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文档简介

1、 离子注入和快速退火工艺 离子注入是一种将带电的且具有能量的粒子注入衬底硅的过程。注入能量介于1keV到1MeV之间,注入深度平均可达10nm10um,离子剂量变动范围从用于阈值电压调整的1012/cm3到形成绝缘层的1018/cm3。相对于扩散工艺,离子注入的主要好处在于能更准确地控制杂质掺杂、可重复性和较低的工艺温度。 高能的离子由于与衬底中电子和原子核的碰撞而失去能量,最后停在晶格内某一深度。平均深度由于调整加速能量来控制。杂质剂量可由注入时监控离子电流来控制。主要副作用是离子碰撞引起的半导体晶格断裂或损伤。因此,后续的退化处理用来去除这些损伤。1 离子分布 一个离子在停止前所经过的总距

2、离,称为射程R。此距离在入射轴方向上的投影称为投影射程Rp。投影射程的统计涨落称为投影偏差p。沿着入射轴的垂直的方向上亦有一统计涨落,称为横向偏差。下图显示了离子分布,沿着入射轴所注入的杂质分布可以用一个高斯分布函数来近似:S为单位面积的离子注入剂量,此式等同于恒定掺杂总量扩散关系式。沿x轴移动了一个Rp。回忆公式: 对于扩散,最大浓度为x0;对于离子注入,位于Rp处。在(xRp)p处,离子浓度比其峰值降低了40%。在2p处则将为10%。在3p处为1%。在4p处将为0.001%。沿着垂直于入射轴的方向上,其分布亦为高斯分布,可用:表示。因为这种形式的分布也会参数某些横向注入。2 离子中止使荷能

3、离子进入半导体衬底后静止有两种机制。一是离子能量传给衬底原子核,是入射离子偏转,也使原子核从格点移出。设E是离子位于其运动路径上某点x处的能量,定义核原子中止能力: 二是入射离子与衬底原子的电子云相互作用,通过库仑作用,离子与电子碰撞失去能量,电子则被激发至高能级或脱离原子。定义电子中止能力: 离子能量随距离的平均损耗可由上述两种阻止机制的叠加而得: 如果一个离子在停下来之前,所经过的总距离为R,则 E0为初始离子能量,R为射程。核阻止过程可以看成是一个入射离子硬球与衬底核硬球之间的弹性碰撞M1转移给M2的能量为: 电子中止能力与入射离子的速度成正比: 其中系数ke是原子质量和原子序数的弱相关

4、函数。硅的ke值107(eV)1/2/cm。砷化镓的ke值为3107(eV)1/2/cm 离子中止两种机制:一是离子能量传给衬底原子核,是入射离子偏转,也使原子核从格点移出。二是入射离子与衬底原子的电子云相互作用,通过库仑作用,离子与电子碰撞失去能量,电子则被激发至高能级或脱离原子。 硅中电子中止能力如虚线所示,交叉能量点是Sn(E)=Se(E)。一旦Sn(E)和Se(E)已知,可计算处射程范围。可以用下述近似方程式来求得投影射程与投影偏差: 3 离子注入的沟道效应前述高斯分布的投影射程及投影的标准偏差能很好地说明非晶硅或小晶粒多晶硅衬底的注入离子分布。只要离子束方向偏离低指数晶向,硅和砷化镓

5、中的分布状态就如在非晶半导体中一样。在此情况下,靠近峰值处的实际杂质分布,可用“高斯分布函数”来表示,即使延伸到低于峰值一至两个数量级处也一样,这表示在下图中。然而即使只偏离晶向7度,仍会有一个随距离而成指数级exp(-x/)变化的尾区,其中的典型的数量级为0.1um。衬底定位时有意偏离晶向情况下的杂质分布。离子束从轴偏离7度入射。 指数型尾区与离子注入沟道效应有关,当入射离子对准一个主要的晶向并被导向在各排列晶体原子之间时,沟道效应就会发生。图为沿方向观测金刚石晶格的示意图。离子沿方向入射,因为它与靶原子较远,使它在和核碰撞时不会损伤大量能量。对沟道离子来说,唯一的能量损伤机制是电子阻止,因

