cppc164a志聖uvem720曝光機操作規範

1、志聖 UVE-M720曝光機操作規範頁數12345678版本AAAAAAAA頁數91011版本AAA共 十一 頁文 件 編 號：CP-PC164文 件 版 本：A名 稱志聖 (UVE-M720) 曝光機操作規範 目 錄 1. 目的2. 範圍3. 職責4. 操作程序4-1.操作內容4-2.操作要領4-3.設備保養4-4.表單5. 產品允收標準6. 異常處理7.作業安全及注意事項8.表單 文件編號：CP-PC164A 第 頁 共11頁名 稱志聖 (UVE-M720) 曝光機操作規範操作流程圖（CP-PC164-01）： 打開總電源上料清理曝光檯面點燈架設曝光底片選擇曝光參數啟動電源開關 文件編號：

2、CP-PC164A 第 頁 共11頁名 稱志聖 (UVE-M720) 曝光機操作規範 關閉總電源框面前進(曝光)作業軏畢關機作業取出pcb及曝光底片關閉點燈開關框面前進(出料)吸真空 文件編號：CP-PC164A 第 頁 共11頁名 稱志聖 (UVE-M720) 曝光機操作規範 1目的： 為了讓操作人員了解作業內容與設備正確的使用方法，以減少作業時的困擾，提昇品質，特立此規範使作業標準化，落實教育訓練等工作。 2範圍： 鴻源科技股份，溼膜組防焊印刷後之曝光作業。 3職責： 作業員依志聖 (UVE-M720) 曝光機操作規範作業4操作程序： CP-PC164-01 文件編號：CP-PC164A

3、第 頁 共11頁名 稱志聖 (UVE-M720) 曝光機操作規範4-1.操作內容：4-1-1.控制面板說明：4-1-1-1.前方控制面板： 文件編號：CP-PC164A 第 頁 共11頁名 稱志聖 (UVE-M720) 曝光機操作規範4-1-1-2.右側控制面板說明： 緊急停止放真空框架前進吸真空 文件編號：CP-PC164A 第 頁 共11頁名 稱志聖 (UVE-M720) 曝光機操作規範4-1-1-3. LCD顯示型UV能量積算器: 文件編號：CP-PC164A 第 頁 共11頁名 稱志聖 (UVE-M720) 曝光機操作規範A.開機後積算器將自我測試後進入開機畫面。B.選擇曝光組別選擇：

4、在主畫面按曝光畫面鍵則進入第一組，若繼續按曝光(2)則進入第二組，按曝光(3)則進入第三組，按曝光(4)則進入第四組，若欲回某組則按“曝光(X)鍵。C.能量設定：若已進入第一四組時，欲設定上框之上下燈能量與下框之上下燈能量，則按設定值鍵使顯示變為設定模式。游標轉為反色狀態右側出現數字鍵盤，此時先按CLR清除游標第之數值，再按數字鍵即可輸入數值，移動位數，移動位置，當該數值設定完成，則按ENT鍵，則游標跳至下一數值設定，重複此動作，即可設定各上/下框之上/下燈能量數值大小。D. 重複按設定值鍵將使顯示與設定模式相互更換。4-1-2開機程序： 4-1-2-1.啟動冷卻水塔或打開冷卻水閥。4-1-2

5、-2.按下啟動開關，在按下啟動開關之後，冷卻水循環幫浦即開始動作，人機介面則顯示中英文操作系統選擇畫面)，選擇適當之操作系統後，即進入主操作畫面。4-1-2-3.按下主畫面上之啟動開關，啟動主系統運轉此時檯面冷卻系統之鼓風機起動，機台內部之檯面冷卻出風口有風吹出，即準備完成。4-1-2-4.按下人機介面之燈源系統鈕進入曝光次數及燈源ON/OFF設定畫面，即可進行點燈之動作。4-1-2-5.按下上燈及下燈開關，將燈管點亮，約需數分鐘時間，始可進行曝光動作。4-1-2-6.至手動畫面中將遮光器及框架前進切換成自動，此時若將曝光方式切到自動則吸真空後框架自動進入曝光室做曝光動作，如切到手動則吸真空後

6、須再按框架前進鈕，才能進行曝光動作。4-1-2-7.將畫面切換至曝光畫面中並輸入適當之能量設定值，將欲進行曝光的工作物置於框架之玻璃與MYLAR中。4-1-2-8.曝光方式為手動時，按下框架前進鈕，使框架進入曝光室。4-1-2-9.在框架進到曝光室且定位後，遮光器自動打開並開始曝光。4-1-2-10.當所有的操作都完成而欲關機，請按主畫面關機鍵，約過10分鐘後自動停機，再行關掉總電源開關以保護燈管之壽命。 文件編號：CP-PC164A 第 頁 共11頁名 稱志聖 (UVE-M720) 曝光機操作規範4-1-3能量校正作業： 原理： 利用21階底片曝光後，進行顯影，以了解曝光能量與油墨之關係，進

