捷佳伟创晶体硅电池高温扩散炉的培训资料ppt课件

捷佳伟创晶硅电池高温扩散炉培训资料，制作公司：深圳捷佳伟创集团公司日期201年4月25日，一、目录，一设备介绍二设备结构三过程控制四人操作五设备的维护，二、设备介绍，一设备用途二产品特征三主要技术指标四技术特征，三、设备用途、 晶体硅太阳能电池制造中的硅晶片的扩散掺杂物通过扩散形成的PN结，晶体硅太阳能电池的核心太阳光照射PN结，产生电子的方向性移动，产生电流4，产品的特征，串行温度控制精度高，恒温区稳定， 实际工艺船软着陆管扩散工艺气体流量精确、性价比高，5、主要技术指标，1电阻率误差范围：5ohms/sq2温度控制范围： 35013003温度控制方式： 5级智能串行温度控制器控制温度的4恒温区长度和精度(动态即、 模拟工艺状态):3506001/1100 mm 60013000.5/1100 mm 5温度斜变能力： a .最大控制升温速度： 15/min； b .最大降温速度： 6/minc.rt110090 min 6具有自动斜坡升温和恒温功能。 7设有过温、断偶、断点启动等自动保护系统的8送船方式：采用SiC悬臂桨自动送船机构，可连续调整船速201000mm/min，选购的自动装卸船9采用搭载快速冷却系统的10种技术方式：软着陆闭管扩散(最大着陆量400枚/批次) 11种技术12加工曲线可以存储200条，每条曲线可以存储100条以上的拐点。 13最大升温功率：每42KVA/管6级，技术特点，5级自动适时恒温区工艺船软着陆管扩散数字MFC精密控制气体流量自动装卸船，7级技术特点，在5级自动适时恒温区，1100mm恒温区范围内， 采用5点轮廓热偶与炉壁热偶相结合进行串联温度控制的温度控制元件，应用高精度智能温控器的完整控制方案，确保了炉管内恒温区从低温到高温的持续和真实性。 8、技术特征5段自动适时恒温区，9、技术特征3354过程船软着陆，10、技术特征3354数控，消除了模拟变量传输的干扰，悬臂桨的进料运动和软着陆的上下运动利用通信控制的256细分电动机驱动器，防止了运动中的阻力、失步现象数字MFC的运用确保了反应气体流量的控制准确、稳定、无干扰，对工艺生产的反复稳定控制有着非常有益的帮助，通过配合串行温度控制，可以大幅度提高工艺槽间的质量。 此外，手动设置调整功能，使设备的测试、维护作业的部署变得非常方便。 11、技术特点实现自动装船、自动装船功能，大大提高了扩散工序自动操作程度的再现性，避免了人工操作的任意性对工艺的影响。 所有动作由独立的监控计算机控制，各种动作由电机和导轨协作自动完成，系统与各站现场的计算机和位置传感器联动，保护船和反应板的安全。 12、设备结构、1.DS-300A型管式高温扩散炉：控制部、舟清洗部、炉体加热部、气源部。 2 .周边3 .工具夹具：石英舟皿托架、13、DS-300A型高温扩散炉、控制部、舟皿净化部、炉体加热部、气源部、14、控制部、控制面板上的计算机控制系统分布于各水平，但各水平的控制系统相对独立，各水平的在各层对应的前面板上分布有触摸面板、状态指示灯、警报器、紧急停止开关和控制开关。 控制部是我们调整工艺参数的主要方法。 15、控制部、控制台软件功能强、人机界面友好的：程序集中编辑功能。 有一个计算机手动调试接口。 工艺运行中，可轻松实现跳跃、在线编辑、修正。具有程序断点启动功能。 具有过温、断偶警报保护和自动倾斜升降和温和的故障自诊断功能。 能够记忆200条以上的过程曲线。 (7)全中文图示、直观、易懂、方便、16、按压小船的净化部分、按压小船的净化盘的上部安装照明灯，正面为水平层流的高效过滤器和按压小船的丝杠、导轨副传动系统、SiC悬臂桨、丝杠的前端驱动步进电机平移电机，限位保护开关，净化系统，SIC叶片，上下电机，17，船的净化部分， 精密直线导轨副协作将精密丝杠副传动步进电机和数字通信驱动器作为驱动计算机，通过通信方式向驱动器发送控制信号，能够精密地控制步进电机256的细分化，以稳定的可靠的转速按压小船的速度为201000mm/在min中达到不断变化的工艺反应过程，外置悬臂叶片，实现真正的闭管扩散自动机器人，实现高度自动化，18、炉体加热部分，主要工艺控制点：炉体(热电偶加热线)温度计的主要参数设定方法，19、炉体加热部分，1 )功率部件变压器为低压大电流输出，原采用频过零触发技术克服了对电网的二次谐波干扰。 