6、此沟道离子的射程可以比在非晶硅靶中大得多。4 离子进入的角度及通道 沟道效应降低的技巧1、覆盖一层非晶体的表面层、将硅芯片转向或在硅芯片表面制造一个损伤的表层。常用的覆盖层非晶体材料只是一层薄的氧化层图(a),此层可使离子束的方向随机化,使离子以不同角度进入硅芯片而不直接进入硅晶体沟道。2、将硅芯片偏离主平面5-10度,也能有防止离子进入沟道的效果图(b)。此方法大部分的注入机器将硅芯片倾斜7度并从平边扭转22度以防止沟道效应。3、先注入大量硅或锗原子以破坏硅芯片表面,可在硅芯片表面产生一个随机层图(c),这种方法需使用昂贵的离子注入机。 5 注入损伤与退火 离子注入中,与原子核碰撞后转移足够

7、的能量给晶格,使基质原子离开晶格位置而造成注入损伤(晶格无序)。这些离位的在也许获得入射能量的大部分,接着如骨牌效应导致邻近原子的相继移位而形成一个沿着离子路径的树枝状的无序区。当单位体积内移位的原子数接近半导体的原子密度时,单晶材料便成为非晶材料。 轻离子的树枝状的无序区不同于重离子。轻离子(11B+)大多数的能量损伤起因于电子碰撞,这并不导致晶格损伤。离子的能量会减低至交叉点能量,而在那里核阻止会成为主导。因此,晶格无序发生在离子最终的位置附近。如下图(a)所示。 重离子的能量损失主要是原子核碰撞,因此预期有大量的损伤。如下图(b)所示。 要估计将单晶转变为非晶材料所需的能量,可以利用一个

8、判据,即认为注入量应该与融化材料所需的能量密度(1021keV/cm3)在数量级上相同。对于100keV的砷离子来说,形成非晶硅所需的剂量为 6 退火由于离子注入所造成的损伤区及畸形团,使迁移率和寿命等半导体参数受到影响。此外,大部分的离子在被注入时并不位于置换位置。为激活被注入的离子并恢复迁移率与其它材料参数,必须在适当的时间与温度下将半导体退火。传统退火炉使用类似热氧化的整批式开放炉管系统。需要长时间和高温来消除注入损伤。但会造成大量杂质扩散而无法符合浅结及窄杂质分布的需求。快速热退火(RTA)是一种采用各种能源、退火时间范围很宽(100s到纳秒)的退火工艺。RTA可以在最小的杂质再分布情

9、况下完全激活杂质。退火:将注入离子的硅片在一定温度和真空或氮、氩等高纯气体的保护下,经过适当时间的热处理,部分或全部消除硅片中的损伤,少数载流子的寿命及迁移率也会不同程度的得到恢复,电激活掺入的杂质分为普通热退火、硼的退火特性、磷的退火特性、扩散效应、快速退火普通热退火:退火时间通常为15-30min,使用通常的扩散炉,在真空或氮、氩等气体的保护下对衬底作退火处理。缺点:清除缺陷不完全,注入杂质激活不高,退火温度高、时间长,导致杂质再分布。7 硼与磷的传统退火 退火的特性与掺杂种类及所含剂量有关 硼的退火特性 1 区单调上升:点缺陷、陷井缺陷消除、自由载流子增加 2 区出现反退火特性:代位硼减

10、少,淀积在位错上 3 区单调上升 剂量越大,所需退火温度越高。 磷的退火特性 杂质浓度达1015以上时出现无定形硅退火温度达到600800 热退火问题:简单、价廉激活率不高产生二次缺陷,杆状位错。位错环、层错、位错网加剧 扩散效应:8 快速热退火 一个具有瞬间光加热的快速热退火系统表为传统炉管与RTA技术的比较。为获得较短的工艺时间,需在温度和工艺的不均匀性、温度测量与控制、硅芯片的应力与产率间作取舍。 快速热退火 9 注入相关工艺多次注入及掩蔽 在许多应用中,除了简单的高斯分布外其它的杂质分布也是需要的。例如硅内预先注入惰性离子,使表面变成非晶。此方法使杂质分布能准确地控制,且近乎百分百的杂

