光学薄膜的分类及发展趋势

1、光学薄膜的发展趋势及分类、 关键技术汇总科学的发展正在改变传统的光学薄膜的面貌， 其应用也由原 来的纯粹为光学仪器服务，逐渐渗透到通信、建筑、防伪、医疗 和空间技术等领域。而新工艺、新材料、新技术的采用，或用来 提高其性能 ,或与其他薄膜结合构成新的器件，如与电学膜结合 起来的光电子薄膜，与高分子有机材料结合起来的光学有机薄 膜。这些薄膜有着潜在而十分广阔的应用前景。 新型光学薄膜如 高强度激光膜、金刚石及类金刚石膜、软 X 射线多层膜、太阳 能选择性吸收膜和光通信用光学膜的制备及其在器件方面的研 究和应用情况。 下面就目前及未来几年应用广泛、 符合薄膜发展 方向的设备及技术进行阐述：一、磁控

2、溅射设备及工艺技术在光学薄膜领域，真空蒸发技术占据主导地位已经超过 50 年，并且一直在不断发展。高性能的电子枪、离子辅助镀膜、低 压反应离子镀膜、 高精度的监控技术、 自动化的镀膜过程等一系 列的进展， 使得蒸发技术达到了极高的水平， 制备出了 DWDM 、 GFF 增益平坦滤光片等高性能的薄膜元器件， 令人叹为观止。 但 是，随着蒸发镀膜机性能的不断提高，结构亦愈复杂，目前需要 控制的工作参数已经超过 30 个。并且随着真空室状态的变化， 还需要适当修正一些参数， 因此使过程十分复杂， 成为各种故障 的潜在因素，生产中已经感到不便。磁控溅射的工艺过程简化了许多， 需要控制的工作参数约为 l

3、o 个左右， 更容易实现过程自动化。 溅射薄膜的高聚集密度使其 特性对真空室的初始状态不太敏感， 所以溅射薄膜的再现性会有 所提高， 进行工业化生产具有明显的优势。 反应磁控溅射技术目 前还不太适宜在弯曲面型的基底上淀积成膜； 以时间为监控参数 使得各个膜层厚度误差之间互不相关； 对于多种膜系及膜料的适 应程度不及蒸发技术；上述问题都是磁控溅射的局限性。但是， 磁控溅射在光学薄膜领域中的应用将日益广泛， 可能会成为一种 趋势。磁控溅射在光学多层介质膜的工业化生产中的发展空间巨 大，设备和靶材料的成本将随着应用的广泛而得以降低。 在一定 范围内，蒸发镀膜将会逐步为磁控溅射镀膜所替代。近年来， 磁

4、控溅射技术的应用日趋广泛， 在工业生产和科学 研究领域发挥巨大作用。 随着对具有各种新型功能的薄膜需求的 增加，相应的磁控溅射技术也获得进一步的发展。研究内容：1) 设备的引进调试及工艺参数优化2) 产品的调研及开发应用3) 靶材的选择及利用率的提高。二、真空紫外薄膜真空紫外 (VUV) 是一种波长范围为 100200nm 的不可见光 线 , 由于真空紫外光波长短、热效应不强等独特特性 , 而广泛应用于工业 （半导体芯片生产、 在塑料上雕刻图形 ）、医学 （片上生物 工厂的制造 ）装置、天文、侦破等领域。特别是随着高密度信息 存储、大规模集成电路以及惯性约束核聚变等近代科学技术的发 展, 人们

5、对存储密度、仪器集成度的要求越来越高, 紫外波段高功率激光系统的发展愈来愈受到重视。 而紫外薄膜正是支持紫外 光路系统的重要元件 ,它们的光学性能影响制约着整个系统的效 率。紫外薄膜还应用于各种准分子激光及 Nd:YAG 激光的 3 倍频 （355nm）, 4倍频激光（266nm）等领域，它的激光损伤阈值是关键。 近年来 , 100200nm 激光在许多以未来为导向的领域内迅速发展 尤其是同步辐射在世界领域所取得的突破性进展 , 大大促进和 带动了真空紫外波段薄膜材料的研究。 德国夫琅和费研究所和意 大利的M. Trov b等合作对VUV膜进行了系列研究，得出了很多 有意义的成果。对于真空紫外