2 )炉体优良的热场设计，具有良好的热场均匀性，同时能保证上升、降温的速度。 3 )灯丝进口一级胆固醇，保证长寿命，20、炉体加热部分、21、炉门、设备中炉门对工艺的影响比较大，炉口附近的电阻大量增高，且片材内的电阻出现上下分层的现象，是由于炉门不关闭，22、炉体加热部分，(5个)热电偶(外偶的分布位置由5个控制温度点构成)，该部分主要由堆控制温度热电偶、过温度保护热电偶、加热点(6个)、23、5个温度点构成的恒温器主要用于温度的调整、PB值的设定等。 在实际温度大幅偏离设定值的情况下，除了其他加热正常的情况之外，重新开始恒温即可。 24、RKCHA900温度调节表的主要参数设定方法，一.按下面板操作键： A/M (自动/手动) R/L (远程/本地) R/S(Run/Stop )运行/停止切换键set键，设定SV1、SV2温度： SV1CH1(内热电偶)、SV2CH2(外热电偶) 按set键3秒以上： EV3绝对值警报温度(现在EV3=1100度控制CH2:本地控制，PID参数自动整定形成。 (CH2温度达到300度后，稳定5分钟，再次设定为600度时，开启CH2自调整，CH2自调整AT结束后，按下R/S键进行CH1的自调整，CH1设定为860度时，CH2可设定为0度)，按下25、mode键3秒以上： ATU=ON CH1、CH2分别进行自整定。 CH2的自统计首先以本地控制的模式进行，结束后，以远程模式进行CH1的自统计。 PID参数始终完成。 A-M手动/自动切换r-L本地/远程控制选择按住r-5:RUN/STOP切换3.set键的同时按下 mode键： 1、Pb:2.pb修正Add1:通信地址设定Lck:密码设定bps1:19.2、b1T1:801、 1nT1:30PV数字滤波器： 1df=52df=5.set键和 mode键同时按下3秒以上(工程模式设定)，如果不是Stop状态则无法修正： F10:spch=0。dE=6(通道2的操作输出值MV)dEuT=100条件分辨率) F11:Fn1=3(输入1和输入2的自动/手动的切换) Fn2=1(远程/本地切换键操作) Fn3=1切换R/SF21:1np=3(热电偶种类s型)UnIT=0(温度单位)26 PGdP=1 与PGSL=0(输入刻度下限值0)PGSH=1500 (输入刻度上限值1500)F22同样，F30:LoGC=5(输出逻辑) out4:ev3(5， 6端子继电器输出) al cc1=01111 RLC2=00011 f43:es3=5(ev 3的最大警报值外热电偶过温警报) EVA3=1事件分配(输入1事件警报，内热电偶过温警报OUT1)F50:pd:0 (热启动) CAM:2 (输入2的用途) 级联控制CAr=1(级联比率)CAb=000 (信道CH2附加偏置) F51:1:OS:1反向操作(加热控制) F60 :通信协议： Cmps1:0(RKC通信协议):cm PS2: 0，27，注意事项，首先进行第二信道的PID r-L=LoC2.设定第二通道的设定值的温度。 2.SV=目标温度3 .进行第二通道的AT (自整定运算)。 2.ATU=on整定完成后，进行最初通道的自整定。 这是串行级别自整定：1 .从本地模式设定为远程模式。 r-L=rEM2 .设定主设定值的温度。 1.SV=目标温度3 .进行第二通道的AT (自整定运算)。 1.ATU=on、28、气源部分、气源盘的上部设有排气口，用于排除更换中泄漏的有害气体。 柜顶设置三路工艺气体和一路CDA进气口，气口下方设置减压阀、截止阀，控制进气压力进行调节。 对应空气回路，分别搭载了电磁阀、空气阀、过滤器、单向阀、电源瓶的冷阱等。 