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文档简介
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中华人民共和国国家标准
犌犅/犜24582—2009
酸浸取电感耦合等离子质谱仪测定
多晶硅表面金属杂质
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20091030发布20100601实施
中华人民共和国国家质量监督检验检疫总局
发布
中国国家标准化管理委员会
书
中华人民共和国
国家标准
酸浸取电感耦合等离子质谱仪测定
多晶硅表面金属杂质
GB/T24582—2009
中国标准出版社出版发行
北京复兴门外三里河北街16号
邮政编码:100045
网址www.spc.net.cn
电话:6852394668517548
中国标准出版社秦皇岛印刷厂印刷
各地新华书店经销
开本880×12301/16印张0.5字数9千字
2009年12月第一版2009年12月第一次印刷
书号:155066·139583
如有印装差错由本社发行中心调换
版权专有侵权必究
举报电话:(010)68533533
书
犌犅/犜24582—2009
前言
本标准由全国半导体设备和材料标准化技术委员会(SAC/TC203)提出并归口。
本标准负责起草单位:新光硅业科技责任有限公司。
本标准主要起草人:王波、过惠芬、吴道荣、梁洪、敖细平。
Ⅰ
书
犌犅/犜24582—2009
酸浸取电感耦合等离子质谱仪测定
多晶硅表面金属杂质
1范围
1.1本标准规定了用酸从多晶硅块表面浸取金属杂质,并用电感耦合等离子质谱仪定量检测多晶硅表
面上的金属杂质痕量分析方法。
1.2本标准适用于碱金属、碱土金属和第一系列过渡元素如钠、钾、钙、铁、镍、铜、锌以及其他元素如铝
的检测。
1.3本标准适用于各种棒、块、粒、片状多晶表面金属污染物的检测。由于块、片或粒形状不规则,面积
很难准确测定,故根据样品重量计算结果,使用的样品重量为50g~300g,检测限为0.01ng/mL。
1.4酸的浓度、组成、温度和浸取时间决定着表面腐蚀深度和表面污染物的浸取效率。在这个实验方
法中腐蚀掉的样品重量小于样品重量的1%。
1.5本标准适用于重量为25g~5000g的样品的测定,为了达到仲裁的目的,该实验方法规定样品的
重量为约300g。
2规范性引用文件
下列文件中的条款通过本标准的引用而成为本标准的条款。凡是注日期的引用文件,其随后所有
的修改单(不包括勘误的内容)或修订版均不适用于本标准,然而,鼓励根据本标准达成协议的各方研究
是否可使用这些文件的最新版本。凡是不注日期的引用文件,其最新版本适用于本标准。
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3术语、定义和缩略语
3.1术语和定义
下列术语和定义适用于本标准。
3.1.1
酸空白犪犮犻犱犫犾犪狀犽
用
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