集成电路项目可研建议书环境影响报告书_第1页
集成电路项目可研建议书环境影响报告书_第2页
集成电路项目可研建议书环境影响报告书_第3页
集成电路项目可研建议书环境影响报告书_第4页
集成电路项目可研建议书环境影响报告书_第5页
已阅读5页,还剩187页未读 继续免费阅读

下载本文档

版权说明:本文档由用户提供并上传,收益归属内容提供方,若内容存在侵权,请进行举报或认领

文档简介

PAGE泷芯宇通(烟台)集成电路项目环境影响报告书PAGE80山东大学第1章总论1.1评价目的与指导思想1.1.1评价目的摸清工程所在地的环境质量现状,通过对拟建项目进行工程分析,找出工程的排污环节、确定污染物产生量、治理后排放量,分析治理措施的可行性,预测项目投产后对周围环境的影响范围和程度;论证项目建设是否符合国家产业政策和区域发展规划;论证厂址选择和工程建设的环境可行性,为工程的环保设施设计、环境管理及领导部门决策提供依据。1.1.2指导思想本次评价的指导思想是根据项目特点,抓住影响环境的主要因子,有重点的进行评价;评价方法力求科学严谨,实事求是;分析论证客观公正;贯彻达标排放、总量控制和清洁生产等环境保护政策的基本原则;提环保措施和建议时注意可行性和合理性;充分利用现有资料,在保证报告书质量的前提下,尽量缩短评价周期。1.2编制依据1.2.1国家法规依据=1\*GB2⑴《中华人民共和国环境保护法》(1989);=2\*GB2⑵《中华人民共和国环境影响评价法》(2003);=3\*GB2⑶《中华人民共和国大气污染防治法》(2000);=4\*GB2⑷《中华人民共和国水污染防治法》(1996);=5\*GB2⑸《中华人民共和国噪声污染防治法》(1996);=6\*GB2⑹《中华人民共和国固体废物污染环境防治法》(2005);=7\*GB2⑺《中华人民共和国水土保持法》(1991);=8\*GB2⑻《中华人民共和国清洁生产促进法》(2002);=9\*GB2⑼国务院第253号令《建设项目环境保护管理条例》(1999);=10\*GB2⑽国家经贸委国资源(2000)1015号文《关于加强节约工业用水的规定》;=11\*GB2⑾国家发展和改革委员会令第40号《产业结构调整指导目录(2005年本)》(2005);=12\*GB2⑿国家发展和改革委员会、商务部联合发布第24号令《外商投资产业指导目录》(2004);=13\*GB2⒀中华人民共和国国家发展计划委员会、科学技术部、商务部令第26号《当前优先发展的高技术产业化重点领域指南》(2004.4.30);=14\*GB2⒁山东省人大第99号公告《山东省环境保护条例》(2001);=15\*GB2⒂《山东省地面水环境功能区划方案》(山东省政府2000年3月以鲁政字[2000]86号文批准);=16\*GB2⒃《危险化学品安全管理条例》(2002年);⒄《国家危险废物名录》(国家环保总局、国家经贸委、对外贸易经济合作部、公安部)(1998);⒅《关于加强环境影响评价管理防范环境风险的通知》(环发[2005]152号)。1.2.2技术规范依据=1\*GB2⑴HJ/T2.1~2.3-93《环境影响评价技术导则》;=2\*GB2⑵HJ/T2.4-1995《环境影响评价技术导则——声环境》;=3\*GB2⑶HJ/T19-1997《环境影响评价技术导则——非污染生态影响》;=4\*GB2⑷HJ/T169-2004《建设项目环境风险评价技术导则》。1.2.3项目依据=1\*GB2⑴国家环保总局《建设项目环境保护分类管理名录》(环发[2001]17号);=2\*GB2⑵国家计委、国家环保局《关于规范环境影响咨询收费有关问题的通知》(计价格[2002]125号文);=3\*GB2⑶《烟台市城市总体规划》;=4\*GB2⑷《烟台市福山区城市规划》;=5\*GB2⑸《烟台市“十五”环境保护计划》;=6\*GB2⑹《烟台市海洋功能区划》;⑺《烟台市环境功能区划》;⑻《烟台市福山区地下水资源开发利用规划》;⑼《烟台市福山区水资源保护规划》;⑽泷芯宇通(烟台)集成电路有限责任公司8英寸⑾泷芯宇通(烟台)集成电路有限责任公司环境影响评价委托书。1.3评价标准根据地方功能区划和山东省环保局对该项目评价标准的批复,本次评价执行标准如下。1.3.1环境质量标准环境质量标准具体见表1-1。表1-1环境质量标准类别序号环境因素执行标准污染因子标准限值备注环境质量标准1地下水环境《地下水质量标准》(GB/T14848-93)Ⅲ类标准砷0.05mg/L六价铬0.05mg/L铅0.05mg/L氟化物1.0mg/L镉0.01mg/L锰0.1mg/L氯化物250mg/LCODMn3.0mg/L氰化物0.05mg/L硫酸盐250mg/L总硬度450mg/L溶解性总固体1000mg/L2环境空气《环境空气质量标准》(GB3095-1996)二级标准PM100.15mg/m3日均NO20.24mg/m30.12mg/m31小时平均日均SO20.50mg/m30.15mg/m31小时平均日均氟化物20µg/m37µg/m31小时平均日平均《工业企业设计卫生标准》TJ36-79居住区大气中有害物质的最高允许浓度氯化氢