11、质在低温下激活。在此情况下,深层的非晶体层是必须,为了得到这种区域,必须要做一系列不同能量与剂量的注入(多次注入)。 多次注入如下图所示,用于形成一平坦的杂质分布。 为了要在半导体衬底中预先选择的区域里形成p-n结,注入时需要一层合适的掩蔽层。此层要阻止一定比例的入射离子其最小厚度可从离子的射程参数来求得。在某一深度d之后的注入量对回忆式积分可得: 穿越深度d的剂量的百分比可由穿透系数T求得: 一旦得到了T,对任一恒定的Rp和p来说,都可以求得掩蔽层厚度d,对SiO2、Si3N4与抗蚀剂来说,要阻挡99.99%的入射离子(T10-4)所需的d值如下图所示。图中内插图显示了在掩蔽材料内的注入物的

12、分布。10 倾斜角度离子注入 当器件缩小到亚微米尺寸时,将杂质分布垂直方向也缩写是很重要的。现代器件结构如轻掺杂漏极(LDD),需要在纵向和横向上精确控制杂质分布。垂直于表面的离子速度决定注入分布的投影射程。如果硅芯片相对于离子束倾斜了一个很大的角度,则等效离子能量将大为减少。 在倾斜角度离子注入时,需考虑硅芯片上掩蔽图案的阴影效应。较小的倾斜角度导致一个小阴影区。如高为0.5um的掩蔽层,离子束的入射角为7度,将导致一个61nm的阴影区。可能是器件产生一个预想不到的串联电阻。 60keV砷入射到硅中,相对浓度分布为离子束倾斜角度的函数,内插图所示是倾斜角度离子注入的阴影区11 高能量与大电流

13、注入 注入机能量可高达1.5-5MeV,且已用作多种新型用途。主要利用其能将杂质掺入半导体内深达好几个微米的能力而不需要借助高温下长时间的扩散。也可用于制作低电阻埋层。例如,CMOS器件中距离表面深达1.5到3um的埋层。 大电流注入机(10-20mA)工作在25-30keV范围下,通常用于扩散技术中的预置处理。因为其总量能够精确控制。在预置后,掺杂剂可以用高温扩散步骤再分布,同时顺便将表面区的注入损伤修补。另一用途就是MOS器件的阈值电压调整,精确控制的杂质量经栅极氧化层注入沟道区。 目前,已有能量范围介于150-200keV的大电流离子注入。主要用途是制作高品质硅层,通过向硅层中注入氧来生

14、成二氧化硅从而使该硅层与衬底绝缘。这种氧注入隔离(SIMOX)是一种绝缘层上硅(SOI)的关键技术。2.8 离子注入主要参数: 离子注入的几何说明: :离子束注入面 :表面 :模拟的平面 :离子束方向与y轴方向的夹角:离子束与模拟平面之间的夹角参数说明:Species:注入的杂质种类Energy:注入能量(KeV)Dose:注入剂量,单位cm-2 Tilt:离子束注入的纵向角度,默认值是7Rotation:离子束与模拟平面之间的夹角,默认值是3012 离子注入系统离子源:用于离化杂质的容器。常用的杂质源气体有BF3、AsH3 和PH3 等。质量分析器:不同离子具有不同的电荷质量比,因而在分析器

15、磁场中偏转的角度不同,由此可分离出所需的杂质离子,且离子束很纯。加速器:为高压静电场,用来对离子束加速。该加速能量是决定离子注入深度的一个重要参量。中性束偏移器:利用偏移电极和偏移角度分离中性原子。聚焦系统:用来将加速后的离子聚集成直径为数毫米的离子束。偏转扫描系统:用来实现离子束x、y 方向的一定面积内进行扫描。工作室:放置样品的地方,其位置可调。13 离子注入主要解决的问题纯度深度浓度均匀性稳定性14 离子注入优缺点 优点:1)可在较低的温度下,将各种杂质掺入到不同的半导体中;2)能精确控制掺入基片内杂质的浓度分布和注入深度;3)可以实现大面积均匀掺杂,而且重复性好;4)掺入杂质纯度高;5

