proe的最经典的特征操作

Pro/e的最经典的特征操作,继续,下一页,上一页,目录,一、概述,二、特征的隐含、隐藏、删除和恢复,三、零件（模型）的修改与重新生成,四、特征生成失败及其解决办法,五、特征的复制与阵列,六、特征的成组,七、特征投影,八、特征包络,继续,下一页,上一页,如修改特征尺寸、修改截面形状、变更父子关系即重定一特征属性等；对某些相似的特征进行复制、阵列、删除、调整生成次序的操作及其它一些操作。,特征操作是对已建特征进行各种修改的一些操作。,一、概述：,注：特征元素的拾取方法：,ProE野火版题提供了“选取工具”，以方便特征的操作与编辑。在不同的环境下使用选取工具，可方便的选取特征元素。,继续,下一页,上一页,不同模式下的选取工具,继续,下一页,上一页,1、零件模式下元素的选取：智能,注：点击鼠标左键或刷新工具，可取消选取。,继续,下一页,上一页,注意按下Shift键进行曲面环的选取：,按下Shfit键选择曲面,继续,下一页,上一页,特征：,继续,下一页,上一页,几何：,继续,下一页,上一页,基准：,继续,下一页,上一页,面组：,继续,下一页,上一页,注释:,继续,下一页,上一页,2、转配模式下的元素选取：零件,继续,下一页,上一页,3、编辑模式下的元素选取:,继续,下一页,上一页,4、查询选取模式:,继续,下一页,上一页,二、特征的隐含、隐藏、删除和恢复,、特征的隐含与恢复：,1、基本概念：,当零件模型比较复杂时，为了简化零件模型，加速显示及再生速度，可以将一些特征暂时消去，可作隐含操作。,隐含特征的目的是为了提高零件的重新生成速度，可以暂时不显示被隐含的特征。当需要时可以恢复显示。,隐含（Suppress）的特征不再参与任何计算和再生。,2、隐含特征的操作方法：,方法1：在模型树中选择特征，在右键弹出菜单中选择【隐含】命令。,继续,下一页,上一页,方法2：先选择特征，在主菜单中选择【编辑】【隐含】命令。,方法3：在主菜单中选择【编辑】【特征操作】从出现的菜单中选择【隐含】，然后选取特征，单击【完成】。,继续,下一页,上一页,注：,、如果想在模型树上显示被隐含的特征名，可以在导航卡中选择设置中的树过滤器，选中对话框中的隐含的对象，然后确定。这时被隐含的特征名前有个添黑的小正方形标记。,、隐含特征“子项”特征操作：,在【隐含】对话框中点击【选项】，选择【子项处理】：右击或使用菜单命令。,继续,下一页,上一页,、隐含：隐含该子项；,、保留（挂起）：不隐含该子项特征，但需要重新定义子项特征参照；,、冻结：仅限于组件模式，将所选特征组件（子元件）保留在其当前位置；,、替换参照：重定义所选子特征的参照；,、重定义：重定义所选特征；,、显示参照：显示所选子特征所使用的几何参照；,、信息：显示所选子特征的信息。,继续,下一页,上一页,3、隐含恢复（Resume）操作：,、在模型树中：选中被隐含的特征后右击，选取【恢复】命令。,、选取【编辑】菜单中的【恢复】命令。,、选定：恢复所选的特征；、上一个：恢复最后一个隐含的特征；、所有：恢复所有隐含的特征。,、基准特征的隐藏（Hide）与恢复（Unhide）：,可用隐藏操作隐藏选定的基准特征。,1、隐藏操作方法：选中要隐藏的基准特征后右击，选取隐藏命令。,继续,下一页,上一页,2、隐藏恢复操作：选中被隐藏的基准特征后右击，选取取消隐藏命令,、特征的删除：,特征的删除操作与隐含操作十分相似，区别在于被删除的特征不能再恢复。,1、特征删除的方式：,继续,下一页,上一页,选中特征，选择主菜单【编辑】【删除】选项。选中特征，按键盘上的【Delete】键；在模型树中选取特征，按右键，选择弹出菜单中的【删除】；,特征删除的方式：,注：如果要删除复制子特征，须先使用【分解组】命令将特征分解，然后再执行删除操作；如果要删除阵列子特征，则需选择弹出菜单中的【删除阵列】，否则将把父特征一起删除；如果删除父特征，那么子特征也将受到牵连，其操作同隐含操作。