0.50mg/m30.15mg/m3一次浓度日平均硫酸雾0.30mg/m30.10mg/m3一次浓度日平均溴化氢丙酮0.80mg/m3一次浓度氨0.20mg/m3一次浓度前苏联居民区大气中有害物质的最大允许浓度异丙醇0.60mg/m3一次浓度3声环境《城市区域环境噪声标准》(GB3096-93)3类标准南、西、北厂界LeqA65dB(A)昼间55dB(A)夜间《城市区域环境噪声标准》(GB3096-93)4类标准东厂界LeqA70dB(A)昼间55dB(A)夜间4土壤《土壤环境质量标准》(GB15618-1995)一级标准砷15mg/kg镉0.20mg/kg汞0.15mg/kg铜35mg/kg铅35mg/kg铬90mg/kg锌100mg/kg镍40mg/kg1.3.2污染物排放标准污染物排放标准具体见表1-2。表1-2污染物排放标准类别序号环境因素执行标准污染因子标准限值备注污染物排放标准1废水《污水综合排放标准》(GB8978-1996)三级标准pH6~9SS400mg/LCODCr500mg/LBOD5300mg/L石油类20mg/L动植物油100mg/L氟化物20mg/LNH3-N/磷酸盐/2废气《大气污染物综合排放标准》(GB16297-1996)二级标准氟化物9.0mg/m30.59kg/h30m氯化氢100mg/m31.4kg/h30m硫酸雾45mg/m38.8kg30m氮氧化物240mg/m34.4kg/h30m《工作场所有害因素职业接触限值》(GBZ2—2002)及上海市控制标准异丙醇320mg/m33《恶臭污染物排放标准》(GB14554-93)氨20kg/30m《荷兰排放导则》NER砷烷1.0mg/m30.01磷烷1.0mg/m30.01硅烷5.0mg/m30.05台湾地区《半导体制造业空气污染管制及排放标准》及上海拟颁布的半岛体行业标准挥发性有机物VOC100mg/m3排放速率小于0.6kg排放削减率大于90%《锅炉大气污染物排放标准》(GB13271-2001)二类区域标准(第Ⅱ时段)烟尘50mg/m3燃气100mg/m3燃油SO2100mg/m3燃气500mg/m3燃油NOx400mg/m3燃气、燃油3噪声《工业企业厂界噪声标准》(GB12348-90)Ⅲ类标准南、西、北厂界LeqA65dB(A)昼间55dB(A)夜间《工业企业厂界噪声标准》(GB12348-90)Ⅳ类标准东厂界LeqA70dB(A)昼间55dB(A)夜间(1)废水:《污水综合排放标准》(GB8978-1996)三级标准。(2)废气:《大气污染物综合排放标准》(GB16279-1996)二级标准,《恶臭污染物排放标准》(GB14554-93)(氨),《锅炉大气污染物排放标准》(GB13271-2001)二类区域标准。对于目前我国尚无排放标准的本项目排放的特殊污染物,参照执行国外的有关标准。通过调研,收集国外有关标准参照执行如下:①我国台湾地区《半导体制造业空气污染管制及排放标准》对特征污染物挥发性有机物VOC的控制标准主要为排放削减率,要求大于90%。本项目有机废气VOC的排放拟参照执行《半导体制造业空气污染管制及排放标准》及上海拟颁布的半岛体行业标准。②对于目前我国尚无排放标准的特殊污染物,如砷烷、磷烷、硅烷等,参照执行《荷兰排放导则》(NER,NederlandseEmissieRichtlijnen=DutchEmissionGuidelines)。关于该导则需要说明的是:NER不是类同于中国排放标准的强制性规章,而是政府和行业用来为每个工厂设备设置环境许可所用的指导方针。(3)噪声:营运期执行《工业企业厂界噪声标准》(GB12348-90)Ⅲ类标准,施工期执行《建筑施工场界噪声限值》(GB12523-90)。1.4环境影响因素识别及评价因子筛选1.4.1环境影响因素识别拟建项目施工建设期土建施工作业、人工作业和设备安装作业等将会破坏厂区范围内的原有植被、改变土地使用功能,产生施工扬尘、废水、施工垃圾和噪声等。项目生产运营期间将产生废气、废水、固废和设备噪声等污染,对周围环境产生一定污染。根据工程分析拟建项目生产运营期间产生主要大气污染物是酸性气体、碱性气体、有机废气、有机污染物燃烧废气,将对厂址附近的环境空气产生一定影响。厂区生产废水中有机污染物浓度相对较高,经污水处理设施处理后排入城市污水管网。生产过程中产生的固体废物全部安全处置或回收综合利用,无外排。厂区周围较空旷,声环境敏感目标较少,对厂内高噪声设备采取相应消声、减噪措施后对声环境的影响较小。根据以上项目特点及厂址周围环境情况,确定拟建项目的环境影响要素详见表1-3。表1-3拟建项目环境影响要素识别表工程阶段环境空气水环境声环境生态环境社会环境施工期▲▲▲□□运营期■■▲△▲注:表中■表示影响显著,▲表示影响一般,□表示影响轻微,△表示基本无影响。1.4.2环境影响因子识别施工期项目施工期间对环境的影响很大程度上取决于工程特点、施工季节以及工程所处的地形、地貌等环境因素。经分析,施工期主要环境影响因素见表1-4。