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文档简介
(一)氧化还原练习题1、(12分)实验室可用KMnO4和浓盐酸制备少量Cl2:2KMnO4+16HCl(浓)=2KCl+2MnCl2+5 Cl2+8(1)在方格内填上所缺物质的化学式: (2)用单线桥法标出该反应电子转移的方向和数目:2KMnO4+16HCl(3)指出该反应的氧化剂: 。(4)当1molKMnO4参加反应时,有 molHCl参加反应,其中有 molHCl被氧化。(5)当NA个电子转移时,生成标况下的氯气的体积是: L。2.某反应体系的物质有:NaOH、Au2O3、Na2S4O6、Na2S2O3、Au2O、H2O。(1)请将Au2O3之外的反应物与生成物分别填入以下空格内。(2)反应中,被还原的元素是_,还原剂是_。(3)将氧化剂与还原剂填入空格中,并标出电子转移的方向和数目。(4)纺织工业中常用氯气作漂白剂,Na2S2O3可作为漂白后布匹“脱氯剂”,Na2S2O3和Cl2反应的产物是H2SO4、NaCl和HCl,则还原剂与氧化剂物质的量之比为_。(二)氧化还原方程式的书写1.(东I)S2Cl2与水反应,有无色刺激性气味气体产生,并有黄色沉淀生成,该反应的化学方程式是 。2.(朝I)石灰乳中通入Cl2 ,得到Ca(ClO3)2与CaCl2物质的量之比为15的溶液,反应的化学方程式是 。3.(朝I)CaCl2溶液中通入NH3和CO2两种气体后,生成超细CaCO3的化学方程式是 。4.(东II)已知Na2S2O3溶液与Cl2反应时, 1mol Na2S2O3转移8 mol电子。该反应的离子方程式是 。5.(西II)SO2气体通入足量BaCl2和硝酸的混合溶液中,生成白色沉淀和无色气体,反应的离子方程式是 。6.(西II)直接加热AlCl36H2O不能得到无水AlCl3。SOCl2为无色液体,极易与水反应生成HCl和一种具有漂白性的气体。AlCl36H2O与SOCl2混合加热制取无水AlCl3 ,反应的化学方程式是 。7. (10西)已知:2Fe2+ + Br22Fe3+ +2Br。若将0.1 mol E通入100 mL FeBr2溶液中,溶液中有三分之一的Br被氧化成Br2,则此反应离子方程式是 ,原FeBr2溶液的物质的量浓度为 。8.(10海) K2FeO4为高效绿色净水剂,可通过Fe(OH)3与KOH和Cl2反应制得。该反应的化学方程式是 。9. 废水处理方法之一是用Cl2将废水中的CN-氧化成CO2和N2,若参加反应的Cl2与CN-的物质的量之比为52,则该反应的离子方程式是 。10、硫酸亚铁在酸性条件下将MnO2还原为MnSO4,酸浸时发生的主要反应的离子方程式为 。11、O3和酸性碘化钾溶液反应生成O2和碘单质,反应的离子方程式是_。12、SO2和Cl2都可以使有色物质褪色,但褪色的原理不一样。若将这两者以等物质的量通入水中,得到的酸性溶液却不能使有色物质褪色。请用离子方程式解释原因: 。11.硅单质及其化合物应用范围很广。请回答下列问题:(1) 制备硅半导体材料必须先得到高纯硅。三氯甲硅烷(SiHCl3)还原法是当前制备高纯硅的主要方法,生产过程示意图如下:写出由纯SiHCl3制备高纯硅的化学反应方程式 。整个制备过程必须严格控制无水无氧。SiHCl3遇水剧烈反应生成H2SiO3、HCl和另一种物质,写出配平的化学反应方程式 ;H2还原SiHCl3过程中若混O2,可能引起的后果是 。答案:1. 2S2Cl2+ 2H2O=3S+SO2+4HCl2. 6Cl26Ca(OH)2 = 5CaCl2Ca(ClO3)2 + 6H2O3. CaCl2 + 2NH3 + CO2 + H2O = CaCO3+ 2NH4Cl4. S2O32- + 4Cl2 + 5H2O = 2SO42- + 8Cl- + 10H+5. 3Ba2+3SO2 +2NO3+2H2O = 3BaSO4+2NO+4H+6. AlCl36H2O+6SOCl2 AlCl3+12HCl+6SO27. 6Fe2+ + 4Br+5Cl26Fe3+ + 2Br2+10Cl 1.2 mol/L8. 1
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