,继续,下一页,上一页,三、零件（模型）的修改与重新生成：,通过修改零件中的模型特征达到修改零件的目的。,、修改特征属性：,修改特征属性是指对已创建的特征属性如名称等进行重新编辑。,1、修改特征名称：（养成好的习惯）,操作方法：,、在模型树中：右击要修改名称的特征，选择【重命名】命令。,、在绘图区中：选中要修改的特征后，选择【编辑】菜单中的【设置】中的【零件设置】中的【名称】命令。,继续,下一页,上一页,2、特征的只读设置：,当要保证特征不被修改时，可将特征设置为只读。,操作方法：在模型树或绘图区中选择特征后，选择【编辑】菜单中的【只读】命令。,、选取：选取特征，使其和所有该特征之前生成的特征变为只读。,、特征号：输入一个特征编号使得它和所有之前生成的特征变为只读。,、所有特征：是所有特征只读。,、清除：取消特征的只读。,继续,下一页,上一页,3、修改基准曲线的属性（线形、颜色等）：,方法：在模型树中或工作区选中基准曲线后，选右击快捷菜单中的【属性】命令或选择【编辑】菜单中的【属性】命令，系统弹出【线体】对话框：,、修改特征尺寸：,修改（编辑）特征尺寸包括尺寸的属性、文本和文本样式进行修改。,操作方法：,继续,下一页,上一页,1、在模型树中：选中要修改的特征后右击，选【编辑】命令。所选特征尺寸显示在绘图区中。,、左键双击要修改的尺寸，输入新的尺寸值即可。,、选中要修改的尺寸，右键单击尺寸，弹出快捷菜单，通过【尺寸值】和【属性】可编辑尺寸属性、尺寸文本和文本样式。,2、在绘图工作区中：用左键双击要修改的特征，在工作区中会显示出要修改的特征尺寸，尺寸修改方法同前。,、特征的重定义：,重定义(编辑定义）是指重新定义特征的创建方式，包括特征的几何数据、草绘平面、参照、二维截面等。,继续,下一页,上一页,操作方法：,1、在模型树中：选中要重定义的特征后右击，选择【编辑定义】命令。,2、在绘图工作区中：选中要重定义的特征，选择【编辑】菜单中的【定义】命令。,、扫描和混合特征的重定义：,1、扫描特征的重定义：,操作方法：同前。,、轨迹重定义：,继续,下一页,上一页,、截面重定义：,、其它重定义：选择要重定义的【元素】，点击【定义】。,2、混合特征的重定义：,、混合特征的截面重定义：,、平行：,继续,下一页,上一页,、旋转：,选择截面方式,截面,例题：显示截面：bianjijiemian-liti2,继续,下一页,上一页,、特征的插入和重新排序：,1、插入特征：,步骤：、选择【编辑】菜单中的【特征操作】命令，在出现的【特征】菜单中选择【插入模式】命令，点击【激活】；或用左键将模型树种的：拖到要插入的位置。,、选择一个特征，在其后插入新的特征。备选特征之后的所有特征将被自动隐含。,、用常规特征创建方式创建新特征。,、单击【编辑】菜单中【恢复】，恢复隐含的特征。或在【插入模式】中，单击【取消】命令。,继续,下一页,上一页,2、重新排序（Recorder）：,选择【编辑】菜单中的【特征操作】，在出现【特征】菜单中，单击【重新排序】。,、选取：通过模型树选取要重新排序的特征（可多个），单击【完成】选取。,、层：通过选择【层】来选取层中的所有特征，完成后从【层选取】菜单中单击【完成】选取。,、选择要排序的特征：,继续,下一页,上一页,、范围：通过输入起始和终止特征的特征编号来指定排序特征范围，完成后单击【完成】选取。,、确定排序位置：,完成选取后，再【重新排序】菜单中可单击下列之一确定特征的新位置：,、之前：在插入点特征之前插入特征；,、之后：在插入点特征之后插入特征。,选取特征，点击【完成】。,注：、也可用左键按住选定的特征不放并拖动到指定位置。,、特征的重排序是有条件的，条件是不能将子特征拖至其父特征的前面。如果要调整有父子关系特征的顺序，必须解除父子关系。,继续,下一页,上一页,、调整特征的父子关系：,在创建一个特征时，往往需要定义特征的草绘平面、草平面的参照和截面的草图参照（点、线、面）（尺寸标注参照)，在特征的草绘界面中还需要标注截面的定位尺寸、建立一些约束，而这些草绘平面、草绘平面的垂直参照平面、截面的草图参照（点、线、面）等往往都是其它特征的点、线、面，形成父子关系。