表1-4施工期主要环境影响因素环境要素产生影响的主要内容主要影响因素环境空气土地平整、挖掘,土石方、建材运输、存放、使用扬尘施工车辆尾气、炊事燃具使用NOx、SO2水环境施工人员生活废水等COD、BOD、SS声环境施工机械、车辆作业噪声噪声生态环境土地平整、挖掘及工程占地水土流失、植被破坏土石方、建材堆存占压土地等施工期拟建项目运营期将产生废气、废水、噪声以及固废等污染因素,将相应对厂址周围的环境空气、地表水、地下水环境及声环境等产生不同程度的影响。综上所述,拟建项目运营期环境影响因子识别情况详见表1-5。表1-5拟建项目运营期环境影响因素识别表环境要素环境影响因素废气废水噪声固废酸性废气碱性废气有机废气VOC燃烧废气环境空气有影响地表水有影响地下水轻微影响声环境有影响生态轻微影响土壤轻微影响轻微影响轻微影响1.4.3评价因子的确定根据工程分析及环境影响要素、影响因子识别,确定本次评价的评价因子详见表1-6。表1-6拟建项目环境影响评价因子一览表项目专题主要污染源现状评价因子预测因子环境空气工艺废气SO2、NO2、PM10、氟化物、氯化氢、溴化氢、氨、硫酸雾、VOC、丙酮、异丙醇共11项氟化物、HCl、硫酸雾、NH3、异丙醇、VOC、氮氧化物地表水生产、生活污水项目区附近河道已干涸无水,因此未进行现状监测影响分析地下水厂区污水砷、六价铬、铅、氟化物、镉、锰、氯化物、CODMn、氰化物、硫酸盐、总硬度、溶解性总固体、异丙醇、丙酮共14项影响分析土壤厂区土壤砷、镉、氟、汞、铜、铅、铬、锌、镍共9项--噪声厂区生产设备LAeqLAeq1.5评价等级及评价重点1.5.1大气环境影响评价等级根据拟建项目主要大气污染物的排放量,依据《环境影响评价技术导则·大气环境》的评价级别计算方法:结合评价区范围内的地形特点,确定的评价等级详见表1-7。表1-7拟建项目大气环境影响评价等级确定表序号大气污染物Qi(kg/h)Coi(mg/m3)Pi地形评价等级确定1氟化物0.070.023.5×106山丘陵区三级2氯化氢0.0330.050.66×106三级3硫酸雾0.140.300.47×106三级4NOx4.930.150.32×108三级5SO20.0160.500.032×106三级6异丙醇0.140.600.23×106三级7NH30.0860.200.43×106三级8烟尘0.670.302.23×106三级由上表可见,Pi<2.5×108,根据项目性质评价等级提高一级,因此,拟建项目环境空气影响评价应执行二级评价。1.5.2水环境影响评价等级拟建项目日外排废水约114.416万t/a,经厂内污水处理站处理达标后经市政污水管网排入烟台市套子湾污水处理厂,因此本次环评重点对本项目废水经厂内污水处理站处理达标后再通过市政管网进入烟台市套子湾污水处理厂处理的可行性和可靠性进行分析。项目厂区地面硬化、雨污分流,废水收集系统和污水处理设施进行防渗处理,外排废水经过管道排入烟台市城市套子湾污水处理厂,因此地下水环境影响仅作简要分析。1.5.3声环境影响评价等级根据地方环境功能区划,项目厂址所在区域适用于《城市区域环境噪声标准》(GB3096-93)中规定的3类功能区,拟建项目属大型建设项目,项目建设前后噪声的增量较小,受影响人口变化不大,因此根据《环境影响评价技术导则—声环境》(HJ/T2.4-1995)的规定,确定本项目噪声影响评价等级为三级评价。1.5.4环境风险评价等级根据《建设项目环境风险评价技术导则》,本次项目位于环境敏感区,原材料包含剧毒危险性物质,因此本次环评环境风险评价定为一级评价。1.6评价范围和重点保护目标根据项目厂址所在地的气象、水文、地质条件,项目“三废”排放特点、排放量以及厂址周围敏感目标的分布情况,见表1-8、图1-1。表1-8拟建项目评价范围和重点保护目标一览表环境要素环境保护对象名称方位距离(米)评价范围环境功能环境空气吕格庄SW1600以厂址为中心,主导风向为主轴,边长6km《环境空气质量标准》GB3095-1996二级芝阳山医院N1100房家疃ENE1600前埠村居民点W150福山区政府N2800东留公W1300水厂地下水取水口WNW1100芝阳小区N1400南涂山SE1700水环境大沽夹河E2600内夹河和大沽夹河流域《地表水环境质量标准》GB3838-2002Ⅲ类标准内夹河W1000地下水取水口W500厂址500m《地下水质量标准》(GB/T14848-93)Ⅲ类标准声环境前埠村W150厂界外1米《城市区域环境噪声标准》GB3096-933类标准第2章建设项目概况2.1项目建设内容2.1.1工程概况项目名称:泷芯宇通(烟台)集成电路有限责任公司8英寸建设性质:新建筹建方:森邦集团(美国)(SCHAUMBONDGroup.Inc.)建设地点:山东省烟台市福山区工业用地。详见图2-1A、2-1B。总投资:12.6亿美元。2.1.2生产规模和产品方案新购工艺生产设备组建8英寸芯片加工生产线,形成月生产8英寸硅片3万片的能力,生产工艺达到0.13~0.25μm的CMOS工艺技术水平,并将同时具备为客户代工的能力。公司生产方式主要采用CMOS和BiCMOS2.1.3厂区布置和项目组成厂区布置项目组成建筑物情况及主要数据指标见表2-1,项目组成情况详见表2-2。