LCD 清洗技术简介

1、LCD清洗技术简介清洗技术简介汉高股份有限公司汉高股份有限公司电子产品的发展方向电子产品的发展方向 TFT-LCDLCD的结构的结构透明电极透明电极 玻璃基板玻璃基板 导向膜导向膜 液液 晶晶光源光源 集成电路集成电路反射片反射片反射片反射片Black MatrixArray BoardITO玻璃制造流程和玻璃清洗剂玻璃制造流程和玻璃清洗剂CeO 研磨研磨研磨后研磨后清洗清洗涂膜前涂膜前清洗清洗母板母板ITO涂膜涂膜切割后切割后清洗清洗切割切割P3 siliron APP3 siliron HSP3 siliron LP3 siliron EP3 siliron TKP3 siliron TK

2、AP3 siliron SP3 siliron SA最新产品：P3 siliron AP 去除研磨剂 P3 siliron SA 去除颗粒，纸屑，玻璃屑，油污彩色滤光片的制造过程彩色滤光片的制造过程玻璃基板黑色矩阵彩色层保护层ITO导电膜 光阻光阻涂布涂布BM基板清洗基板清洗ITO制程制程去除边缘去除边缘显影显影后段后段烘烤烘烤前段前段预烤预烤紫外线紫外线曝光曝光重复三次(R,G,B)P3 poleve HPP3 disperse H印框胶贴偏振片检测下一道工序 去除残留液晶注射液晶清洗面板组合Array board 基板玻璃清洗去除研磨和切割残留物清洗金属铬BM制程 刻蚀Array boar

3、d 光刻制程 Color Filter 曝光去除边缘曝光 检测检测Color Filter 基板玻璃去除边缘，显影 去除光阻显影光阻BM制程去除光阻 TFT-LCD 制造流程制造流程LCD基板玻璃表面的污染物基板玻璃表面的污染物污染物分类污染物分类污染物来源污染物来源清洗方法清洗方法有机污染物有机污染物包装纸中的有机物、指包装纸中的有机物、指印、油脂等印、油脂等玻璃清洗剂清洗玻璃清洗剂清洗碱液清洗碱液清洗UV光照射光照射(O3)清洗清洗无机污染物无机污染物灰尘、玻璃屑或研磨剂灰尘、玻璃屑或研磨剂等微粒子等微粒子(particle)超音波清洗超音波清洗喷淋加毛刷清洗喷淋加毛刷清洗配合溢流与过滤配

4、合溢流与过滤基板预清洗基板预清洗一.目的：对PI 投入前之基板做清洗工作，确保基板之清洁状态。二.原理：利用洗剂、毛刷、超音波、IR、UV等装置，将基板上的微粒及油污清除。LCD基板清洗基板清洗P3 siliron HS(2 槽) 1- 5%, 45 -60 , 5-10 min. 浸渍超声波P3 siliron LS(2 槽) 1- 3%, 45 -60 , 5-10 min. 喷淋刷洗去离子水 (4-5 槽) RT - 60 , 5-10 min. 浸渍超声波去离子水 (4-5 槽) RT - 60 , 5-10 min. 喷淋刷洗 清清 洗洗 漂漂 洗洗PI 前前强碱清洗的特点强碱清洗的

5、特点强碱与玻璃有一定的亲合力，容易在玻璃表面形成碱性覆盖膜，不易被漂洗除去。为解决碱液吸附残留表面问题，需采取增加冲洗次数的方法改善，一般清洗设备会设计更多的清洗和漂洗槽，但这也增加了设备费用成本。 P3 siliron系列玻璃清洗剂的特点系列玻璃清洗剂的特点表面活性剂和助洗剂的协同作用，显示出卓越的清洗性能采用了漂洗助剂，残留物极易漂洗干净。助洗剂浓度助洗剂浓度:2.0 %表面活性剂浓度表面活性剂浓度:0.1 %清洗温度清洗温度:60 C处理时间处理时间 (min)清洗能力清洗能力 (%)水水表面活性剂表面活性剂助洗剂助洗剂助洗剂助洗剂+ 表面活性剂表面活性剂1000130204060805