7、行能量校正。 操作方式： 4-1-3-1取一片裸銅基板，按液態感光油墨印刷，作業規範內所述之作業程序作業。 4-1-3-2將預烘靜置後之測試板，如下圖所示之方法架設測試板與A/W 。 號碼編號標籤貼紙事先貼好於測試板上，並編號之黑色遮光A/W21階曝光A/W待曝光測試註：另一面也以相同方式架設。 文件編號：CP-PC164A 第 頁 共11頁名 稱志聖 (UVE-M720) 曝光機操作規範4-1-3-3依上圖之方法，以黑片將上、下兩面，21階A/W 未能覆蓋之面積，蓋住。（由於測試板上、下各有一張21階A/W，故黑色A/W 上、下兩面都須照上述方式作業）4-1-3-4按3-2-4 曝光作業操作

8、方法所述內容，實施曝光。4-1-3-5曝光後，移動21階A/W 至另一位置，蓋好黑片，重覆上述步驟，改變曝光能量設定，實施曝光作業。 4-1-3-6重複第5 項步驟，至做完各組曝光能量變更為止後實施顯影作業。 4-1-3-7檢查各組顯影狀態，取其中1 組（顯影出來在101階範圍內）做為基準，調整曝光能量設定為該組曝光作業時之能量設定。即完成曝光能量之校正。4-1-3-8如顯影出來，未在控制範圍內（101），則重新進行校正作業，其再校正之能量範圍，則須以顯影出來之結果，另取測試能量之設定範圍。4-1-4液態感光油墨曝光作業操作方法：4-1-4-1開機。（參考3-2-2開機程序）4-1-4-2以無

9、塵紙沾酒精清潔曝光檯面之玻璃與MYLAR。4-1-4-3以無塵紙沾酒精清理工作片（曝光用底片）後，以膠帶固定於曝光檯面之玻璃面。如綠色油墨顯影出來在101階範圍內，藍色油墨顯影出來在131階範圍內，黑色油墨顯影出來在14以上。4-1-4-4將欲進行曝光之PCB，套上工作片之PIN。確實套好PCB四角於A/W之PIN上。4-1-4-5將另一張工作片，套於PCB之PIN孔上，確定A/W四角之PIN，已套上PCB後，關上曝光檯面之MYLAR框。並將MYLAR框與曝光檯面栓好固定之。4-1-4-6按下抽真空鈕，開始抽氣，使MYLAR與玻璃間之空氣減至最少，使A/W、PCB、MYLAR和玻璃之間無因空氣

10、造成之距離（間隔），影響曝光品質，造成縮影。4-1-4-7確認真空度達600mm/Hg後，按下框面前進鈕，使曝光檯面進入曝光機中，進行自動曝光。此時，第二曝光檯面會自機器中出來，重覆上述步驟，清理第二曝光檯面，架設A/W、吸真空。準備進行第二曝光檯面之曝光作業。4-1-4-8待第一曝光檯面曝光完畢，按下框面前進鈕，則換第二曝光檯面入機器內進行曝光。4-1-4-9打開第一曝光檯面之MYLAR框架，取出曝光完成之PCB，置於置板框架上，即可進行顯影作業。4-1-4-10如此反覆上述作業，進行量產。（上料套A/W蓋MYLAR框架及栓緊吸真空曝光）4-1-5關機程序：4-1-5-1將工作片取下收好，並

11、將MYLAR框架蓋好。4-1-5-2按起點燈開關，使燈管關燈。4-1-5-3待關燈後10分鐘後，再關掉總電源，即完成關機程序。4-1-6底片管理：4-1-6-1每套新底片取得後，經確認無誤登記於底片管理記錄表。4-1-6-2每套底片使用60PNL需做首片檢查，若發現底片不潔必須利用無塵紙沾酒精擦拭底片後始得使用。 文件編號：CP-PC164A 第 頁 共11頁名 稱志聖 (UVE-M720) 曝光機操作規範4-2.操作要領:依CP-PMP-P400-301操作4-3.設備保養:依CP-PC022F31保養5.產品允收標準： 顯影後經IPQC人員檢修符合下列規定，判定允收。 5-1對位：油墨不可

12、上PAD、SMD、金手指、錫手指等判為良好。 5-2板污：板面線路無特別氧化、油污、沾膠等情況判為良好。 5-3油墨附著：無油墨空泡、剝落、孔內、PAD、SMD、金手指、錫手指殘留油墨等，判為良好。 5-4外觀：無綠漆白化、露白（漏印）等狀況判為良好。 5-5不良板必須濕膜退洗重工。6.異常處理：6-1曝光能量不足：以SST21格表CHECK能量，半殘格應在101格，若能量不足，則CHECK燈管是否須更新或底片透光率不足。6-2真空度不足：檢查真空泵是否運作正常，MYLAR框是否漏氣。6-3底片漲縮：檢視室內溫度及溼度控制是否正常。（溫度：222）（溼度555）若有異常則恢復之。註：檢視溫溼度記錄器之記錄。6-4曝光機冷卻不足：檢視冰水機是否正常運作。6-5.其它異常狀況無法自行解決之，請通知單位主管處理之。7.作業安全及注意事項：7-1更換燈管必須特別小心，避免玻璃物品破損。7-2人員作業