表2-1建筑物情况及主要数据指标一览表序号项目建筑面积m2指标1办公研发楼193942综合楼142883八英寸芯片厂房592604综合动力站152995气站11106化学品库14267锅炉房7078活动室和餐厅32129倒班宿舍1503810门卫18011总用地面积13329312总建筑占地面积4250213总建筑面积12991414容积率0.9715建筑密度32%16绿化率36%表2-2拟建项目组成情况一览表序号设施名称内容1生产设施主要由8英寸芯片厂房、办公研发楼等构成,内容包括:集成电路芯片生产设施、集成电路测试设施、实验设施、原材料半成品及成品存放、生产线技术管理、生产线设备维修等。2动力设施由综合动力站,锅炉房、气站等构成,内容包括:水泵房、纯水站、废水站、冷冻站、锅炉房、空压站、真空站、净化、通风和排风系统、消防等;变电站、柴油发电机房(备用)、大宗气体供应站。3辅助设施化学品库、硅烷站(SiH4)、天然气调压站(NG)、特殊气体供应系统、大宗气体供应系统,空分主装置(PL-2E),包括:主空气压缩机,氮气压缩机。工厂空气装置(CDA),包括:空气压缩机。4环保设施工业废水处理系统、生活污水处理系统、废气处理系统、废液、废渣收集系统、绿化、雨水回收处理系统。5服务设施由办公研发楼,综合楼、倒班宿舍、专家宿舍、活动室及餐厅等构成,内容包括:办公、会议、餐厅等用房;停车场6厂外设施给水管线、排水管线、天然气管线、高压输电线、通信线路等。注:本项目新鲜水依托福山自来水公司,电依托福山电力公司,天然气的供给依托福山燃气公司,生产、生活污水末端处理依托烟台市套子湾污水处理厂2.1.4项目主要技术经济指标拟建项目的主要技术经济指标情况详见表2-3。表2-3拟建项目主要技术经济指标一览表序号项目名称单位数量备注1生产能力万片/月38英寸0.13~0.25μm2所需人数人15003生产线主要设备仪器台(套)365套4用地面积m21332935总建筑面积m21299146项目总投资万美元126000(1)建设投资万美元100000(2)流动资金万美元260007正常生产年年销售收入万美元1200008正常生产年所得税后利润万美元329039所得税前内部收益率%28.2610所得税后内部收益率%24.4711税后静态投资回收期年5.01含建设期1.5年12税后动态投资回收期年6.15含建设期1.5年2.1.5定员及年时基数拟建项目劳动定员1500人,其中管理人员200人,技术人员300人,操作人员800人,其他人员200人。年工作日360天,生产线工人实行四班二运转工作制,每天2班,每班12小时,2天上班2天休息;管理人员实行单班工作制。2.1.6工程投资及经济指标项目总投资为126000万美元,其中注册资本42000万美元,由美国森邦集团公司全资投入,其余由境外资金、设备等中国法律允许的注资形式投入,属于外商独资项目,资金有保障;注册资本及项目投资分年投入,考虑了项目运作的客观规律。第3章工程分析3.1主要原、辅材料用量及能源供应和消耗3.1.1主要原辅材料及用量主要原辅材料消耗量见表3-1。表3-1主要原辅材料消耗量一览表序号名称规格单位年用量1硅片8英寸片3790002控制片8英寸片720003光刻版套1004H2O230%升4550005NH4OH29%升2450006H2SO496%升2450007HCl37%升770008HF49%升1540009HF1%升6300010氧化层刻蚀缓冲液(BOE6:1)NH4F/HF/H2升3500011HNO370%升2100012H3PO480%升2170013KOH10%升1200014异丙醇(IPA)100%升28000015剥离液(NMP)STRIPERN-methylPyrrolidone(C5H9NO)升10500016Slurry-1(SM700)10%KOH+30%H2O2+纯水升7000017Slurry-2(BT900)NH4OH+纯水升8750018Slurry-3(SS25)抛光稀浆原料(25%固体成分)升35000019显影液(TMAH)四甲基氢氧化铵(CH3)4NOH升52500020边角去除剂(EBR)丙烯乙二醇一甲胺升1550021光刻胶苯酚-甲醛聚合物(聚合物)升4250022稀释液(OK-73)THINNER丙二醇甲醚、丙二醇单甲醚乙酸酯的混合物升26250023刻蚀液(EKC-270)羟氨、单乙醇胺、异丙醇胺等的混合物升660024预涂液(HMDS)六甲基乙硅烷升1320025TEOS正硅酸乙脂公斤35026CHF3升/瓶564/4727C2F升/瓶28200/4728He/N25%升/瓶94/4729H2/N24%升/瓶28200/4730SF6升/瓶5640/4731N2O升/瓶4800/4032CH4/Ar10%升/瓶188/4733O2/He20%升/瓶564/4734CO2升/瓶720/3035CF4升/瓶11280/4736CH2F升/瓶90/1537WF6升/瓶1440/2038BCl3升/瓶480/1039Kr/Ne升/瓶588/4940Kr/Ne/F21%升/瓶588/4941NH3千克/瓶240/2042HBr千克/瓶120/1043Cl2千克/瓶960/1044NH4千克791045NF3升/瓶4512/4746SiF4升/瓶141/4747PH3/He0.8%升/瓶1128/4748PH3/N20.8%升/瓶8460/4749SiH4升/瓶7896/47AsH450SiH4/He20%升/瓶94/4751C4H8升/瓶564/4752CO升/瓶3384/4753ClF3千克/瓶120/1054B2H6/N20.8%升/瓶8460/4755靶材(Al、Ti等)个2803.1.2原辅材料供应系统、产品运输及储存方案本项目原材料基本上都由空运和海运进入烟台,工厂成品采用空运或海运方式。