16、)获得主浓度扩散层不受故浓度限制 6)由于注入粒子的直射性,杂质的横向扩散小;7)可以置备理想的杂质分布;8)可以通过半导体表面上一定厚度的四SiO2膜进行注入而实行掺杂;9)工艺条件容易控制。 缺点: 1)高能离子注入改变晶格结构; 2)设备贵附录资料:不需要的可以自行删除SBS改性沥青卷材防水施工工艺1 执行标准1.1 GB/T19001ISO90012000质量管理体系 要求1.2 GB503002001建筑工程施工质量验收统一标准 1.3 GB502072001屋面工程质量验收规范1.4 工程建设标准强制性条文(房屋建筑部分2002年版)1.5 JGJ5999建筑施工安全检查标准2 施

17、工工艺2.1 施工准备2.1.1 施工前准备工作2.1.1.1 防水工程施工前,掌握施工图中的关于防水工程细部构造及有关技术要求,并应编制防水方案或保证质量技术措施。2.1.1.3准备好防水材料和冷底子油的溶剂或成品、涂刷冷底子油、嵌填密封材料、铺贴卷材、清扫基层等施工操作中各种必须的工具、用具、机械以及安全设施、灭火器材。2.1.1.4 检查找平层的施工质量是否符合要求。当出现局部凹凸不平、起砂起皮、裂缝以及预埋不稳等缺陷时,可按表7.1进行修补。 找平层缺陷的修补方法 表7.1缺陷种类修补方法凹凸不平铲除凸起部位。低凹处应用1:2.5水泥砂浆掺10%15%107胶补抹,较浅时可用素水泥掺胶

18、涂刷;对沥青砂浆找平层可用沥青胶结材料或沥青砂浆填补。起砂、起皮要求防水层与基层牢固粘结时必须修补。起皮处应将表面清除,用水泥素浆掺胶涂刷一层,并抹平压光。裂缝满粘法施工的卷材及涂膜防水层应对裂缝进行修补。当裂缝宽度0.5mm时,可用密封材料刮封,上铺隔离条0.5mm时,沿缝凿成V形槽(200.520mm),清扫干净后嵌填密封材料,再做100mm宽防水涂料层。预埋件固定不稳定凿开重新灌筑掺107胶或膨胀剂的细石混凝土,四周按要求作好坡度。2.1.2 材料2.1.2.1卷材:根据设计要求及防水等级,采用厚度不同2、2.5、3.0mmSBS改性沥青卷材。2.1.2.2冷底子油,厂家已制作好的配套品

19、种。2.1.3主要机具2.1.3.1工具:石油液化罐、高压胶管、喷枪或喷灯、小油灰铲刀、排刷。2.1.3.2 护具:帆布手套、皮手套、平底胶鞋、工作服。2.1.4 作业人员:由具有防水资质专业施工队组施工。2.2 作业条件2.2.1 材料要求SBS改性沥青防水卷材必须符合设计要求,外观质量要符合表7.2的要求,要有出厂合格证和试验报告。 SBS改性沥青防水卷材外观质量 表7.2项 目质 量 要 求孔洞、缺边、缺口不允许边缘不整齐不超过10mm胎体露白、未浸透不允许每卷卷材的接头不超过1处,较短的一段不应小于1000mm,接头处应加长150mm2.2.2 作业人员要求:防水工程的施工应由经资质审

20、查合格的防水专业队组进行施工。工作人员应持有当地建设行政主管部门颁发的上岗证。2.2.3 工作环境要求2.2.3.1找平层应干燥,坚实平整不起砂,含水率小于9%或空铺1m2卷材34h后检验未见水印即为合格。2.2.3.2 屋面的转角及大烟囱、出入孔等阴阳角找平层,要抹成平缓的半圆弧形。2.2.3.3 伸出屋面管道周围的找平层应做成圆锥台、管道与找平层间应留凹槽,并用嵌填密封材料。2.2.3.4 雨天、雪天严禁进行卷材施工。五级风及其以上时不得施工,气温低于0时不宜施工,如必须在负温下施工时,应采取相应措施,以保证工程质量。热熔法施工时的气温不宜低于10。施工中途下雨、雪,应做好已铺卷材四周的防

