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文档简介

1、半 导 体 答 案第一章1.在各向异性晶体中,其能量可以用波矢的分量表示成:,求出能代替牛顿方程的电子运动方程。解:已知, 定义, , 有, , 或写成:, , 2.已知一维晶体的电子能带可写成,式中为晶格常数。求(1)能带的宽度(2)电子波矢k状态时的速度(3)能带底部和顶部电子的有效质量解:由关系:令,当时,对应为极小值当时,对应为极大值化简原式(利用)将代入,得: ,所以能带宽度=在状态时的速度:底部和顶部的有效质量 3.(作业题)对于晶格常数为的一维晶体,当外加和电场时,分别计算电子自能带底运动到能带顶所需的时间。解:设场强为E,代入数据得:当时,当时,。4.若只计及最近邻的相互作用,

2、用紧束缚近似方法可以得到体心立方晶格S态电子能带由下式确定:其中J为交迭积分。试求:1. 体心立方晶格的能带宽度2. 能带底部和能带顶部的有效质量。3. 画出沿方向和的曲线。解:看出:当时,取极小值:当时,取极大值:在底部附近,当时,利用:取到2次项, ,即底部的有效质量。在顶部附近,设,代入表达式,并展开:当时,沿方向能量、速度为: 5.(作业题)如只考虑最近邻的相互作用,用紧束缚近似方法可以得到简立方晶体中s态电子能带为;试求:(1)能带宽度。 (2)能带底部和能带顶部的电子有效质量。解:在,取极小值。在处,极大值底部:(k=0),用泰勒展开,取二次项有顶近:在处展开:有6.某半导体晶体价

3、带顶附近能量E可以表示为,现将其中一波矢为的电子移走,求此电子留下的空穴的有效质量,波矢及速度。解:因为,因为等能面为球面,有效质量为各向同性,为标量。 空穴有效质量:速度:波矢:7.(作业题)在一维周期性势场中运动的电子波函数分别具有如下形式:(1)(2)(3)(4)解::布洛赫定理: ,:第二章1.玻尔原子的允许轨道半径和能量由下式给出: 证明以上方程可以写成 解:将代入,代入得: (将变为,)代入得:,又2.在半导体中,V族杂质原子外层第五个电子的运动,可以看成是围绕一个正核电荷的圆形轨道上运动,并穿过具有体介电常数的材料。证明,如果介电常数为11.7,则能量为大约的电子,就能在晶体中自

4、由运动。材料晶格常数为.证明:XXX基态的能量为时的值,电子能量只要大于0.099eV,就能脱离核电荷束缚,在中运动,同理可求出基态半径:材料晶格常数只有,最小轨道半径为,略大于,说明电子是在最靠近相邻原子 运动,所以,还是在晶体中运动。 第三章1.设二维正方格子的晶格常数为a,若电子能量可表示为,求状态密度。解:,半径为,状态密度=,2.(作业题)若费米能级为5eV,求出在什么温度下电子占据能量为5.5eV能级的几率为1%,并计算在该温度下电子分布几率从0.90.1所对应的区间。解:由费米分布函数:可得:代入数据得:由费米函数可得:,当时,当时,能量区间为。3.(作业题)两块n型硅材料,在温

5、度T时,第一块与第二块的电子密度之比为。(1)如果第一块材料的费米能级在导带之下,求第二块材料的费米能级的位置。(2)两块材料中空穴密度之比。解:(1)设第一块和第二块材料的费米能级分别为和,利用显然已知,所以,即第二块材料的费米能级是。(2),所以。4.一块有杂质补偿的硅材料,已知掺入受主密度,室温下测其费米能级,恰好与施主能级重合,并得知平衡电子密度为,已知室温下硅的本征载流子密度为,试求:(1)平衡少子的密度(2)材料中施主杂质的密度(3)电离杂质和中性杂质的密度解:由,补偿型n型半导体,杂质电离区,电中性条件:又因为,电离杂质:中性杂质:5.半导体硅样品,施主杂质原子的尝试为,试求在什

6、么温度下它不再呈现本导电性,设。解:【pic_20150518_155105】6.有一半导体硅样品,施主浓度为,受主浓度为,已知施主电离能为,试求:99%的施主杂质电离时的温度。解:,用表示电离施主浓度,电中性条件,令,(受主杂质全部电离),将,将,7.设一n型半导体导带电子的有效质量为,求在300k时,使费米能级的施主浓度。设此时话语杂质电离很弱。解:8.(作业题)现有三个半导体硅样品,已知室温下(300K)它们的空穴浓度分别为, (1)分别计算这三个样品的电子浓度(2)判别这三个样品的导电类型(3)计算这三个样品的费米能级的位置解:(1)室温时硅的,根据载流子,可求出,(2)由以上计算可知

7、由于,故第一块为P型半导体,故第二块为本征半导体,故第三块为N型半导体。(3)当T=300K时,且由得,对这三块材料分别计算如下:即P型半导体的费米能级在禁带中线下0.37eV处因为,所以,即费米能级贪玩基带中心位置对N型材料有,故即对n型材料,费米能级在禁带中心线上0.35V处。9.(作业题)证明补偿型n型半导体中,在低温弱电离区,当XXX时,下面的关系式成立:(?)解:电中性: 杂质电离区, 施主能级被空穴所占据第四章1.(作业题)室温下本征锗的电阻率为,求本征载流子浓度。若掺入锑杂质,使每个锗原子中有一个杂质原子,计算室温下电子浓度和空穴尝试,设杂质全部电离,锗原子的浓度为,求该掺杂锗材

8、料的电阻率,。解:,2. (作业题)(1)试证明在室温下,当半导体的电子浓度时,其电导率为最小值,求在上述条件下的空穴浓度。(2)当,求其本征电导率和电波电导率。(3)当和为何值时,电导率等于本征电导率。解:,又, ,为极小值, 浓度 3.准经典近似下,金属中电子漂移速度为。设,求在频率下的金属电导率。解: ,齐次方程:通解 . 非齐次方程:.代入上式中,求出非齐次方程通解:电流密度:,又,4.在室温下,高纯锗的电子迁移率,设电子的有效质量为,求(1)热运动速度平均值(2)平均自由时间(3)平均自由路程(4)在外加电场为时的漂移速度解:(1)(2)由,(3)(4)5.在掺入硼的非简并p型硅样品中含有一定浓度的铟,在室温下电阻率为,已知所掺硼的浓度,硼的电离能,铟的电离能,求样品中铟的浓度。,。解: 求非简并,铟,只考虑杂质电离电中性条件,求出,得6.(作业题)已知本征锗的电导率在310K时为,在273K时为,一个n型锗样品,在上述两个温度时,其施主杂质浓度。计算在上述两个温度n型锗样品的电导率。,。解:本征锗,当T=310K时,当T=273K

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