热阻蒸发仪配置和技术指标

1、热阻蒸发仪配置和技术指标一.设备概述：主机与控制一体化设计，PLC触摸屏控制，操控方便，结构紧凑，占地面积小。设备广泛应用于高校、科研院所的教学、科研实验以及生产型企业前期探索性实验及开发新产品等应用。真空电阻蒸发镀膜设备，配3组蒸发源。适用于实验室制备金属单质膜、半导体膜、钙钛矿太阳能电池、锂电池、有机膜等，也可用作教学及生产线前期工艺试验等。1. 适用于镀制低熔点金属及合金材料薄膜，单层/多层/复合膜，例：铜、镁、铝、金、银、钡、铋、锌、锑等；2. 适用于传感器、电池、LED等的研究和实验；3. 适用于有机材料等蒸发；4. 适用于镀制非金属/化合物等材料薄膜；例：氧化钼、氟化鋰等；5. 适

2、用于扫描电镜制样等二.设备主要技术参数：1.真空腔室：304真空专用不锈钢，L400W440H450mm，方形前开门结构；2.真空系统：复合分子泵+直联旋片泵+高真空挡板阀，“两低一高”数显复合真空计；3.真空指标：极限真空优于6.610-5Pa（设备空载抽真空24小时），升压率0.8Pa/h；4.抽速：空载从大气抽至10-4 Pa45min；5.基片台：抽屉式结构，承载最大小于120120mm基片；电机驱动基片台旋转，旋转速度020转/分钟可调；手动升降，升降高度080mm；可根据要求定制1种掩膜板（提供掩膜图案）；6.基片台加热：加热温度：300，PID智能温控闭环控制；7. 蒸发源：金属

3、源:水冷铜电极 3组；逆变式蒸发电源，功率 3kW，1台；配3组气动挡板及源间防污隔板；8.膜厚控制系统：选配高精度晶振膜厚仪在线监测、控制膜厚；9.控制方式：PLC+触摸屏控制方式；10.报警及保护：对泵、电极等缺水、过流过压、断路等异常情况进行报警并执行相应保护措施；完善的逻辑程序互锁保护系统。11. 保修期：整机保修叁年，终身维修服务。三.设备结构简述：1.真空腔室（1） 结构：采用立式、圆形前开门结构，方便取、放样品及真空腔室日常维护；（2） 材料及尺寸：采用304真空专用不锈钢，400H450；所有焊缝连接均采用氩弧自动焊接技术；镀膜腔室（包括管道、连接法兰等）均进行清洁处理，内表面

4、抛光，外表面电抛三项处理，以减少“出气”量，有利于真空度的提高及耐腐蚀；（3） 主要接口装配位置：预留接口：四个（CF35,LF26），膜厚监控及拓展功。2. 基片台（1） 基片台：不锈钢抽屉式结构，承载最大小于120120mm基片；基片台可从基片架组件中取出，方便用户安装基片；（2） 配有气动基片台挡板；（3） 电机驱动旋转基片台，转速0-20 rpm；主轴磁流体密封；（4） 手动升降样品台：可有效提高贵重材料利用率及膜厚（焊接波纹管密封，蒸发源到样品垂直距离230-300mm可调）；（5） 基片台加热：最高加热温度300，采用1.5KW金属铠装加热器及金属反射板上整体安装于基片台背部对基片

5、进行平行辐射加热，采用热电偶测温、PID智能温控仪控制；加热器加热范围大于基片外沿50mm，保证样片处于等温加热区内，温度均匀性5；（6） 标准基片台配夹具，方便装卡不同规格的基片，基片台可按照用户要求个性化定制。3蒸发源及电源（1） 六组蒸发源及挡板接口圆周均布；（2） 金属蒸发源：3组，金属蒸发源采用铜水冷蒸发电极及舟式或锥形坩埚式，（3） 最高蒸发温度：室温1300（真空状态）；（4） 金属蒸发电源：功率3KW 1台；特点：电流通过逆变式调控，稳定可靠。电源可切换供3组电极分时蒸镀；（5） 蒸发源配3组气动挡板及源间防污隔板；（6） 蒸发舟配件：钼舟20个；石英坩埚10只。4.真空系统（