,草绘平面,垂直草绘平面的参照平面,尺寸标注参照,（草绘平面、参照平面、尺寸标注平面相互垂直）,继续,下一页,上一页,改变特征间的父子关系方法：,1、改变特征截面的标注参照基准或约束方式。,例：yinghan-liti1中孔1的线性参照是边，需改变后，孔和倒圆角特征才能重排序。,改变,2、应用“编辑定义”，删除原参照，重新定义特征的草绘平面、参照平面及尺寸标注平面。,继续,下一页,上一页,3、编辑特征参照：即改变特征的草绘平面、参照平面、两个尺寸标注平面。见编辑参照。,、修改特征参照：,修改参照（重新定义草绘平面、其参考平面和尺寸标注参照）是指改变特征的参照以断开父子关系。,操作方法：,1、选择编辑菜单中的【参照】命令；2、在模型树中选择特征后右击，选择【编辑参照】命令；3、在绘图区选择特征后右击，选择【编辑参照】命令等。,可替换、可相同参照,例题：编辑yinghan-liti中的拉伸3的参照：,继续,下一页,上一页,选择【替换参照】【单一图元】系统提示：,完成草绘平面由实体曲面换为DTM1,继续,下一页,上一页,注意系统默认基准平面正向为拉伸特征生成方向,正向为拉伸特征生成方向。,可改变基准平面方向,继续,下一页,上一页,注意：、草绘平面方向。、草绘平面方向总是指向屏幕里面。、拉伸特征生成方向与草绘平面方向相反，总是指向屏幕外面。,可改变草绘平面方向,可直接点击改变方向,继续,下一页,上一页,注：、在编辑参照过程中，系统会检测特征重定义的参照情况，以确定新旧参照是否兼容，若不兼容系统会给出警告，并继续处理。、对过渡的倒圆角、成组的阵列特征、只读特征不能重定义参照。,、零件的精度设置：,“精度”命令可修改几何计算的计算精度。零件精度与零件大小有关。精度的有效范围为：0.01-0.0001，系统默认值是0.0012。若减少零件精度值，再生时间就会增加。,精度类型：分相对精度和绝对精度两种。,精度设置方法：通过【编辑】菜单中【设置】命令设置。,1、相对精度：,继续,下一页,上一页,相对精度是系统默认状态的精度，可通过输入精度值设置。,2、绝对精度：,、使用绝对精度时必须配置选项:enable_absolute_accurcy设置为yes；、选择【编辑】菜单中设置，点击【精度】；、按Esc后选择【绝对精度】命令：、输入值：可有一定范围，零件精度与零件大小有关。、选取特征：给选定零件设定绝对精度。,继续,下一页,上一页,、零件模型的再生：,当零件模型发生了特征尺寸、截面、编辑关系等变化时，需要对零件模型进行再生操作，以重新计算发生变化的特征及被影响的特征。操作方法：点击再生模型按钮,或选择【编辑】菜单中的【再生】命令。,、视图的简化表示：,当零件设计过于复杂时，系统可提供简化表示功能。,见后续“模型的视图管理”。,继续,下一页,上一页,四、特征生成失败及其解决办法,在特征创建或重定义等时，由于给定的数据不当或参照的丢失，会出现特征生成失败。根据创建特征的环境类型（即特征是否使用对话框界面），特征失败的出现与解决办法分：,1、对于使用对话框界面的特征，单击对话框中的“预览”按钮后，如特征失败，解决按钮会出现在特征对话框中，这时需要分析失败产生的原因，用“定义”按钮重新定义特征有关元素，或单击“解决”按钮，进入特征失败“解决”环境，系统显示“求解特征”下拉菜单，该菜单提供许多解决失败的方法。例题：Jieju-Liti2更改瓶口处两条边倒圆角，半径0.6。,继续,下一页,上一页,更改后，由于旋转特征截面中的定位尺寸5是以完全圆角的一条边为参照的，上述重定义后完全角不存在，使旋转特征截面的参照丢失，出现特征生成失败。,2、对于不使用对话框界面的特征，若特征失败，系统则直接显示“求解特征”的下拉菜单。,、特征失败原因：,特征创建或再生时出现下列情况时，特征失败。