金相显微镜试样的腐蚀5种方法及腐蚀剂

金相试样的五种腐蚀方法及常见腐蚀剂的全面分析在反射和观察不同强度的光之前，金相组织的反射能力的差异必须至少为10%或以上。然而，抛光的样品表面不能显示金相结构，因为入射光几乎均匀地反射回来。因此，为了看得更清楚，通常需要对比组织。为了获得这种对比，样品通常需要进行金相处理。常用的处理方法包括化学蚀刻、电解蚀刻、阴极真空蚀刻、热蚀刻和薄膜干涉。1.化学侵蚀18CrNiMo7-6钢，Berahas 10/3蚀刻纯金属和单相合金的化学蚀刻是一个化学溶解过程。由于晶界上的原子排列不规则，自由能高，晶界容易腐蚀，形成凹槽，从而显示结构，在显微镜下可以看到多边形晶粒。如果腐蚀更深，由于每个晶粒的取向不同，不同晶面的溶解速率也不同，蚀刻后的微观面与原始研磨面之间的角度也不同。在垂直光的照射下，反射到物镜的光是不同的，可以看到不同明暗的晶粒。镁铝合金的化学腐蚀。在多相合金的化学腐蚀中，腐蚀剂在腐蚀过程中不同程度地溶解各相。必须使用适当的腐蚀剂。如果一种腐蚀剂不能显示所有的组织，应使用两种或多种腐蚀剂依次腐蚀，以逐渐显示相结构。这种方法也称为选择性腐蚀法。另一种方法是薄膜染色。该方法使用腐蚀剂与研磨表面上的各相反应，形成一层厚度不均匀的膜(或反应沉淀物)。在白光照射下，由于光的干涉，各相呈现不同的颜色，从而达到识别各相的目的。2.电解浸蚀409不锈钢，草酸电解腐蚀化学蚀刻没有外部电源，而电解蚀刻是将抛光样品浸入适当的化学试剂(电解蚀刻剂)溶液中，用较少的直流电进行蚀刻。电解蚀刻的工作电压和电流通常较小，工作电压一般在2-6V之间，工作电流约为0.05-0.3a/cm2。电解蚀刻主要用于化学稳定性高的合金，如不锈钢、耐热钢、镍基合金等。这些合金很难通过化学蚀刻获得清晰的结构。稳定电位蚀刻：一种改进的电解蚀刻方法被称为稳定电位蚀刻。通常，电解液中的浓度随着不同的电流负载而变化，导致样品电位频繁变化。使用电位稳定剂来保持电位恒定可以获得其他蚀刻方法无法获得的清晰对比度。本发明首先确定金属在电解液中的极化曲线，根据极化曲线选择合适的刻蚀电位，然后根据合金中各相不同的成膜速率，在外加的恒电位仪的作用下，用恒电位仪完成金属的整个刻蚀沉积过程。由于各相的晶格能不同，成膜速度不同，在一定电位下膜厚不同，从而出现不同的干涉色。3.阴极真空蚀刻阴极真空刻蚀的原理是在真空室中电离放电时，带电离子在电场的作用下将能量转移到阴极样品表面的金属原子上。当正离子与金属空间晶格碰撞时，金属表面在非常小的范围内被加热，导致原子从金属表面分离并被腐蚀。由于样品表面各相电子溅射的性质不同，显示的是金相组织，所显示的组织形态还与温度、离子密度和离子电流与样品表面法线形成的投射角因子有关。4.热腐蚀热腐蚀后退火纯钛的晶粒结构热腐蚀是一种加热和腐蚀抛光样品的方法，无需在熔炉中嵌入。该方法对陶瓷的结构有很好的影响薄膜干涉法是在抛光后的样品表面沉积一层透明薄膜。光穿过薄膜后的反射会相互干涉。不同的相位产生不同的黑白或彩色对比度。可以区分不同的阶段。通常，通常使用彩色金相。其原理是在金属阴极上通过反应溅射产生干涉涂层。)或通过合适的涂层材料(硫化锌、硒化锌)的气相沉积。该涂层的功能是通过金属/涂层和涂层/空气界面之间的重复反射来偏振和减弱入射到陶瓷表面上的光波，这将导致相邻不同结构之间的对比度与光学常数成比例地增加。普通金属蚀刻剂钢铁铝和铝合金镁和镁合金低熔点合金(锑、铋、镉、铅、锡和锌)难熔