精密双面抛光机的设计-1ppt课件

1、精细双面抛光机的设计 目目 录录l课题背景l超精细加工技术l精细双面抛光技术简介l精细双面抛光机的设计l结论与展望 课题背景课题背景l随着光电子信息产业的快速开展，要求光电子元件基片的蓝宝石、单晶硅不仅具有超光滑的外表，而且两平面要有极高的平行度。采用双面抛光加工光电子晶片可获得较高加工效率及优良的加工外表平整度与光洁度。l但加工设备复杂，加工工艺要求也极为严厉，国际上只需美国、日本、英国等少数工业兴隆可以消费精细双面抛光设备。国内正处于起步阶段。l本文分析了精细抛光技术的开展方向，搜集了了一些双面抛光方面相关的资料，着重对抛光机的根本构造进展了设计。超精细加工技术超精细加工技术l超精细加工技

2、术是以高精度为目的的技术，它必需综合运用各种新技术，在各个方面精益求精的条件下，才有能够突破常规技术达不到的精度界限，到达新的高精度目的。l超精细加工的手段：l 超精细切削，如超精细金刚石刀具镜面车削、销削和铣削等l 超精细磨削、研磨和抛光l 超精细微细加工(电子束、离子束、激光束加工以及微硅器件的加工、 LIGA技术等)精细双面抛光技术精细双面抛光技术l双面抛光机原理图l双面抛光机运动分析双面抛光机原理图双面抛光机原理图1-下抛光盘 2-内齿圈 3-上抛光盘 4-抛光垫 5-中心齿轮6-气缸 7-压力传感器 8-工件 9-行星坚持架 10-皮带 11-减速器 12-电机 运动分析运动分析精细

3、双面抛光机的设计精细双面抛光机的设计l双面抛光机构造图l传动系统构造图l控制部分的设计双面抛光机构造图双面抛光机构造图传动系统构造图传动系统构造图控制部分设计控制部分设计l电气控制系统图l人机交互界面电气控制系统图电气控制系统图人机交互界面人机交互界面结论与展望结论与展望l结论l抛光机机械电气性能提高展望l网络化群控纳米级超精细抛光机的研制开开展望 结结 论论 微电子、与信息产业的飞速开展，对于单晶硅片、石英晶片等元器件基片的抛光加工到达超平滑外表加工要求越来越剧烈，开发研制我国自主的双面抛光加工机已成为必然趋势。目前我国有各种微电子资料加工厂和电子元件厂数百家，均需求双面抛光加工机完胜利能资

4、料基片超精细加工的要求，全国有上千台这种设备的市场需求。此研讨工程的完成将促进我国超精细加工研讨接近国际先进程度，并可提高我国微电子信息资料加工行业在国际上的竞争力，具有非常宽广的运用和产业化前景。抛光机机械电气性能提高展望抛光机机械电气性能提高展望 目前的抛光机已能运用于超精细抛光消费与科研，但还有许多值得改良的地方。目前抛光压力采用菇码调理，不能实现压力的缓慢加载与缓慢卸载;抛光液流量的进一步稳定;抛光盘应采用冷却液淋浴、恒温油循环、热源隔离等措施，以坚持整机处于恒温形状;抛光机主轴运转平稳性的进一步提高，如运用气浮轴承替代的运用;采用热对称构造，低热变形复合资料，从构造上使热变形得到抑制

5、;整个机床有隔振构造;机械静刚度的提高;进给系统静刚度与精度的进一步提高。网络化群控纳米级超精细抛光机的研制开开展望网络化群控纳米级超精细抛光机的研制开开展望 以往的抛光机(包括目前世界上最先进的美国Speedfam公司消费的抛光机)其控制方式还停留在对抛光过程单参数的独立控制。没有最正确加工工艺参数专家数据库控制系统，对操作人员的技术程度要求高，人为影响要素多，如在改换和调整工件时，必需由人工调整各抛光工艺参数，并经过多次实验调整来到达最正确的工艺情况。且每台抛光机均独立操作和控制，加工质量的离散度大，容易呵斥加工质量不稳定、工段不延续和加工效率低下。从而很难保证产品加工质量的高度一致性。网络化群控纳米级超精细抛光机的研制开开展望网络化群控纳米级超精细抛光机的研制开开展望 目前我们研制胜利的智能型超精细抛光机已具有最正确加工工艺专家数据库，己能保证产品加工质量的高度一致性，但每台抛光机均独立操作和控制，加工效率低下。假设能在以后的抛光机研制中运用计算机网络综合管理，将给超精细抛光效率、质量的提高带来长足的进展。 抛光网络群控系统的主要特点在于消费规模大型化，消费过程的延续化，实现多台、多工序集中控制和远程控制。抛光网络群控系统的主要目的在于提高消费管理程度;促进消费决策科学化:实现信息集成，提高消费、运营综合分析才干;优化消费方案;优化消费调度、提高产品产量和质量，