水的电阻率和电导率

1、水的电阻率和电导率水的电阻率是指某一温度下，边长为1cm正方体的水的相对两侧间的电阻，单位为Q.cm（欧姆厘米）、MQ .cm （兆欧姆厘米）。电导率为电阻率的倒数，单位为 S/cm （西门子每厘 米）、s/cm （微西门子每厘米）。水的电阻率（或电导率）反映了水中离子含量的多少。是水纯度的一个重要指标，水的纯度越高，离子含量越低，水的电阻率越大（电导率越小）。水的电阻率（或电导率）受水的纯度、温度及测量中各种因素的影响，纯水电阻率（或电导率）的测量通常选择动态测量方式（又称在线检测），并采用温度补偿的方法将测量值换算成25的电阻率，以便于进行计量和比较。在线测量电阻率或电导率时，将电导电极或

2、测量装置与被测水系统管道相连接。通水将管道测量装置与电导池（又称测量电极）中的气泡驱尽，调节水流速（一般不低于0.3m/s ） ，通常电阻率仪或电导率仪都会带有温度测量的功能，可以直接显示补偿到25的电阻率、电导率值。电阻率在1 兆以下的纯水，也可以用离线式电导率仪检测，与在线检测误差基本一致，当检测电阻率大于1 兆欧的高纯水或超纯水时，则必须采用在线检测的方法，因为离线检测受环境干扰会产生相当大的误差。纯水水质指标,超纯水水质指标水质指标推荐使用行业电导率010M S/CM 动物饮用纯水（医药）、普通化工原料配料用纯水、食品行业配料用纯水、普通电镀行 业冲洗用去离子纯水、纺织印染用除硬脱盐纯

3、纯水、聚脂切片用纯纯水、精细化工用纯水、民用饮用纯净纯水用纯水、其它有相同纯水质要求的用纯水.电导率04MS/CM电镀化学品生产用纯水、化工行业表面活性剂生产用纯水、医用纯化纯水、白酒生产用纯纯水、啤酒生产用纯纯水、民用饮用纯净纯水用纯水、普通化妆品生产用纯水、血透纯纯水机用纯水、其它有相同纯水质要求的用纯水.电阻率510MD.CM锂电池生产用纯水、蓄电池生产用纯水、化妆品生产用纯水、电厂锅炉用纯纯水、化工厂配料用纯水、其它有相同纯水质要求的用纯水.电阻率：1015MQ .CM动物实验室用纯水、玻壳镀膜冲洗用纯水、电镀用纯纯水、镀膜玻璃用纯水、其它有相同纯水质要求的用纯水.电阻率）15 MQ

4、.CM医药生产用无菌纯水、口服液用纯水、高级化妆品生产用去离子纯水、电子行业镀膜用纯水、光学材料清洗用纯水、电子陶瓷行业用纯纯水、尖端磁性材料用纯纯水、其它有相同纯水质要求的用纯水电阻率）17 MQ .CM磁性材料锅炉用软化纯水、 敏感新材料用纯水、 半导体材料生产用纯水、尖端金属材料用纯水、防老化材料实验室用纯水、有色金属，贵金属冶炼用纯水、钠米级新材料生产用纯水、航空 新材料生产用纯水、太阳能电池生产用纯水、纯水晶片生产用纯水、超纯化学试剂生产用纯水、实验室用 高纯纯水、其它有相同纯水质要求的用纯水.电阻率）18 MQ .CM ITO导电玻璃制造用纯水、化验室用纯水、电子级无尘布生产用纯水

5、等其它有相同纯水质要求的用纯水。美国半导体工业用纯水指标美国半导体工业用纯水指标项目化学指标单位：I级g g/LII级田级IV级残渣,mg/L0.10.30.30.5TOC mg/L0.020.050.100.40颗粒，粒/L500100025005000细菌数，个100mL061050活性硅SiO2, g g/L351040电阻率MQ - cm18.317.917.517.0阳离子，g g/L0.22.05.0*铝 Al3+0.22.05.0*俊 NH4+0.30.30.5*铭 Cr6+0.020.10.5*铁 Fe 3+0.020.10.2*铜 Cu 2+0.020.10.5*钮 Mn 2

6、+0.050.51.0*钾K +0.10.31.04.0钠Na +0.050.21.05.0锌 Zn 2+0.030.10.5*阴离子，g g/L0.10.10.3*澳Br -0.10.10.3*氯Cl-0.050.20.8*亚硝酸根NO2-0.050.10.3*硝酸根NO3-0.10.10.5*磷酸根PO43-0.20.20.3*硫酸根SO42-0.050.31.0*工业纯水纯度指标更新时间：09-1-8 16:23美国半导体工业用纯水指标化学指标单位：g g/L顷目I级卫级w级IV级残渣，mg/L0.10.30.30.5TOC , mg/L0.020.050.100.40颗粒，粒/L500