6、薄膜 , 全面考虑其光学性质、机械性能及化学 稳定性 , 比较适用的材料并不多 , 主要包括金属材料和介质材料 金属材料中最有潜力的是铝 , 介质材料主要包括氧化物材料和 氟化物材料。对于特定的真空紫外材料来说 , 其性质往往随不同 沉积设备和不同操作方法而各异。金属铝膜因在80120nm范围都具有较高的反射率而得到大 量研究。 金属膜在整个真空紫外、 甚至极紫外领域都能得到较高 的反射率 , 加上金属薄膜截止带宽、中性好和偏振效应小等 , 对 于设计一些特殊应用的膜系具有重要的作用。 但金属通常比介质 存在更大的吸收 , 因而反射率不会很高 , 且损伤阈值偏低 , 一定 程度上限制了金属膜的

7、应用范围。介质薄膜中氧化物薄膜因机械应力小 , 环境稳定性比氟化 物薄膜好 , 而在 193nm 得到广泛应用。 在真空紫外波段 , 所用的 氧化物材料主要是 AI2O3和SiO2。氟化物材料带宽大、吸收系 数小 , 是真空紫外波段中 190nm 以下波段的首选介质材料 , 但 氟化物材料对同步辐射和 CH 污染都比较敏感 , 为此需要外镀 保护层。研究表明,SiO2能起到最好的保护效果。沉积了致密SiO2 保护层的氟化物高反膜 , 在中心波长 180nm 处可得到接近 99% 的反射率。氟化物减反膜在157 nm处可得到0.1%以下的反射率； 到目前为止 , 氟化物薄膜最好的沉积工艺是热舟蒸

8、发。在真空紫外波段 , 薄膜材料的本征吸收增加 , 各种微观缺陷 如杂质引起的吸收、膜层表面的非理想性引起的散射、水分和 CH 的污染等都会对膜层的光学性能造成很大影响。因此 , 该波 段薄膜的沉积对工艺稳定性提出了更高的要求。因此 , 对真空紫 外波段光学薄膜的研究主要集中于对氟化物材料以及相应的沉 积工艺的研究。主要研究内容：1. 材料的调研选取和蒸镀设备的确定；2. 沉积方式和工艺参数的优化；3. 市场趋势的调研及应用分析和膜系的设计；三、薄膜测试设备要制备高性能的光学薄膜器件， 薄膜的特性测试是十分重要 的，也是十分基础的技术。目前光学薄膜行业流行的一句话说： 只要能测出来的特性， 就

9、一定能制备的出来。 由此可见光学薄膜 检测技术在薄膜器件制备工作中的重要性。光学薄膜检测技术主要包括： 光学特性测试、 光学参数测试 及非光学特性测试。1. 激光损伤阈值测试 薄膜光学元件是激光系统中最薄弱的环节,如何提高它们的激光破坏强度对提高高功率激光系统的输出功率很有实际意义。 发展紫外薄膜同样需要激光损伤及阈值测试设备的支持。 由于薄 膜损伤机制的复杂性和薄膜本身结构的复杂性， 加上损伤的检测 方式、 对损伤的检测标准各不相同， 不同实验室测得的损伤阈值 可比性很差， 所以有必要对不同标准之间的关系和使用环境有更 深一步的了解。研究内容：1）损伤实验装置的实现；2）损伤检测标准的确定；

10、3）薄膜损伤的检测方式和损伤阈值的确定标准；4）损伤实验膜系、材料、工艺的选取及优化；2. 薄膜光学常数及光谱特性测量 折射率和厚度是光学薄膜的两个非常重要的光学常数。 在设计和计算光学薄膜元件的特性时， 由于薄膜的光学常数是随着制 备工艺的不同而不同， 因此要制备性能稳定的薄膜器件， 要提高 薄膜器件生产制备的成品率， 就必须精确地检测出各种各样制备 工艺下的薄膜器件的光学常数。 因此薄膜光学常数的测试是一个 十分重要的内容。椭圆偏振法是薄膜光学参数测试的非常灵敏的方法， 特别是 在非透明的薄膜光学常数的测试方面。 近几十年来， 随着自动椭 偏仪的发展和完善， 椭偏光谱技术作为表征光学性质和