6、1） 真空机组采用“复合分子泵+直联旋片泵”准无油真空系统；（2） 复合分子泵：FF200/1200C,抽速1200 L/S；（3） 机械泵型号：TRP-36,9L/S，直联旋片泵，内置挡油阀；（4） 真空阀门：主阀GDQ-S200, 气动高真空挡板阀；（5） 前级阀/旁路阀：GDQ-J40；（6） 真空测量：“两低一高”（两只电阻规测量低真空，一只电离规测量高真空） 数显复合真空计，测量范围从1105Pa到110-5Pa；（7） 真空密封：可拆静密封采用氟橡胶圈密封；不常拆静密封。5.强制水冷报警保护系统（1） 总进水与总出水接制冷循环水机，水温需控温范围10-25 。给电极、分子泵、提供稳

7、定的制冷循环水，保证设备稳定运行；（2） 水路：标准进出水口及水排分配，保障循环供水到每个水冷部件；（3） 水压传感器：1套，总进水采用水压继电器检测供水及水压状态，执行异常报警。6. 薄膜厚度监控系统设备系统安装有薄膜厚度监控系统，可精确控制蒸发过程中沉积薄膜的厚度。膜厚仪探头接口从真空腔室预留CF35 法兰引入；晶振探头安装在靠近基片台附近，用以实时监测镀膜速率和终厚，精度可达1（0.1nm）。具备与电源联锁控制功能，若镀膜达到设置厚度，可自动切断电源，停止镀膜，实现自控膜厚之目的。7.电气控制系统（1） 电气控制系统采用PLC+触摸屏控制抽真空系统，可实现自动一键式抽真空，蒸发镀膜电源采

8、用手动控制，以方便用户进行镀膜工艺参数的摸索；（2） 控制内容：总供电、分子泵、机械泵、阀门；分子泵电源参数显示及开关控制；真空计参数显示及控制；基片台转速控制；基片加热温度控制等；（3） 安全保护报警系统：在缺水、水压过低、电源过流、短路等异常情况执行相应保护措施；完善的逻辑程序互锁保护系统。8.机架与控制柜约L1650W750H1800一体化设计，只留前开门，铝型材及碳钢制作，表面喷塑处理，支撑真空腔体、真空系统及电气控制系统，底下配脚轮，方便移动、定位。四. 设备配置序号系统/部件型号/参数数量1真空腔室L400W440H450mm,304优质不锈钢（方箱型）1套80 mm 配磁力档板1

9、套腔室防护板1套2旋转升降基片台抽屉式结构，承载最大120120mm基片电机驱动主轴磁流体密封，手动调节高度，0-80mm高度可调（可按用户要求定做一套掩膜板）1套基片台加热铠装加热器，最高加热温度300，日本岛电温控仪控温及热电偶加热电源闭环精确控温1套基片台挡板电气动控制开合式1套3金属蒸发源及电源水冷蒸发电极 6根组成3组3组蒸发源配挡板，防止交叉污染3套金属蒸发电源：功率3kW1台有机蒸发束源式有机蒸发源，石英坩埚容量2CC，角度可调倾斜指向基片台2组PID智能控温式蒸发电源：功率1kW 2组源挡板每组独立挡板，源间有隔板5组蒸发舟/坩埚钼舟20个；石英坩埚10只。1批4真空系统复合分子泵：FF200/1200C1台机械泵：TRP-361台前级/旁路阀GDQ-J402台高真空挡板阀：GDQ- S200 1台放气阀：6mm，电磁截止阀1只数显复合真空计：二低一高1台波纹管、材质：SUS304不锈钢1套密封件、连接件及其附件1套5水路系统水排：SUS304不锈钢，6进6出1套水压继电器，缺水报警1套6冷却循环水水温不高于 25，水压0.20.4MPa，流量12 升/分钟1套7气路系统电接点压力表气路分配单元1套8膜厚控制系统薄膜厚度监控仪，FTM106，单探头，原装晶振片一盒1套9电气控制系统PLC+触摸屏控制方式；完善的逻辑程序互锁保护系统1套10易损件常