29、气源部分、CDA、O2、大N2、小N2、30、气源吸气图、电磁阀、空气阀、小氧MFC、小氮MFC、大氮MFC、31、炉体尾部气路、排气排气管路(尾部吸气风)、热电偶(内偶)、气源吸气口(淋浴管)、恒温槽、32、恒温槽及源瓶， 源极量对方向电阻的影响是最直接的处理点之一，恒温槽的温度一般为20度，过高或过低会影响扩散氮的实际流量，33、三氯氧磷的使用和注意事项、三氯氧磷：1在安装中不小心发生泄漏， 拆开原瓶立即通知现场人员避难，同时处理人员应佩戴防毒面罩和相应工具，尽可能减少必须清除泄漏的三氯氧磷污染范围，并通知安全人员2 .更换磷源和注意事项： 本组技术人员积极监督磷源交换的准备工作，磷源交换全过程的生产者应事先自吸过滤或安装防毒面罩内戴丁晴手套的耐酸咸橡胶手套，检查新源瓶有无损伤， 检查进气和排气口阀门是否关闭和标签是否正确，源瓶阀门的进气口为锥口的出口为平口，插入锥形，进出气管时必须避免瓶颈破坏3 .源瓶的更换操作要领：首先是进气口的阀门在更换原瓶：的原瓶包装箱之前，必须检查原瓶是否有裂纹、阀开关是否完全关闭、是否有检查合格证。 检查出入口端口有没有倒车。 小口径为入口，气管连接端未进入三氯氧磷液位，大口径为出口，气管连接端未延伸至三氯氧磷液位，34、周边部分，1 .吸风：吸风过大、过小会影响炉内气体的稳定性，2 .工艺气体上诉气体如果流量偏差时间过长，对过程有很大影响。35、吸入风、废盘上的吸入风：一般吸入的是炉门打开时放出的残留废气、排气盘上的吸入风：一般吸入的是炉门打开时放出的残留废气、气源盘上的吸入风在扩散技术的主要控制点，因此吸入风的大小过大， 过小会影响对方的阻力，一般在技术正常运转后进行调整的情况较少，但周边的吸风力增大时，炉口的阻力增大，36、工装夹具、石英舟皿(清洗要求必须根据工艺的变化来决定)工艺的新舟皿和清洗完成37、工艺控制、影响工艺的主要参数：1.温度2 .时间3 .工艺编辑和修正4 .扩散氮5 .大氮6 .氧、38 .工艺参数、时间、扩散氮浓度、气体流量、5个温度点、小氧、39 .温度、温度是影响扩散工艺的直接工艺参数的扩散通常有5个温度点(LLLMMMRMRR )，它们控制炉子的5个温度区域。 温度通常用于调节片材之间的均匀性。 40、时间、时间：虽然过程的时间一般是不同的，但对于当前扩散的过程，乘坐小船、离开小船、返回温度的氧化步骤的时间是固定的(一般为800s左右)。 一般时间越长，扩散形成的PN结越深，角电阻越小。 调整时间的条件通常为整个块高或低。 41、进程编辑和修改、进程编辑在软件的进程编辑栏中编辑。 如果进程不稳定，请修改进程。 修改温度后，可以在所需的温度区域修改温度。 请勿通过手动设定修正温度区域的PB值。 修正后炉体的温度会混乱。 42、扩散氮、扩散氮的主要物质是三氯甲烷(POCl3)。 POCl3在高温下(600)分解生成五氯化磷(PCl5)和五氧化磷(P2O5)，其反应式中，生成的P2O5在扩散温度下与硅反应生成二氧化硅(SiO2)和磷原子，其反应式如下，43、扩散氮，根据以上的反应式生成POCl3 如果外来的氧(O2)不参与分解，生成的PCl5就难以分解，对硅有腐蚀作用，破坏硅晶片的表面状态。 但是在外来O2存在的情况下，PCl5进一步分解成P2O5放出氯气(Cl2)，生成的P2O5进一步与硅发生作用，生成SiO2和磷原子。 另外，44、扩散氮气、存在氧气的情况下，POCl3的热分解的反应式中，POCl3分解产生的P2O5堆积在硅晶片表面，P2O5与硅反应生成SiO2和磷原子，在硅晶片表面形成磷-硅玻璃，磷原子扩散到硅中。 当实际上调节扩展过程时，通常整个块是高的或者低的。 另外，源极瓶的源极量随着时间逐渐减少，此时也必须适当增加扩散氮的流量。45、大氮和氧、大氮：惰性气体，主要起到填充介质的作用，使炉中三氯氧磷的分布更均匀。 氧气：工艺气体之一，氧化三氯氧磷更充分。 总气体流量=扩散氮大氮氧一般提高硅晶片间和晶片内的均匀性，因此要求气体的总流量相对稳定。 46、人操作，卡进舟，47、卡进入，卡时正确的翻转姿势：(图)，48、进船，1 .进船时，操作员必须选择正确的过程编号(01 )。 2 .检查报警音和实际划船后的状态，确认这两栏是否打开。 3 .需要进行跳转操作时，请勿变更系统。 例如，如果将桨降到下限，系统将无法正