结的单向导电特性。利用此原理可以制成稳压管。,PN结击穿特性(图),PN结击穿,PN结击穿有两种热击穿电击穿,1、电击穿,电击穿是可逆的(可恢复,当有限流电阻时)。电击穿有两种机理机理可以描述:雪崩击穿齐纳击穿,(1)雪崩击穿,特点如下:低掺杂,PN结宽,正温系数,常发生于大于7伏电压的击穿时(雪崩效应),(2)齐纳击穿,特点如下:高掺杂,PN结窄,负温系数,常发生于小于5伏电压的击穿时(隧道效应),特殊情况,在(57)V击穿发生时,两种击穿机理都有。温度系数可达到最小。5.7V以下齐纳效应占优势,表现为负温度系数,5.7V以上雪崩效应占优势,表现为正温度系数。,2、热击穿,电击穿后如无限流措施,将发生热击穿现象。热击穿会破坏PN结结构(烧坏)热击穿是不可逆的。,二次击穿,除以上击穿现象外,还有一种特殊的击穿现象,即二次击穿。二次击穿的特点是管子不发热。二次击穿是不可逆的。,第二章DB3基本知识,2.1DB3简介与工作原理2.2DB3技术要求2.3DB3工艺过程,DB3简介,双向触发二极管亦称二端交流器件(DIAC),主要在电子节能灯、电子镇流器或其它无线电路中作触发用。近年来,随着国内电子节能灯的日趋普及,双触发二极管的用量逐渐增大。,DB3外观与封装,目前我们使用的DB3有两种封装:A-405(塑封)与DO-35(玻封)兰色:STDO-35乐山(本体标识:DB30)红色:晶横(本体标识:DB3)A-405:黑色,塑封DB3内部结构,DO-35玻封DB3内部结构,两种结构比较,DO-35优点:具有耐热性、可靠性、低损耗、不燃性和小型轻量化等突出优点。DO-41优点:抗机械强度高、电流冲击能力大等。DO-35缺点:抗机械强度不高、受热会使信号断续,容易出现前期失效。DO-41缺点:热稳定性差,使用后期容易出现失效。因此,一般大功率和长寿命的节能灯都采用DO-35玻封结构(带罩灯),DB3技术指标,1、触发电压DB3的触发电压由材料片的电阻率来决定,电阻率高则DB3的触发电压也高;反之,则DB3的触发电压就低。MIN:28VMAX:36V,VBO-T关系曲线,从曲线中可以看出VBO随温度的增加而增加,在110左右达到最大值。,2、动态转折电压V,定义:V=VBO-VF,VBO为触发电压,VF为IF在10mA处的电压。,VBO与V的关系,a、DB3的触发电压由材料片的电阻率来决定b、DB3结构类似与一个简单的NPN型三极管,其回弹电压深度取决于扩散时的浓度大小和扩散后形成的基区宽度,该两点受到公司工艺条件的控制,不易改变。,C、基于以上两点,当DB3的扩散浓度和基区宽度不变时,电阻率高的触发电压也高,但他的回弹电压并不会改变多少(V3),因为它的大小已经由浓度和基区宽度决定了,但其负阻电压(V)就会变高,因为设定的测试电流IF始终为10mA。,3、冲击电流ITRM,图中给出了ITRM随tp宽度的变化曲线。在实际的触发电路中,电流的脉冲宽度在400nS左右,所能承受的脉冲电流更大。,4、上升时间tr与峰值电流Ip,要求tr2uS、Ip300mA(测试条件:触发电容C=22nF)在实际测试中,乐山和ST的DB3上升时间在200nS左右,晶恒DB3上升时间在150nS左右;,Risetimemeasurement,tr和Ip与启动电容C的关系,Tr与Ip的测试原理图如图所示tr和Ip随启动电容的增大而增大,反之亦然。Vdc的变化对tr和Ip没有影响,只影响充电时间。,漏电流IB与IBO,IBU=0.5VBO10uAIBO(Breakovercurrent)50uA由于实验条件的限制,这两项无法精确测试。,VBO、V、tr、Ip综合考虑,1、从我们应用的角度来说,
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