11、块材以及 薄膜分层结构的一种非破坏性工具已经逐渐地普及。 与传统的测 试手段相比，它具有非破坏性、非苛刻性、高精度和高灵敏度等 优点。通过椭偏测量， 可以在很短的时间内得到从近紫外到近红 外范围内的椭偏参数 书和随波长变化的全谱。然后对 书和 进行解谱，可以得到诸如介电常数、光学常数、膜层厚度和复合 膜中各个成分的组分等参数。逐渐成为测量超薄膜、超晶格、多 层膜等各种薄膜材料的厚度和光学常数的一种重要的技术手段。椭圆偏振测量的应用范围很广泛，如半导体、光学掩膜、金 属、介质薄膜、激光反射镜、大面积光学膜等都适用。椭偏法除 了可以测试薄膜的基本光学常数之外， 还可以用来测量薄膜的偏 振特性、 色

12、散特性和各项异性， 有助于这方面薄膜产品的扩展开 发。研究内容：1. 测试设备的使用及实现方式；2. 测量结果对各种膜系的适用程度；3. 利用测量设备进行偏振膜的试制。四、中远红外薄膜五、偏振片六、超硬膜类金刚石膜80 年代以来，意大利真空技术中心等已用热灯丝化学气相 沉积等方法成功地在锗（Ge）基底上制备出性能优良的类金刚石 薄膜，在 811um 的平均透过率达 87%。该中心还研制成功高质 量的金刚石薄膜，主要性能已达到世界先进水平，至 90 年代， 各种新的镀膜技术不仅可以在锗、 硅、硫化锌和石英等光学材料 上，也可以在塑料和金属材料上制备出金刚石薄膜和类金刚石薄 膜。由于具有良好的红外

13、透射特性，硬度最高，化学稳定性好， 在航天技术中可作为整流罩。随着薄膜制备技术的进一步发展和完善， 金刚石薄膜也能在 实验室用常压常温来制造。 由于金刚石薄膜在光学上的优势： 从 紫外（225nm）直到远红外（100卩m宽阔的光谱范围内具有良好 的透过特性， 而其体积模量、 杨氏弹性模量等在已知物质中也是 最高的， 所以它具有极稳定的物理和化学性质且高硬度、 高热导 率、耐酸碱的腐蚀、热膨胀系数小、空气摩擦系数小、质量又轻 还具有合适的折射率，若敷在常用的红外锗、硅基底上，还有明 显的增透作用， 因此金刚石薄膜成为卫星探测窗口、 高马赫数飞 行的红外制导导弹的整流罩及许多机载红外整机系统的窗口

14、和 透镜的最理想的增透保护膜。由于光学薄膜成膜技术和设备的不断发展、 改进以及高新技 术的采用，原来只能在锗、硅、硫化锌、硒化锌和石英等光学材 料上镀制金刚石薄膜和类金刚石薄膜， 现在也能在塑料和金属材 料上制备出金刚石薄膜和类金刚石薄膜。研究内容：1. 薄膜沉积方式、设备的选取；2.七、高激光阈值薄膜 长期以来，激光对光学薄膜元件的破坏是限制激光向高功 率、高能量方向发展的“瓶颈” ，也是影响高功率激光薄膜元件 使用寿命的主要原因。 因此， 提高光学薄膜的激光损伤阈值尤为 重要。近年来 , 制备高反射膜 , 底折射率材料一般用 SiO2, 高反射 率材料一般是用 HfO2 、 ZrO2 、 Ti3O5 等，交替沉积上述的高低 折射率材料制备而成的。由于 HfO2 具有从近紫外到中红外的良 好透光性 , 有较高的折射率和非常好的化学稳定性 , 交替沉积的 光学薄膜经激光预处理后阑值增加明显等优点 , 使它成为目前 制备高阂值光学薄膜的优异材料而备受重视。研究内容：1. 抗激光薄膜材料的选取；2. 激光损伤阈值测试装置的实现；3. 抗激光膜系的设计及工艺参数优化。八、低应力形变膜九、