光化学保护基

1、光光 化化 学学 保保 护护 基基宋 琎2009.9.12一.简简 介介二二.常用几种保护基介绍常用几种保护基介绍三三. 未来的发展方向未来的发展方向一. 简简 介介在大部分情况下，酸性或碱性试剂是作为去保护基。同样还有金属和酶催化剂。而光保护基在去保护过程中不需要添加类似的化学试剂，并且去保护过程在大部分时候非常快速和干净。这些特性使它特别适用于生化和微生物领域。同时，在复杂的多官能团化合物的合成中，光保护基处于一个重要的地位，并且要小心选择。一方面，他们要承受的住其它官能团转化时的条件，另一方面，在移出保护基的时候不能损坏中心结构。the caging group should compl

2、y with the following requirementshigh quantum and chemical yields, as well as a fast rate of substrate release;substantial absorbance above 300 nm; good dark stability;byproducts of the uncaging reaction should ideally be transparent at the wavelength of irradiation and possess low reactivity.二常用几种保

3、护基介绍二常用几种保护基介绍1.邻硝基苄基衍生物邻硝基苄基衍生物(应用最为广泛应用最为广泛)（1）活泼n-h位的保护* in the last step of the synthesis of ent-fumiquinazolinennonindoleono2hvmeoh 15hnnonhmeindoleonnoohnnohonnoho87%noo+b.b.snider. m.v.busuyek. tetrehedron. 2001, 57, 3301-3307.hoffmann. chemical review. 2008, 108, 1086.( 2 ) o-h位的保护 * in the

4、synthesis of (-)-diazonamide ahnoncnorophohbrho(i)o-no2c6h4ch2br(ii)cl3cco2hphhv(350nm)brohhnonorobroc6h4o-no2oo85%angew. chem. int. ed. 2001, 40, 4765(3) 溶胶凝胶法中通过自由基羧酸官能团改良硅胶 硅烷偶联试剂通过与无机材料通过表面含有的oh形成共价键，对无机材料进行表面修饰改性，通过混合自组装在硅胶层表面形成单层，通过不同的链长度对生物分子进行分离。而因为在合成过程中氯和烷氧基对羧酸反应很活泼.于是,含有羧酸根的硅烷偶联试剂得不到有效应用，

5、于是硅烷偶联试剂合成中羧酸根的保护就很重要。h2c chch2n-2c clon=4 or 10chrno2/ tertiary amineh2c chch2n-2c oochrno2ho(meo)3si-h / h2ptcl6.h2ochrno2si(ome)3ch2nc oosillica gelchrno2si ch2nc ooooosio2si ch2nc ohoooosio2hvchemistry letters.2000, 228(4)其它含硝基的苯基化合物 很多研究着重于结构的改良使得保护基水溶性更好，或者进行结构改造使之适用于新的反应，或者对照射光波长进行选择以提高收率。a.

6、对醛酮的保护r1or2o2nno2ohhophh , pptshv,350nmo2nno267-92%oor1r2j. org. chem. 2003, 68, 1138-1141长链端酮，大环酮，长链共轭醛产率较好tetrahedron .2005, 61, 58495854r1or2o2nno2ohhophh , pptshv,350nmo2nno2oor2r1ooooooootetrahedron .2005, 61, 58495854machanism：（b）对醇的保护o2nbrbrno22roh,agx orh2o,caco3;2rbr,bu4ni,naoho2nroorno2hv2

7、roh+onoono*此类二聚保护基产率更高此类二聚保护基产率更高chem.commun. 2004, 27282729* alcohol：poor leaving groupsroh:ohbochnobnn-c16h33ohn-prohohbnohangew. chem. int. ed. 2004, 43, 2008 2012michael c. pirrung*, organic letters. 2001, 3, 1105* in automated photochemical dna synthesis2苯甲酰甲基衍生物苯甲酰甲基衍生物ooophnhbochvohoophnhboco

8、hoophnhbocmeohomeo+hoophnhboc90%in meohhvohoorin apolar solventooorho+hoophnhboctmpetr klan,* organic letters. 2000, 2, 1569-1571.* 氨基酸氨基酸中羧基的保护中羧基的保护peter g. conrad ii, organic letters, 2000, 2, 1545-1547.mechanism：3 3其他保护基其他保护基or2r1brohvr1or2hohoobro+obrhooor1r2hvohr2r1ho+obrhoolin, w.; lawrence,

9、d. s. j. org. chem. 2002, 67, 2723. 该保护基含有的醛基或是二醇结构可以用于保护二醇或是醛酮。(1)保护二醇或醛酮保护二醇或醛酮mechanism:obrhoooorrobrhoooorrobrhoooorrobrhooohorrohohrohrobrhooohhvsolvent: h2ointramolecular ion pair(2) 保护醇及羧酸结构保护醇及羧酸结构ohohorohohorhvooooh+rohoohohr300nmalexey p. kostikov. joc. 2007, 72, 9190-9194 4.4.含硅保护基含硅保护基*

10、* 含硅保护基在一般有机合成，核苷合成中得到了有效的应用。oacsirclroacsihr2clh2ptcl6r=me,i-pr1. linme22. rohsirorrohohsiorrrhv:254nmosirrrohsolvent:meohroh:ohohohohohototbs5 5光诱电子转移光诱电子转移 对于含有邻近二醇，氨基醇，氨酯的化合物，c-c键由于受到光诱电子转移而削弱进而有效地断裂。由此在引入的保护基可通过光诱电子转移脱去。(1)(1)对醛酮的保护对醛酮的保护tetrahedron. 2006, 62, 65746580(2)(2)对氨基的保护对氨基的保护tetrahedron letters. 2000, 41, 20972