21、护工作。2.2.3.5夏季施工时,屋面如有露水潮湿,应待其干燥后方可铺贴卷材,并避免在高温烈日下施工。2.3 操作工艺(见图7.1)卷材防水施工工艺流程图(图7.1)基层表面清理、修补工作基层表面清理、修补工作喷、涂基层处理剂节点附加增强处理定位、弹张、试铺铺贴卷材收头处理、节点密封收头处理、节点密封清理、检查、修整保护层施工2.3.1 清理基层将施工部位的基层清扫干净。2.3.2 刷冷底子油冷底子油作为基层处理剂主要用于热粘贴铺设沥青卷材。涂刷冷底子油的品种要视卷材而定,不可错用。涂刷要薄而均匀,不得有空气、麻点、气泡,也可用机械喷涂。如果基层表面过于粗糙,宜先刷一遍慢挥发性冷底子油,待其表

22、面干后,在刷一遍快挥发性冷底子油。涂刷时间宜在铺贴前12d进行,使油层干燥而又不沾染灰尘。2.3.3 铺贴附加层在雨水口、檐沟、烟囱根部、阴阳角等部位预先用SBS卷材或涂膜贴一层增强加层。2.3.4 铺屋面卷材根据设计要求SBS改性沥青卷材可以采用空铺、点粘、条粘、满粘法施工,并要符合施工规范(GB502072002)要求。通常都采用满粘法,而条粘、点粘和空铺法更适合于防水层上有重物覆盖或基层变形较大的场合,是一种克服基层变形拉裂卷材防水层的有效措施,设计中应明确规定、选择适用的工艺方法。空铺:铺贴卷材防水层时,卷材与基层仅在四周一定宽度内粘贴,其余部分不粘贴的施工方法;条粘法:铺贴卷材时,卷

23、材与基层粘结面不少于两条,每条宽度不小于150mm;点粘法:铺贴防水卷材时,卷材或打孔卷材与基层采用点状粘结的施工方法。每平方米粘结不少于5点,每点面积为100mm100mm。无论采用空铺、条粘还是点粘法,施工时都必须注意,距屋面周边800mm内的防水层应满粘,保证防水层四周与基层粘结牢固,卷材与卷材之间应满粘,保证搭接严密。2.3.4.1 铺设方向卷材的铺设方向应根据屋面坡度和屋面是否有振动来确定。当屋面坡度小于3%,卷材宜平行于屋脊铺贴;屋面坡度大于15%或受振动时,沥青卷材应垂直于屋脊铺贴;SBS改性沥青卷材可根据屋面坡度、屋面是否受振动、防水层的粘结方式、粘结强度、是否机械固定等因素综

24、合考虑采用平行或垂直屋面脊铺巾。上下层卷材不得相互垂直铺贴。上下层卷材不得相互垂直铺贴。2.3.4.2对设有分格缝的屋面,对分格缝用防水油膏嵌缝,并铺贴一层卷材附加层(200mm宽,单边粘贴)。2.3.4.3 对设有保温层的屋面应在保温层和找平层中留置排气槽,要求排气道纵横贯通,每36m2设一排气孔,并与排气槽上铺贴一层卷材附加层(不少于200mm宽)。2.3.4.4卷材铺贴,平行于屋脊开始,从檐口开始往上铺,将喷火枪(或喷灯)调整就绪,然后对准卷材与基层的交界面(喷枪与卷材的距离保持50100mm),在卷材表面热熔胶熔化并发黑有光泽时,进行滚动粘贴,卷材向前滚动时,要求边缘有热熔胶溢出,并用