该项目的原辅材料和成品对运输条件要求较高,市区内运输由专业运输公司承担,以专用货车运至厂区内。化学品及特殊气体,视需要送至厂内,置于专设的化学品库(参见总图)、fab厂房的特气间、化配间、物料入口室处、原材料暂存间、备品备件存放间等,并做好安全卫生防护措施。在化学品库中大宗化学品存量为1-3天的用量,小瓶装存量为1-2星期的用量,特殊由外国进口的化学品存量为2-4星期的用量。化学品储存量参照有关规范规定的限额进行储存。特殊气体采用钢瓶储存,有气体监测器(电化学式、半导体式和色带式检测器等),在有气体泄露时报警。以1个月的用量为储存量。储存方式为钢瓶。需要气体监测器(电化学式、半导体式和色带式检测器等)。3.1.3能源动力供应和消耗供电经计算全厂用电负荷总装设容量72750Kw。本工程拟建设一座110kV总变电所,从市电不同的区域变电站引来两路独立的电源。变电所内安装两台31.5MVA110/6.3kV有载调压变压器。另外设置六台6kV、1650kW柴油发电机组作为应急电源。供汽、供热本项目工艺中所需热源为开发区提供的热水。另设热水锅炉房做为备用热源,锅炉房内安装全自动热水锅炉(油气两用,Q=5.6MW,供水温度80℃)5台,供应蒸汽40t/h。天然气与柴油天然气设计使用量为120m3/h,由柴油由槽车运来后,储存于室外柴油储罐内,2个200m3立式地上柴油罐,室外地上摆放。经过滤器、油泵加压后由管网系统送锅炉房。柴油品质为0空压、氮气项目所需压缩空气及氮气由厂给。厂区所需压缩空气量详见表3-2。项目厂区内使用0.65MPa高纯氮气,用量为2500Nm3/h。表3-2拟建项目厂区压缩空气消耗量一览表序号压缩空气压力消耗量(Nm3/h)常压露点平均最大10.7MPa-5000-主要能源动力消耗量见表3-3。表3-3主要能源动力消耗一览表序号项目名称单位数量备注1总装设功率kVA727502生产、生活用水t/a14401003纯水m3/h1804工艺用冷却水m3/h15005常温冷却水m3/h47506空调用冷却水m3/h13007天然气m3/h1208柴油9蒸汽kg/h4000010耗冷量kW863911工艺氮气Nm3/h250012动力氮气Nm3/h450013工艺氢气Nm3/h5014工艺氧气Nm3/h8515工艺氩气Nm3/h9016工艺氦气Nm3/h2517工艺真空Nm3/h250018清扫真空Nm3/h1500其他动力1、工艺真空系统2、清扫真空系统3、工艺设备冷却水系统:供水:拟建项目用水全部由烟台市福山区信息产业区供水工程管理中心提供。具体描述:工业用水和生活用水系统(1)自市政引入一条供水管线(目前按DN300考虑),接入生产水池,生活水箱及消防水池。市政给水压力按0.3MPa考虑。(2)本厂生产及生活日用水量约为4100m3(3)厂区所有生活用水利用市政水压直接供给。(4)生产水池设置在4号建筑(动力站),储水量约5000m3,其中包括576m(5)设备备用:生产水泵及纯水原水泵均为N+1备用方式。排水:本项目厂区排水体制实行雨污分流制:(1)雨水经厂区雨水管网汇集后排入市政雨水管网;(2)生产废水经厂区内生产废水处理站处理,生活污水经化粪池、隔油池处理后,分别由拟建项目生产废水总排口、生活污水总排口排入市政污水管网,经市政污水管网排入套子湾污水处理厂,处理后深海排放。生活污水、生产废水在生产废水总排口和生活污水总排口按《污水综合排放标准》(GB8978-1996)的三级排放标准执行。3.1.4水量平衡本项目用水主要分为生产用水和生活用水。本项目用水量分布见图3-1。自来水自来水超纯水系统生活用水初纯水系统酸碱废水含氟废水含氨废水处理系统处理系统处理系统纯水回收系统热水锅炉工艺冷却水空调循环水冷却塔排放3301(3316)3066(3086)4951503784596192036442964000(4020)(20)322(15)隔油池、化粪池123废气洗涤塔工艺用水研磨废水处理系统有机废水中和处理系统浓水常温冷却水系统1080120120120360495227237204554损耗520损耗27损耗15损耗(5)67200循环1140001920411损耗56108214108576621绿化用水蒸发、渗透9696(15)621生产废水3178(3193)图3-1拟建项目全厂用水平衡图(m3/d)注:热水锅炉为备用锅炉,括号内数字为锅炉运行时用水量(下同),热水锅炉年运行5天。