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文档简介

绝缘栅场效应晶体管示意图绝缘栅场效应晶体管示意图绝缘栅场效应晶体管是一种利用半导体表面的电场效应,通过根据感应电荷量改变导电沟道来控制漏极电流的器件。其栅极与半导体绝缘,电阻大于100000000。增强:当VGS=0时,在漏极和源极之间没有导电沟道,在VDS的作用下没有iD。耗尽型:当VGS=0时,在漏极和源极之间有一个导电沟道,在VDS的作用下有一个iD。1.结构和符号(以N通道增强为例)两个浓度较高的N型区域扩散在浓度较低的P型硅上作为漏极和源极,半导体表面覆盖有二氧化硅绝缘层,电极引出作为栅极。N沟道绝缘栅场效应晶体管结构动画其他金属氧化物半导体管符号2.工作原理(以N通道增强为例)(1)当VGS=0时,不管VDS极性如何,总有一个PN结反向偏置,因此没有导电沟道。VGS=0,身份证=0VGS必须大于0管子只能工作。(2)当vgs0出现时,在二氧化硅介质中产生垂直于半导体表面的电场,排斥p区的多光子空穴,吸引少数电子。当VGS值达到一定值时,在P区表面形成一个反型层,连接两侧的N区,形成一个导电沟道。VGS 0g吸引电子反型层导电沟道Vgs反转层增厚VDSid(3)当vgs vt时,VDS较小:VDS身份证起始电压,在VDS开始传导时使用VGS佛蒙特州=VGS VDS3.特征曲线(以N通道增强为例)场效应晶体管传输特性曲线动画4.其他类型的金属氧化物半导体管(1)N沟道耗尽型:在制造期间,大量正离子掺杂在栅极绝缘层中,因此即使当VGS=0时,由于正离子的作用,在两个N区域之间存在导电沟道(类似于结型场效应晶体管)。其他类型的金属氧化物半导体管(2)P通道增强:当VGS=0,内径=0时,开路电压小于零,因此该管只能在VGS 0时工作。(3)P沟道耗尽型:在制造期间,大量的负离子被掺杂在栅极绝缘层中,因此即使当VGS=0时,由于负离子的作用,导电沟道(类似于结型场效应晶体管)存在于两个P区域之间。5.场效应晶体管的主要参数(1)接通电压VT:当VDS是一个固定值时,可以生成标识所需的最小|VGS |值。(增强)(2)夹断电压VP:当VDS是固定值时,当产生小电流时,ID对应于|VGS |值。(疲惫)(3)饱和漏极电流IDSS:当VGS=0时,管被预箝位时的漏极电流。(疲惫)(4)电极间电容:漏源电容CDS约为0.1 13pF,栅源电容CGS和栅漏电容CGD约为13pF。(5)低频跨导gm:表示VGS对iD的控制效果。在传递特性曲线上,gm是曲线在某一点上的斜

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