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文档简介

1、薄膜物理主要讨论对象是什么？有哪些特性？真空如何定义？如何测量？有哪些单位制？如何换算？为什么要 划分真空区域？其依据是什么？关键参数如何定义？各个真空区 域的气体分子的物理运动特征如何？真空泵可分为哪两大类？简述各类包括的常用真空泵类型及其工 作压强范围。分析说明实用的真空抽气系统为什么往往需要多种 真空组成复合抽气系统。什么是吸附和脱附？其主要机制和影响因素有哪些？图示说明阳极氧化生长薄膜的基本步骤，分析为什么阳极氧化需 要高的极间电压且薄膜生长厚度存在极限。什么是物理气相沉积（PVD）？举例说明PVD的主要过程。选择 三种典型的离化PVD技术，比较其镀膜原理和特点。真空蒸发装置一般包括哪

2、三个组成部分？选择三种典型蒸发装 置，比较其原理、特点和适用领域。画出直流辉光放电的伏安特性曲线，解释说明放电区域的划分、 以及不同放电阶段的放电现象和伏安特性变化特征，最后解释溅 射镀膜工作区域的选择及理由。选择三种典型溅射装置，比较其镀膜原理、工艺特点和适用领域。与蒸发法相比，溅射镀膜主要有哪些优点和缺点？溅射装置可以 按哪些特性分为哪些类别？图示说明磁控溅射的实现原理和主要 技术优势。图示说明薄膜的初期形成过程一般分为哪几个阶段、各阶段的主要现象如何？简述薄膜的主要生长模式如何分类，以及每类生长模式各自的出 现条件和特点。根据新相自发形核理论，简述薄膜临界核心面密度n*的主要影 响因素及

3、各自的影响规律，并解释说明要获得均匀平整薄膜沉积 的基本条件和实现途径。根据薄膜非自发形核理论，简述非自发形核率（TN/也）的主要影 响因素，并解释说明吸附气体原子的脱附激活能、扩散激活能和 临界形核势垒对其影响规律和内在机制。根据薄膜非自发形核理论，简要说明为什么高温低速沉积往往获 得粗大或单晶结构薄膜，而低温高速沉积则有利于获得细小多晶、 微晶乃至非晶薄膜？图示说明连续薄膜形成时三种可能的核心吞并互连机制及其驱动 力的异同。溅射薄膜主要有哪四种结构形态？根据Thornton模型图示说明其 形成条件、形成特点、组织、性能和表面形貌特征。画出低温抑制型薄膜生长时，沉积原子入射方向角a在0-89

4、o之 间变化时，其纤维状结构的生长角P随a的变化规律曲线，并 依据该曲线分析a在什么范围时，纤维结构的生长方向与入射来 流的方向出入较小、何时出入最大？图示说明溅射气体压力、沉积温度及基片负偏压等工艺参数对溅 射薄膜的内应力状态及水平的影响规律，分析怎样才能获得较致密的T型薄膜组织同时获得适度的膜内压应力状态。图示说明薄膜一基体的界面形态主要有哪四种？各有何特点？附 着力如何？选择三种膜厚/沉积速率表征法，图示说明其测量原理、特点和适 用场合。列表比较常用薄膜成分表征方法的入射束、出射束、可探测元素 范围、探测极限、空间分辩率和深度分辨率等特性，并说明哪些 方法可用来分析原子的化合态？薄膜附着力目前是否有完善的定量表征方法？图示说明其主要表 征方法的实现原理。化学方法制备薄膜的主要特征是什么？基本分类如

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