3.1.5物料平衡为了了解主要原辅材料中的有毒有害物质的情况,本次环评对其中具有代表性的物料(用量较大或者毒性较大的物料),如氟、氨、异丙醇进行物料平衡分析。氟平衡本项目氟平衡见图3-2。氨平衡氨的平衡图见图3-3。异丙醇平衡IPA异丙醇平衡图见图3-4。折合纯氟:折合纯氟:85643.5消耗2141.1进入废水51386.1进入废气6423.3废气排放642.3废气处理5781.0废水处理57167.1废水处理污泥54880.4废水排放2286.7HFNH4FCHF3C2F6SF6CF4WF6CH2F29118279101.69166.1835.2538.2718.770.2013.70120废液回收25693.0图3-图3-2氟平衡图(单位:kg/a)折合纯氨折合纯氨:49322消耗2466进入废水39458进入废气7398废气排放740废气处理6658废水处理46116生化处理43810废水排放2306NH4OHNH4FNH877477910240图3-3图3-3氨平衡图(单位:kg/a)异丙醇IPA异丙醇IPA219828清洗进入废水8793进入有机废气24181废水排放8793废气排放1099废液外委处理186854有机废气处理24181进入有机废液186854沸石浓缩转轮23082燃烧图3-图3-4异丙醇平衡图(单位:kg/a)3.2工艺流程及产污环节3.2.1工艺流程一般地,集成电路芯片制造生产工艺包括硅片清洗、热氧化、扩散、化学气相沉积(CVD)、光刻、去胶、离子注入、刻蚀、金属化、化学机械抛光(CMP)等,这些工序反复交叉,包括检测和测试在内实际达到300左右的工艺步数。并且生产过程中使用多种化学试剂、特殊气体和配套动力。集成电路芯片生产的工艺流程如图3-5所示。清洗清洗氧化硅片离子注入光刻图3-5芯片生产工艺流程图(简化)CVD沉积CMP抛光入库检测去胶湿法刻蚀背面减薄溅射干法刻蚀干法刻蚀现将集成电路芯片加工的主要生产工艺的内容介绍如下:清洗集成电路芯片生产的清洗包括硅片的清洗和工器具的清洗。由于半导体生产污染要求非常严格,清洗工艺需要消耗大量的高纯水;且通过特殊过滤和纯化的半导体级化学试剂、有机溶剂等被广泛使用。硅片清洗是完全清除半导体硅片表面的尘埃颗粒、有机物残留薄膜和吸附在表面的金属离子。在硅片的加工工艺中,硅片先按各自的要求放入各种药液槽进行表面化学处理,再送入清洗槽,将其表面粘附的药液清洗干净后进入下一道工序。最主要的清洗方式是将硅片沉浸在液体槽内或使用液体喷雾清洗,同时为有更好的清洗效果,通常使用超声波激励,在一些特定的情况下,高温蒸汽腐蚀和低温喷溅腐蚀也被采用。由于使用有机溶剂清洗带来的溶剂残留,一般在有机溶剂清洗后立即采用无机酸将其氧化去除,最后用纯水冲洗,如图3-6所示。废药液废药液清洗排水1清洗排水3清洗排水2药液超纯水超纯水超纯水药液槽清洗槽图3-6硅片清洗工艺示意图废液收集系统清洗水回收系统废水处理系统芯片移动工具的清洗基本采用硅片清洗同样的方法。热氧化热氧化是在800~1250℃高温的氧气气氛和惰性携带气体(N2)下使硅片表面的硅氧化生成二氧化硅膜的过程,产生的二氧化硅用以作为扩散、离子注入的阻挡层,或介质隔离层。典型的热氧化化学反应为:Si+O2→SiO光刻光刻包括涂胶、曝光、显影。涂胶是在硅片表面通过硅片高速旋转均匀涂上光刻胶的过程;曝光是使用光刻机,并透过光掩膜版对涂胶的硅片进行光照,使部分光刻胶得到光照,另外部分光刻胶得不到光照,从而改变光刻胶性质;显影是对曝光后的光刻胶进行去除,由于光照后的光刻胶和未被光照的光刻胶将分别溶于显影液和不溶于显影液,这样就使光刻胶上形成了沟槽。基片基片涂胶后基片片显影后基片曝光后基片光刻胶湿法腐蚀和等离子刻蚀通过光刻显影后,光刻胶下面的材料要被选择性地去除,使用的方法就是湿法腐蚀或干法刻蚀。湿法腐蚀或干法刻蚀后,要去除上面的光刻胶。湿法腐蚀是通过化学反应的方法对基材腐蚀的过程,对不同的去除物质使用不同的材料。对不同的对象,典型使用的腐蚀材料为:腐蚀硅(Si)——使用氢氟酸加硝酸(HF+HNO3)腐蚀二氧化硅(SiO2)——使用氢氟酸(HF)腐蚀氮化硅(Si3N4)——使用热磷酸(热H3PO4)干法刻蚀是在等离子气氛中选择性腐蚀基材的过程,刻蚀气氛通常含有F等离子体或碳等离子体,因此刻蚀气体通常使用CF4这一类的气体。扩散扩散是在硅表面掺入纯杂质原子的过程。通常是使用乙硼烷(B2H6)作为N-源和磷烷(PH3)作为P+源。工艺生产过程中通常分为沉积源和驱赶两步,典型的化学反应为:2PH3→2P+3H2掺杂区掺杂区P/N-Si片P/N-Si片阻挡层离子注入离子注入也是一种给硅片掺杂的过程。它的基本原理是把掺杂物质(原子)离子化后,在数千到数百万伏特电压的电场下得到加速,以较高的能量注入到硅片表面或其它薄膜中。经高温退火后,注入离子活化,起施主或受主的作用。化学气相沉积(CVD)化学气相沉积是在一定的温度条件下,依靠反应气体与芯片表面处的浓度差,以扩散方式,被芯片表面吸收,并沉积出薄膜。在反应器中,反应气体(SiH4、SiH2Cl2、PH3、B2H4、AsH3)和携带气体(H2、O2、Ar、N2O、NH3等)不断流过反应室而产生气态副产物,连同未反应的气体一起排出。