,继续,下一页,上一页,1、不良几何；（扫描时轨迹曲率小，截面大）2、断开父子关系；例题：jieju-liti2（删除圆角）3、参照丢失或无效等。Jieju-Liti2(修改圆角）,、特征失败原因的诊断（调查）：,选择【求解特征】中的【调查】命令：,例题：yinghan-liti,继续,下一页,上一页,显示参考：,注：可选择备份模型查看丢失的参照类型。,继续,下一页,上一页,备份模型：选择【备份模型】选择【显示参照】,丢失的参照,继续,下一页,上一页,、特征失败的解决方法：,1、取消更改：恢复到特征操作失败前。如果求解特征中的取消更改是灰色的，则需寻求其它的解决办法。,2、快速修复：,、“删除”特征：删除失败的特征。,系统弹出是退出特征失败环境，还是不退出特征失败环境（yes/no）。,目的：恢复到失败前，或进行修改。,可通过【快速修复】中的【重定参照】解决失败操作。,继续,下一页,上一页,失败特征被删除后，如想找回以前的文件，方法如下：,、选择【窗口】菜单中的【关闭】命令，关闭当前对话框；、选择文件中的【拭除】命令中的【不显示】命令，拭除不显示的内存中的文件，单击【拭除】对话框中的【确定】按钮；、再次打开原文件。,、【重定义】特征截面。注意删除过期和丢失的参照，选取新的参照。,新参照,继续,下一页,上一页,、隐含特征：若想在显示被隐含的特征，可在模型树中右击该隐含的特征，选择【恢复】命令。若模型树中没有被隐含的特征，可在设置菜单中选择树过滤器命令，再弹出的菜单中选中【隐含对象】。系统可再次进入失败模式，可重新定义。,、修剪隐含：将失败特征及其后面所有的特征进行隐含。恢复后，可重新定义特征。,、重定参照：可通过重定参照（可选择、可定义基准）解决失败特征的重定义。可重新定义所有参照，也可重新定义缺少的参照。,重定缺少参照,继续,下一页,上一页,可替换、可相同参照,重定所有参照,3、修复模型：,、当前模型：对当前活动（失败的）模型进行操作。、备份模型：对备份模型进行操作。将它从活动窗口中的当前模型，显示到一个单独窗口中。、特征：对失败特征重定义。,继续,下一页,上一页,继续,下一页,上一页,4、模型播放器：,可通过工具菜单中的模型播放器选择要修改的特征，重新定义。,例题：jieju-liti2.prt,继续,下一页,上一页,五、特征的复制与阵列:,在零件设计过程中，一个复杂的零件模型中往往存在相同或相似的特征，可用特征的复制和阵列创建来完成。,复制命令一次只能生成一个特征（或特征组）；阵列命令一次可以生成多个特征（或特征组）。,、特征的复制（Copy）：,通过指定新的参考将若干个特征复制到一个新的位置，从而产生一个形状与原始样本特征相似的新特征。,若干个特征：一次可以复制单个特征、局部组或数个特征。,1、特征复制的概念：,继续,下一页,上一页,一个：正确理解“一个”概念，复制结果的个数是一个。,相似：复制的结果可以和原特征的外形尺寸相同，也可以不同。,2、复制操作及选项：,操作：,选择【编辑】【特征操作】【复制】,、特征复制方式：新参考、相同参考、镜像、移动。,、特征的选择方式：选取、所有特征、不同模型、不同版本、自继承。,、特征复制的类型（特征关联方式）：独立、从属。,、特征复制（放置）的方式：,新参考：利用新选取的参考来替代父特征中原有的参考，来复制出子特征。其特点：可在不同的平面上产生复制特征。相同参考：子、父特征的参考相同，通过改变参考尺寸进行特征复制。其特点：可快速产生相同方向的复制特征。镜像：通过指定镜像平面来镜像父特征，产生子特征。其特点：必须指定镜像平面，且子、父特征的形状、大小完全一样。移动：通过平移或旋转父特征来复制出子特征。其中：平移特征时，需指定平移的方向和距离；旋转特征时，需指定旋转的方向和角度。,继续,下一页,上一页,例题：fuzhi-liti1.prt,继续,下一页,上一页,继续,下一页,上一页,、特征的选择方式：,、选取：选取要复制的特征。可多选。、所有：选取零件模型中的所有特征进行复制操作。、不同模型：在另外一个模型中选取特征进行复制操作。