GB/T 32495-2016表面化学分析二次离子质谱硅中砷的深度剖析方法

ICS7104040

G04..

中华人民共和国国家标准

GB/T32495—2016/ISO124062010

:

表面化学分析二次离子质谱

硅中砷的深度剖析方法

Surfacechemicalanalysis—Secondary-ionmassspectrometry—

Methodfordepthprofilingofarsenicinsilicon

(ISO12406:2010,IDT)

2016-02-24发布2017-01-01实施

中华人民共和国国家质量监督检验检疫总局发布

中国国家标准化管理委员会

GB/T32495—2016/ISO124062010

:

目次

前言

…………………………Ⅰ

引言

…………………………Ⅱ

范围

1………………………1

规范性引用文件

2…………………………1

术语和定义

3………………1

符号和缩略语

4……………1

原理

5………………………2

参考物质

6…………………2

用于校准相对灵敏度因子的参考物质

6.1……………2

用于校准深度的参考物质

6.2…………2

仪器

7………………………2

二次离子质谱仪

7.1……………………2

触针式轮廓仪

7.2………………………2

光学干涉仪

7.3…………………………2

样品

8………………………2

步骤

9………………………2

二次离子质谱仪的调整

9.1……………2

优化二次离子质谱仪的设定

9.2………………………3

进样

9.3…………………3

被测离子

9.4……………3

样品检测

9.5……………4

校准

9.6…………………4

结果表述

10…………………5

测试报告

11…………………5

附录资料性附录硅中砷深度剖析巡回测试报告

A()…………………6

附录资料性附录深度剖析步骤

B()NISTSRM2134…………………9

参考文献

……………………10

GB/T32495—2016/ISO124062010

:

前言

本标准按照给出的规则起草

GB/T1.1—2009。

本标准使用翻译法等同采用表面化学分析二次离子质谱硅中砷的深度剖析

ISO12406:2010《

方法

》。

与本标准中规范性引用的国际文件有一致性对应关系的我国文件如下

:

表面化学分析词汇

———GB/T22461—2008(ISO18115:2001,IDT)

本标准由全国微束标准化技术委员会提出并归口

(SAC/TC38)。

本标准负责起草单位中国电子科技集团公司第四十六研究所

:。

本标准主要起草人马农农陈潇何友琴王东雪

:、、、。

Ⅰ

GB/T32495—2016/ISO124062010

:

引言

本标准为使用二次离子质谱对硅中砷的定量深度剖析

(secondary-ionmassspectrometry,SIMS)

而制定

。

对于定量深度剖析浓度和深度定标都是必不可少的国家标准中规定了硅中硼浓

,。GB/T20176

度的测定方法国际标准[1]中规定了硅中硼深度剖析方法国家标准中规定

。ISO17560。GB/T25186

了离子注入参考物质的相对灵敏度因子的测定方法国家标准中建立了表面化学

(RSF)。GB/T22461

分析领域常规术语和谱学术语的词汇表本标准中硅中砷定量深度剖析方法将会引用这些国家标准

。。

本标准适用于采用二次离子质谱法对单晶硅多晶硅非晶硅中砷元素进行深度剖析及用触针式

、、,

表面轮廓仪或光学干涉仪深度定标的方法

。

Ⅱ

GB/T32495—2016/ISO124062010

:

表面化学分析二次离子质谱

硅中砷的深度剖析方法

1范围

本标准详细规定了用扇形磁场或四极杆式二次离子质谱仪对硅中砷进行深度剖析的方法以及用

,

触针式轮廓仪或光学干涉仪深度定标的方法本标准适用于砷原子浓度范围从163

。1×10atoms/cm~

213的单晶硅多晶硅非晶硅样品坑深在及以上

2.5×10atoms/cm、、,50nm。

2规范性引用文件

下列文件对于本文件的应用是必不可少的凡是注日期的引用文件仅注日期的版本适用于本文

。,

件凡是不注日期的引用文件其最新版本包括所有的修改单适用于本文件

。,()。

表面化学分析二次离子质谱用均匀掺杂物测定硅中硼的原子浓度

GB/T20176—2006

(ISO14237:2010,IDT)

表面化学分析二次离子质谱由离子注入参考物质确定相对灵敏度因子

GB/T25186—2010

(ISO18114:2003,IDT)

表面化学分析词汇第部分通用术语和谱学用术语

ISO18115-11:(Surfacechemicalanaly-

sis—Vocabulary—Part1:Generaltermsandtermsusedinspectroscopy)

3术语和定义

界定的术语和定义适用于本文件

ISO18115-1。

4符号和缩略语

Ci深度剖析第i个周期时砷原子浓度用单位体积原子个数3表示

,,(atoms/cm)

d深度剖析中求相对灵敏度因子用的深度用厘米表示

,(cm)

di在测试第i个周期时的深度用厘米表示

,(cm)

d坑深用厘米表示

t,(cm)

Ii测试第i个周期时砷离子强度用每秒计数