CVD被使用来在硅片上沉积氧化硅、氮化硅和多晶硅等半导体器件材料,是在300-900℃400400~450SiH4+O2→SiO2+2H2O生长过程中掺磷时加磷烷的反应为:4PH3+5O2→2P2O5+6H2SiH2Cl2+2N2O→SiO2+2N2+2HCl化学气相沉积根据CVD反应的气氛和气压可分为低压CVD(LPCVD)、常压CVD(APCVD)和离子增强CVD(PECVD)等。化学机械抛光(CMP)CMP是类似机械抛光的一种抛光方式,一般用于具有三层或更多层金属的集成电路芯片制造生产。在已形成图案的芯片上进行化学机械抛光,使之形成整体平面,以减轻多层结构造成的严重不平的表面形态,满足光刻时对焦深的要求。金属化金属化是在芯片表面上制成金属或合金的导体。在硅基片上沉积金属以作为电路的内引线的方法有蒸发、溅射、CVD等。本项目采用的是溅射工艺。铝是常用的金属沉积材料,其它的材料包括金、钛、钼、钨、钛钨合金、钯、铜。0后加工后加工包括对集成电路硅片的金属层热处理,电性测试和晶背研磨。3.2.2产污环节本项目生产过程中主要污染源的分布情况见图3-7。本项目主要污染源在总平面布置图上的位置见图3-8。清洗清洗氧化光刻湿法刻蚀去胶离子注入干法刻蚀CVD沉积CMP抛光溅射背面减薄检测入库G1、G2、G3W1、W2、W3、W5S1、S2、S3G4G1、G2、G3W1、W5S3、S4G1、G2、G3、W1、W2S3G3、S5G4G3、G4G4G1、G2、W4W4S6注:G1酸性废气;G2碱性废气;G3有机废气;G4特殊气体废气;W1酸碱废水;W2含氟废水;W3含氨废水;W4研磨废水;W5有机废水;S1磷酸废液;S2硫酸废液;S3有机废液(IPA);S4有机废液(废光刻胶、废显影液);S5其他有机废液;S6废硅片图3-7污染源分布示意图3.3污染物排放及其治理措施3.3.1工程施工期施工期间的主要污染有扬尘和噪声。扬尘主要由建筑工地施工和运输车辆运行引起;噪声主要是机械的施工噪声及车辆运行的交通噪声。车辆和施工机械的尾气含CH、NO2、CO等会造成大气污染。施工过程产生的各种噪声应遵守国家规定的标准。施工期的无组织扬尘应注意控制,如道路应及时洒扫,建筑弃土弃石应及时清运,堆存场所应洒水抑尘,运输车辆应蓬盖等。3.3.2工程营运期废水拟建工程排放的废水主要包括生产废水和生活污水两大类。(一)、生产废水本项目产生的生产废水主要包括酸碱废水、含氨废水、含氟废水、研磨废水、有机废水、废气洗涤塔排水、纯水制备废水、工艺设备冷却水和冷却塔循环水排水等,排放量3178t/d,锅炉运行时排放量为3193t/d。1.酸碱废水(1)工艺酸碱废水排放方式为连续排放,排放量为1080t/d。工艺酸碱废水主要来自芯片加工过程中使用硫酸、磷酸、盐酸等超纯试剂以及超纯水对生产硅片进行清洗的过程,包括对生产工具、器具、石英制品的清洗等。(2)纯水站酸碱再生废水排放方式:连续排放,排放量为150t/d。主要为离子交换再生酸碱废水,废水中主要污染物为酸、碱,与上述工艺酸碱废水一并处理后,拟汇入中和处理系统处理后由公司废水总排口排放。酸碱废水简化处理流程如下:酸碱废水酸碱废水合格排放酸碱废水收集罐一级中和槽二级中和槽三级中和槽不合格最终pH调节槽2.含氟废水排放形式:连续排放,排放量574t/d。2.含氟废水排放形式:连续排放,排放量574t/d。含氟废水采用化学沉淀法进行处理。含氟废水处理流程如下:洗涤塔废水浓HF废液浓HF废液洗涤塔废水浓HF废液浓HF废液Ca(OH)2、H2SO4混凝剂CaCl2混凝剂CaCl2预处理一级反应槽储槽收集槽预处理一级反应槽储槽收集槽含氟废水Ca(Ca(OH)2、H2SO4事故水箱絮凝剂混凝剂CaCl2事故水箱絮凝剂混凝剂CaCl2一级澄清槽三级反应槽处理后水箱二级澄清槽二级反应槽一级澄清槽三级反应槽处理后水箱二级澄清槽二级反应槽NaOH、HNaOH、H2SO4、NaHSO3、混凝剂最终PH值调节槽污泥槽板框压滤机污泥槽板框压滤机排放外运排放外运在采用氟化钙絮凝沉淀法处理含氟废水的同时,亦可去除废水中大部分磷。3.含氨废水:排放量为228t/d,排放方式为连续排放。本项目在生产上使用氟化铵和氨水,产生的含氨废水属高浓度的含氨废水。拟采用吹脱+硝化脱氮方式处理,处理后出水溢流至最终pH调节槽,与上述工艺酸碱废水一并中和处理后排放。含氨废水处理流程如下:含氨废水热交换含氨废水热交换吹脱(NH4)2SO4污泥处理系统活性炭过滤器NaOHH2SO4洗涤塔废水硝化槽脱氮槽曝气槽澄清槽最终pH调节槽NaOHH2SO4外运4.研磨废水排放方式:连续排放,排放量120t/d。分为背晶研磨废水、金属研磨废水等,主要污染物为悬浮物,采用絮凝沉淀法进行处理。5.有机废水排放方式:连续排放,排放量120t/d。根据生产废水中有机物的含量分析,采用生化法处理。废水经过pH调节,生物接触氧化,澄清沉淀后排放,部分污泥回流,其余污泥经浓缩、脱水后外运。由专门公司统一处理。6.纯水站浓缩废水和超滤浓缩废水排放方式:连续排放,排放量1071t/d。本项目生产工艺中用到大量纯水和超纯水,纯水站的浓缩废水主要含原自来水中的离子(盐类),每天浓缩废水量为495t/d。