25、小刀刮平封实。在卷材滚动过程中,须对卷材压实,不许空鼓。2.3.4.5 卷材的搭接宽度(见表7.3) 卷材搭接宽度(mm) 表7.3卷 材种 类卷 材种 类铺 贴方 法短边搭接长边搭接满贴法空铺、点粘、条粘法满粘法空铺、点粘、条粘法沥青防水卷材10015070100SBS改性沥青防水卷材80100801002.3.4.6卷材之间(即边接缝)粘接时用喷枪对准上下层卷材烧至熔化,然后用力挤压边缘有热熔胶溢出,用刮刀修平封实。2.3.4.7 卷材施工时,对屋面所有管道、烟囱口、水落口等节点周围及转角处剪开的卷材用密封胶封牢。2.3.5 细部防水做法2.3.5.1 天沟、檐沟、檐口防水做法a. 天沟、

26、檐沟应增铺附加层,应采用防水涂膜作为增强层。b. 天沟、檐沟与屋面的交接处的附加层宜空铺,空铺的宽度不应小于200mm。(图7.2(1)a)c. 卷材防水层应由沟底翻上至沟外檐顶部,卷材收头应用压条或垫片钉压固定,并用密封材料封口。(图7.2(1)b)d. 高低跨内排水天沟与立墙交接处,应采用能适应变形的密封处理。(图7.2(1)c )e. 铺贴檐口800mm范围内的卷材应采取满粘法。f. 卷材收头应压入凹槽,采用压条或垫片钉压固定,并用密封材料封口。g. 檐口下端应抹出鹰嘴和滴水槽。2.3.5.2 女儿墙泛水防水做法a. 铺贴泛水处的卷材应采取满粘法。b. 女儿墙较低,卷材铺到压顶下,并用金

27、属或钢筋砼板盖压。(图7.2(2)a)c. 砖墙卷材收头可直接铺压在女儿墙压顶下,也可压入砖墙凹槽上部的墙体应做防水处理。(图7.2(2)b)d. 女儿墙为混凝土时,卷材收头直接用压条固定与墙上,用密封材料封固,并在收头上部作柔性保护层。(图7.2(2)c)2.3.5.3 屋面变形缝的做法a. 变形缝的泛水高度不应小于250mm。b. 防水层应铺贴到变形缝两侧砌体的上部。c. 变形缝内宜填充泡沫塑料或沥青麻丝,上部填放衬垫材料,并用卷材封盖,顶部应加扣混凝土或金属盖板,混凝土盖板的接缝应用密封材料嵌填。(图7.2(3)d. 在变形缝中间放置一条聚乙烯发泡棒或板,或先整个覆盖一层卷材,并向缝中凹

28、伸,上放圆棒,圆棒是覆盖卷作形造型模架。e. 卷材盖过变形缝,并作成形,封闭处理,金属盖板或砼盖板作保护层。2.3.5.4 水落口处节点防水处理:a. 水落口杯上口的标高应设置在沟底的最低处。b. 防水层贴入水落口杯内不应小于50mm。c. 水落口杯周围500mm内增大坡度不应小于5%,并采用防水涂料或密封材料涂封,涂料厚度不应小于2mm。(图7.2(4)a)d. 水落口杯与基层接触处应留宽20mm、深20mm凹槽,并嵌填柔性密封材料,避免水落口节点的渗漏发生。(图7.2(4)b)e. 水落口杯埋设标高应考虑水落口设防时增加附加层和柔性密封层的厚度及排水坡度加大的尺寸。2.3.5.5 伸出屋面

29、管道及出入口防水做法a. 管道根部直径500mm范围内,砂浆找平层应抹出高度不小于30mm的圆台,管道与找平层间应留20mm20mm的凹槽,并嵌填密封材料,防水层收头处应用金属箍箍紧,并用密封材料封严。(图7.2(5)a)b. 管道根部四周应增铺附加层,宽度和高度均不应小于250mm。c. 屋面垂直出入口防水层收头应压在砼压顶圈下,水平出入口防水层收头应压在砼踏步下,防水层的泛水应设保护墙。(图7.2(5)b)2.3.6 卷材防水层保护层施工应符合下列规定2.3.6.1用浅色涂料保护层时,应等卷材铺贴完成,并经检验合格,清扫干净涂刷。涂层应与卷材粘结牢固,厚满均匀,不得漏涂。2.3.6.2 用