7、100025005000的菌数，个100mL061050活性硅SiO2 , gg/L351040电阻率MD - cm18.317.917.517.0阳离子，1 g/L0.22.05.0*铝 Al3+0.22.05.0*镂 NH4+0.30.30.5*te Cr6+0.020.10.5*卜 Fe 3+0.020.10.2*卜同Cu 2+0.020.10.5*M Mn 2+0.050.51.0*竹K +0.10.31.04.01内Na +0.050.21.05.0卜 Zn 2+0.030.10.5*,离子，gg/L0.10.10.3*卜臭Br -0.10.10.3*kCl -0.050.20.8*

8、卜硝酸根NO2-0.050.10.3*卜肖酸根NO3-0.10.10.5*卜酸根PO43-0.20.20.3*M酸根SO42-0.050.31.0*2、工业纯水应用领域:行业领域主要用途医药无菌、无热源纯水。各项指标均达国家 2000版及美国药典24版的要求，完全符合GMP等认证标准. 制药、针剂用纯水、高纯水、无 菌水等 保健品、口服液生产用纯水工程 药品原料、中间产品提纯分离食品、饮料水质纯净、稳定、无菌各项指标均达到企业或国家相关标准。 纯净水、矿泉水生产 食品、饮料生产用纯净水 宾馆、楼宇、生活小区直饮水电子达到美国SEMI标准和国家电子级四级用水标准（最高级）电路板生产用水 微电子产

9、品生产用高纯水 半导体、显象管等制造业用高纯 水 电脑电路板等集成电路板生产用 高纯水 太阳能电池、干式电池等电池生 产用水锅炉、冷用于各种锅炉补充水及设备的冷却高质量的水质使您的设备运行更安全可靠。 电厂、工厂高中低压锅炉用水 空调、冷库等循环用水 其它工业循环用水化工、电镀高品质的水能使化工产品质量胜人一筹。 纺织印染、造纸用水 化工试剂生产用纯水 电镀、玻璃镀膜用高纯水苦咸水、海水淡化适用于沙漠、沿海地带、海岛及渔船上的生活饮用水。沙漠苦咸水淡化系统海水淡化系统生物工程高纯水和膜技术的应用是高新技术 发展的必要基础。生物制剂酶的提取蛋白质分离实验室用水为实验室提供优质、节能、简便、多用的

10、新型高纯水机化学实验室物理实验室应用领域和指标要求参考用途用水指标参考标准单晶硅、多晶硅、太阳能电池、氧化铝用塌、光伏玻璃等生产电阻率 15 18.25 MD .CM我国电子级水质技术指标，GB11446-1-1997美国半导体工业用纯水指标单晶硅半导体集成电路块，显像管、玻壳、液晶显示器等制造工业电阻率 15 18.25 MD .CM美国半导体工业用纯水指标我国电子级水质技术指标，GB11446-1-1997光学材料清洗用水、电子陶瓷行业用纯水、尖端磁性材料用纯水电阻率 10 17 MD .CM我国电子级水质技术指标，GB11446-1-1997美国半导体工业用纯水指标蓄电池、锂电池、锌镒电

11、池生产电阻率5 10 MD .CM我国电子级水质技术指标，GB11446-1-1997有色金属、贵金属冶炼用水、纳米级新材料生产用水、航空新材料生产用水、ITO导电玻璃制造用水、电子级无尘布生产用水电阻率15 18.25 MD .CM我国电子级水质技术指标，GB11446-1-1997美国半导体工业用纯水指标主要工艺流程和出水指标：预处理+反渗透+离子交换器（电阻率）15MD.CM）预处理+二级反渗透+EDI （电阻率）15MD .CM）X预处理+二级反渗透+脱气膜+EDI +抛光混床（电阻率）18.25MQ.CMD详细工艺需根据原水设计情况进行设计纯水设备的主要特点采用进口反渗透膜，脱盐率高

12、，使用寿命长，运行成本低廉，产水水质高而稳定； 在线水质监测控制，实时监测水质变化，保障水质安全； 全自动电控程序，还可选配触摸屏操作，使用方便，操作简单、安全； 切合当地水质的个性化设计，设想周到的堆叠式设计，占地面积小，全方位满足需求。运行费用及维修成本低，全自动运行，实现无人化管理操作。应用领域和指标要求参考用途用水指标纶巧标准单晶硅、多晶硅、太阳能电池、氧化铝塔端、 光伏玻璃等生产电阻率 15 18.25 M Q.CM我国电子级水质技术指标，GB11446-1-1997美国半导体工业用纯水指标单晶硅半导体集成电路块，显像管、玻壳、 液日日显/、鹤等制造工业电阻率 15 18.25 M Q.CM美国半导体工业用纯水指标 我国电子级水质技术指标，GB11446-1-1997光学材料清洗用水、电子陶瓷行业用纯水、 尖端磁性材料用纯水电阻率1017 MQ.CM我国电子级水质技术指标，GB11446-1-1997美国半导体工业用纯水指标蓄电池、锂电池、锌镒电池生产电阻率510 MQ.CM我国电子级水质技术指标，GB11446-1-1997有色金属、贵金属冶炼用水、纳米级新材料