一般CMOS电路中的MOS管跟一个单独的NMOS或PMOS管有什么区别_第1页
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文档简介

1、陶显芳答:在弄清什么是之前，首先要弄清什么是和。目前，一般管生产工艺基本上都是以一块型半导体材料（型硅片）为衬垫（基片），然后在型半导体材料上面再外延一层型半导体，型半导体与型半导体之间在垂直方向，相当于一个结，如用电极把两块半导体进行连接，就是一个二极管；如在型半导体的上面再覆盖一层金属氧化物，这层金属氧化物对型半导体是绝缘的，但由于两种不同性质的物体互相接触时，会在接触点（面）产生接点电位差，使金属氧化物和型半导体都会感应带电,这种带电属于极化带电，当型半导体被极化带电之后，其导电性能也会跟着极化带电的程度改变。如果把金属氧化物作为一个电极（极），型半导体作为另一个电极，再在两个电极之间加

2、上电压（一般金属氧化物加正电，型半导体加负电），由于外加电压会改变金属氧化物会与型半导体之间极化带电的程度，型半导体的导电性能也将跟着外电压的大小改变。如果我们利用型半导体的这种导电性能来制造一个器件，它就是场效应管，而位于金属氧化物与型半导体之间的型半导体就相当于一个导电沟道。最后把型半导体的两端引出的一个电极（极）与型半导体连接，并把三个电极、分别引出，就相当于一个（沟道金属氧化物场效应管）。如果把做管的衬垫材料换成型半导体，对应的外延层换成型半导体，利用同样的制造工艺，又可以生产（沟道金属氧化物场效应管）。上面这两种工艺生产的或都是属于管的垂直生产工艺，另外还有一种横向生产管的工艺，这种

3、横向生产工艺是在一块型（或型）型半导体衬垫材料上，同时外延两层（型和型）半导体材料，以及一层金属氧化物（极），再按类似垂直生产工艺的方法把三个电极（、）引出，从横向看它就是一个或场效应管。简单地说，横向管生产工艺，可以看成是把垂直生产工艺旋转度。如果在一块型（或型）型半导体衬垫材料上，同时采用两种工艺（垂直和横向生产工艺）生产管，很容易就可以在一块半导体基片上生产两种不同类型（和）的对管（互补管）。利用对管可以做成互补放大器，也可以利用对管的其中一个当另一个管的负载（电阻），用管当负载电阻，要比用纯电阻省材料、省面积、可以提高集成电路的密度。这种同时采用两种工艺生产的管工艺称为（互补金属氧化物半导体）工艺。目前以上的集成电路生产技术都是属于生产工艺。用工艺生产的管一般耐压都不高，功率也不大，但管导通内阻可

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