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文档简介

电容屏前段制程菱形架桥流程说明 素基板ito镀膜微影制程ito蚀刻剥膜微影制程(架桥)镀金属(钼-铝-钼)微影制程金属蚀刻 剥膜o/c保护层fqc前段完成交后段素机板溅渡过程dc-500v3x10-3torrarito基板微影流程 投片uv清洗药洗水洗ir加热涂怖软烤露光显影收片微影制程1蚀刻製程1剥膜制程1微影制程2(架桥)镀金属(钼铝钼)微影制程3蚀刻制程2剥膜制程2微影制程4(保护膜)电容屏制程关键1.设备因素(要能稳定的控制参数,精度能达到产品的要求,不因为材料特性影响功能)2.材料因素 (玻璃,光阻,靶材,药液)3.人员因素(对设备了解,问题的判断,参数的控制)

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