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文档简介

电容屏前段制程1;.2菱形架桥流程说明 素基板ITO镀膜微影制程ITO蚀刻剥膜微影制程(架桥)镀金属(钼-铝-钼)微影制程金属蚀刻 剥膜O/C保护层FQC前段完成交后段3素机板4溅渡过程DC-500V3X10-3torrAr5ITO基板6微影流程 投片UV清洗药洗水洗IR加热涂怖软烤露光显影收片7微影制程18蚀刻製程19剥膜制程110微影制程2(架桥)11镀金属(钼铝钼)12微影制程313蚀刻制程214剥膜制程215微影制程4(保护膜)16电容屏制程关键1.设备因素(要能稳定的控制参数,精度能达到产品的要求,不因为材料特性影响功能)2.材料因素 (玻璃,光阻,靶材,药液)3.人员因素(对设备了解,问题的判断,参数的控制)

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