、不同版本：在当前零件模型的不同版本中选取特征进行复制。、自继承：选取被复制特征中的继承特征进行复制操作。,继续,下一页,上一页,、特征复制的类型：,、独立型：子、父特征相互独立，对父特征的修改不会影响子特征；反之亦然。,例题：fuzhi-liti1.prt,、从属型：子、父特征是相关的，对父特征的修改将使子特征同时改变；反之亦然。,3、特征复制的创建过程：,选择【编辑】【特征操作】【复制】-,继续,下一页,上一页,、相同参考：,、选取需复制的特征,选取特征并确定后，弹出：,、选取可变尺寸,然后即可为每个可变尺寸输入新值。,、在对话框中，单击【确定】即可。,在菜单中选取可变尺寸，使相应的尺寸前面中出现“”，并单击【完成】。,注：应用相同参考可快速产生相同方向的复制特征。,继续,下一页,上一页,、新参考：,、选取需复制的特征：,选取特征后，弹出“组元素”对话框和“组可变尺寸”菜单,、选取可变尺寸：,在“组可变尺寸”菜单中选取可变尺寸，使相应的尺寸前面出现“”，并单击【完成】。然后即可为每个可变尺寸输入新值。如果不需改变特征的尺寸，单击【完成】后，可直接弹出“参考”菜单。,、替换参考：,替换：以新的参考替换原有的参考。相同：使用原有的参考。,继续,下一页,上一页,跳过：跳过当前参考，以后再定义。参照信息：提供解释放置参照的信息。,完成替换后，弹出“组放置”对话框：,重定义：返回命令开始，重新定义各元素。显示结果：用于显示组的几何形状。信息：出现信息窗口，显示当前复制特征的信息。,、在菜单和对话框中，均单击【确定】即可。,、镜像复制：,、选取需复制的特征,选取特征后，弹出“设置平面”菜单：,平面：选择现有的实体平面或基准平面作为镜像对称面。,注意特征的镜像与“编辑”中的零件镜像的区别。,继续,下一页,上一页,产生基准：临时建立一基准平面作为镜像对称面。放弃平面：放弃镜像复制操作。,、指定镜像对称面后，在菜单中单击【确定】。,、移动复制：,、选取需复制的特征,选取特征后，弹出“移动特征”菜单,选择“平移”或“旋转”后，出现“选取方向”菜单。,、指定方向后，还需输入平移的距离或者旋转的角度。,、在菜单中，选择【完成移动】。,注：使用“复制”、“粘贴”（Paste）、“选择性粘贴”工具进行复制。注意选择性粘贴的应用。,继续,下一页,上一页,、特征的阵列（Pattern）：,将零件模型中的某一特征作为父特征，使其按一定方式产生出若干与之相似的子特征的操作方法和过程。,1、特征阵列的概念：,继续,下一页,上一页,注：一般一次只能选取一个特征进行阵列，如果要同时阵列多个特征，应预先把这些特征组成一个“组”（Group）。方法是同时选中右击选择“组”命令即可。,直线型阵列：按照距离尺寸的增量以直线方式进行的阵列；旋转型阵列：按照角度尺寸的增量以圆周方式进行的阵列。,2、特征阵列的分类：,相同：子、父特征的尺寸大小、放置平面必须完全相同，各特征之间不可相交；可变：子、父特征的尺寸大小、放置平面可以不同，但各个特征之间不可相交；一般：子、父特征的尺寸大小、放置平面可以不同，并各个特征之间可以相交。,3、子特征与父特征的关系分类：,继续,下一页,上一页,注：系统对“一般”特征不做什么要求。建议优先选用“一般”。在选取“一般”后，若想创建特征尺寸变化的阵列，可选择要变化的尺寸作为引导尺寸，并指定增量值。,继续,下一页,上一页,4、特征阵列的操作方法：,、选取需阵列的特征，在主菜单中单击【编辑】【阵列】、在模型树中选取需阵列的特征，并击右键，在弹出的快捷菜单中选取【阵列】选项。,三种方法的结果，均出现特征阵列操控面板。,、选取需阵列的特征，在工具条上单击,5、特征阵列操控面板的设置：,、特征阵列的方式：,继续,下一页,上一页,、尺寸：通过选取特征的参考尺寸，并设置其尺寸增量和阵列的数量来创建阵列特征。、方向：通过选取阵列方向，并设置沿此方向阵列的偏距和数量来创建阵列特征。、轴：以所选轴线为中心进行圆周阵列。、填充：用阵列成员