30、水泥砂浆作保护层时,表面应抹平压光,并应设表面分格缝,分格面积宜为1m2。2.3.6.3用块体材料作保护层时,宜留设分格缝。分格面积不宜大于100mm2;分格缝宽度不宜小于20mm。2.3.6.4用细石混凝土作保护层时,混凝土应振捣密实,表面抹光压光,并留设分格缝。分格面积不宜大于36m2。2.3.6.5 刚性保护层与女儿墙、山墙之间应预留宽度为30mm的缝隙,并用密封胶嵌填严密。2.3.6.6水泥砂浆、块材或细石混凝土保护层与防水层之间设置的隔离层应平整,起到完全隔离作用。2.4 安全注意事项2.4.1卷材严禁在雨天、雪天、大风天气,温度低于5不得施工。中途下雨应做已铺卷材周边的防护工作。2

31、.4.2 对石油液化罐、喷枪、喷灯的开关、连接件、胶管进行检查是否漏气、漏油,如发现应及时修理和更换。2.4.3在防水层上安装避雷带、天线、隔热板及各种管件和设备时,应谨慎作业,不得损坏防水层。2.4.4卷材宜直立堆放,并储放于通风的室内,切忌日晒、雨淋和于热源接触。2.4.5卷材操作人员必须穿长袖口衣服和长裤,并带手套,禁止赤脚或穿硬底、高跟鞋作业。2.5 过程能力预先鉴定在正式施工前,应对操作人员、材料、机具、环境等过程能力进行预先鉴定,填写“特殊过程能力预先鉴定表”(程序文件表QCX093),并按照选择的防水参数进行试件送试,合格后方可正式生产。2.6 技术交底施工负责人应向班组进行技术

32、交底。内容包括:施工部位、施工顺序、施工工艺、构造层次、节点设防方法、增强部位及做法,工程质量标准,保证质量的技术措施,成品保护措施和安全注意事项。2.7 特殊过程的连续监控2.7.1 需监控的技术参数:卷材厚度(见表7.4)、卷材搭接宽度(见表7.3)。2.7.2 监控的频次大于1000卷抽5卷,每5001000卷抽4卷,100499卷抽3卷,100卷以下抽2卷,进行规格尺寸和外观质量检验。在外观质量检验合格的卷材中,任取一卷作物理性能检验。2.7.3 对技术参数的监控:应由操作人员自检和项目质检员专检予以实施。2.7.4 监控人员应对监控时实测到的技术参数记录入“特殊过程主要技术参数连续监

33、控记录”(程序文件表QCX094)2.8 质量要求2.8.1 屋面不得有渗漏和积水现象。所使用的材料(包括防水材料,找平层、保温层、保护层、隔气层及外加剂、配件等)必须符合质量标准和设计要求。2.8.3 防水层的厚度和层数、层次应符合设计规定。2.8.4 结构基层应稳固,平整度符合规定,预制构件嵌缝密实。2.8.5 屋面坡度(含天沟、檐沟、水落口、地漏)必须准确,排水系统应通畅,找平层表面平整度不超过5mm,表面不得有疏松、起砂、起皮现象。2.8.6 卷材的铺贴方法、搭接顺序应符合规定,搭接宽度准确,接缝严密,不得有皱折、鼓泡和翘边,收头应固定、密封严密。2.8.7 粒料、涂料、薄膜保护层应覆盖均匀严密,不露底,粘结牢固,刚性整体保护层不得松动,分格缝留置应准确,与防水层之间应有隔离层。板块保护层应铺砌平整,勾缝严密,其分格缝的留设也应正确。2.8.8 节点做法必须符合设计要求,搭接正确,封固严密,不得翘边开缝。2.8.9 空铺、条粘、点粘法施工时,卷材粘贴面积、位置应符合要求。2.9 质量检验防水工程各分项工程的施工质量检验批量应符合下列规定:2.9.1 SBS改性沥青卷材防水工程应按防水工程面积每100m2抽查一处,每处10m2,且不得少于3处。2.9.2接缝密封防水,每50m应抽查一处,

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