6、10Lit. from:Oberflche-Surface 1984,Rossmann: Reinigung starrerOberflchen助洗剂助洗剂 / 表面活性剂的协同作用表面活性剂的协同作用水洗水水洗水123脱脂脱脂水洗水洗 举例举例: :m = 10 ml/mm = 10 ml/m2 2 表面表面Co = 25 g/lCo = 25 g/lCx = 0.01 g/lCx = 0.01 g/l稀释比例稀释比例=1:2500=1:2500消耗量消耗量: :1 1 个水洗槽个水洗槽25.00 25.00 l/ml/m2 2 表面表面2 2 个水洗槽个水洗槽0.50 0.50 l/ml/

7、m2 2 表面表面3 3 个水洗槽个水洗槽0.14 0.14 l/ml/m2 2 表面表面水洗水计算方程式水洗水计算方程式( (简化式简化式) )L = nCoCx L = L = 水洗水的消耗水洗水的消耗 ( (l/ml/m2 2表面表面) ) m = m = 带出量带出量 ( (l/ml/m2 2表面表面) ) n = n = 水洗区的水洗槽数量水洗区的水洗槽数量Co = Co = 最后脱脂槽的浓度最后脱脂槽的浓度 ( (g/l)g/l)Cx = Cx = 最后水洗槽的浓度最后水洗槽的浓度 ( (g/l)g/l)mLCD基板玻璃清洗条件基板玻璃清洗条件控制项目清洗剂浓度测定: 每天进行一次

8、电导率法酸碱滴定 总碱定期添加约5g/m2LCD基板玻璃清洗条件基板玻璃清洗条件测试方法水膜浸润度扫描式电子显微镜(SEM)X光能量分散光谱仪(EDS)颗粒残留颗粒残留以X光能量分散光谱仪(Energy Dispersive Spectrometer)分析微粒子污染物，确认该微粒子为玻璃屑泄漏液晶清洗泄漏液晶清洗一.目的：对封口、裂片、磨边后之液晶片作清洗工作，主要目的是去除狭隘中的残留液晶。二.原理：利用液晶清洗剂、超音波等装置，配合溢流(overflow)与过滤(filtration)将狭隘中的残留液晶以及表面的微粒清除干净。由于STN-LCD工艺是先将液晶盒裁切(裂片)之后才进行清洗，可

9、以预知液晶盒的玻璃面板边缘与表面，除了沾附液晶分子，亦将附着许多玻璃屑(微粒子)，所以清洗槽的溢流与过滤功能就显得非常重要。 LCD 清洗条件清洗条件P3 kaltfin 20 (2 槽槽) 45 - 60 , 5-10 min.超声波搅拌超声波搅拌P3 kaltfin 20 + P3 Etarap ES (2 槽槽) 45 - 60 , 5-10 min.超声波搅拌超声波搅拌P3 allpass 7000/7750 (2 槽槽) 45 - 60 , 5-10 min.超声波搅拌超声波搅拌 IPA (3 槽) RT - 45 , 15-20 min.超声波搅拌Pure Water (4 槽或以

10、上) 40 - 60 , 15-20 min.超声波搅拌Pure Water (4 槽或以上) 40 - 60 , 15-20 min.超声波搅拌 清清 洗洗 漂漂 洗洗泄漏液晶清洗泄漏液晶清洗LCD 清洗工艺清洗工艺 P3 kaltfin 20 + P3 Etarap ES清清 洗洗贮油槽贮油槽漂漂 洗洗漂漂 洗洗过滤器过滤器（纯水）（纯水）1活性炭活性炭离子交换塔离子交换塔自来水自来水废水处废水处理系统理系统油水分离器油水分离器烘箱烘箱烘烘 干干85-100漂漂 洗洗2 不损害玻璃。不损害玻璃。 对封口胶无害。对封口胶无害。 环氧树脂环氧树脂, , 丙烯酸树脂丙烯酸树脂 不损害金属。不损害金属。 铝铝, , 银银, , 铜铜 不含离子。不含离子。 表面张力低。表面张力低。 容易用异丙醇或水漂洗。容易用异丙醇或水漂洗。LCD清洗剂的要求清洗剂的要求通过通过架片架片转动偏振片转动偏振片液晶片液晶片光光源源偏振片偏振片偏振