这部分废水基本不含污染物,直接排出。在制取超纯水时,将产生超滤浓缩废水,是未通过超滤膜的废水,是优质排水,每天超浓缩废水量为576t/d。这部分废水不排出,而是供冷却塔用水。7.废气洗涤塔排水排放方式:间歇排放,排放量322t/d。芯片加工过程中排放的HF、HCl、硫酸雾、NH3等酸碱废气,工程上设置有碱(酸)液喷淋吸收塔吸收处理,排放的废水为吸收塔中多次循环使用的吸收废液。其中,碱性洗涤塔废水108t/d,汇入含氨废水处理系统进行处理;酸性洗涤塔废水214t/d,汇入含氟废水处理系统进行处理。8.工艺设备冷却水、空调循环水排放方式:连续排放,排放量为45t/d。工艺设备冷却水及空调循环水排放量45t/d。工艺设备冷却水使用RO纯水,采用管道密闭循环,由于工艺设备对循环水质量要求较高,因此循环水需少量外排,并且补充部分新鲜RO水,以维持一定的水质指标,这部分废水不直接排出,进入冷却塔供其使用。9.冷却塔排水排放方式:连续排放,排放量为411t/d。冷却塔中循环水经反复多次使用后,盐分增高,需要定期外排。排水中主要成份为原自来水中浓缩的盐类、SS,无需处理,直接经厂区生产废水总排口排放。10.热水锅炉排水热水锅炉全年运行5天,在运行期间排水15t/d,废水基本不含污染物,直接排出。生产废水处理工艺流程详见图3-9。(二)生活污水生活污水主要有厂区职工日常清洗用水、卫生间污水、餐厅废水以及洁净服清洗水等,排放量123t/d。卫生间粪便污水拟采用化粪池预处理,餐厅污水拟设置隔油池作撇油处理后由公司生活污水总排口排放。(三)污染物排放情况各类废水处理设施中主要污染物处理前后的排放量和浓度见表3-4。表3-4废水中主要污染物处理情况统计废水处理系统废水处理量t/d主要污染物处理前处理后处理效率(%)产生量kg/d浓度mg/L排放量kg/d排放浓度mg/L含氨废水处理系统(包括含氨废水、废气洗涤塔废水)228NH3-N128.1561.86.428.195含氟废水处理系统(包括含氢氟酸、磷酸废水、废气洗涤塔废水)574pH*1~66~9-F-158.8276.76.411.196磷酸盐(以P计)21.189CODCr84.9147.949.285.842TOC42.574.025.544.440SS60.3105.030.252.550研磨废水处理系统120pH*7~126~9/SS48.2402.02.924.194有机废水处理系统120pH*5~66~9CODCr44.8373.36.756.085TOC22.4186.74.4837.380SS7.68640.776.490最终pH调节(包括含氟废水、含氨废水、研磨废水、酸碱废水和纯水站离子交换再生酸碱废水)2272pH*1.5~106~9F-2.8-NH3-N2.8-磷酸盐(以P计)1.010.441.010.44-CODCr379.5167.0379.5167.0-TOC189.883.5189.883.5SS105.946.6105.946.6-生活污水123pH*6.5~9.06.5~9.0-CODCr43.135031.025228BOD525.821018.6151.228TOC17.9145.513.8112.023SS27.122020.1162.826NH3-N20.718*——pH无单位。上述经过处理后的各类生产废水汇合后经拟建项目生产废水总排口,生活污水经拟建项目生活污水总排口进入开发区污水管网进行二次处理。生产废水总排口各类污染物排放指标统计见表3-5。表3-5生产废水总排口污染物排放情况废水排放量(万t/a)名称污染物名称氟化物(以F计)NH3-N磷酸盐(以P计)CODCrTOCSSpH114.416排放浓度(mg/L)2.0(2.0)2.0(2.0)0.32(0.32)119.4(118.9)59.7(59.4)33.3(33.2)6~9年排放量(kg/a)23042304363.61366206832838124—排放标准(mg/L)20——500—4006~9达标情况达标达标达标达标达标达标达标注:1.pH无单位;括号内数字为锅炉运行时排放浓度。2.排放标准为《污水综合排放标准》GB8978-1996三级标准。生活污水总排口各类污染物排放指标统计见表3-6。表3-6生活污水总排口污染物排放情况废水排放量(万t/a)名称污染物名称NH3-NTOCCODCrSSPH4.428排放浓度(mg/L)20.7112.0252162.86.5~9年排放量(kg/a)9004968111607236—排放标准(mg/L)——5004006~9达标情况达标达标达标达标达标注:1.pH无单位;2.排放标准为《污水综合排放标准》GB8978-1996三级标准。从表3-5、表3-6中可见,拟建项目排放的生产废水经处理后均能达到《污水综合排放标准》GB8978-1996三级标准要求。废气(一)工艺废气①一般废气(废热)排风系统该系统排放一般的废气和高温排风,不需经处理而直接排放。总排风量为540000m3②酸性废气酸性废气量430000m3/h,主要来源于工艺流程中使用各种酸液对芯片的腐蚀、清洗过程,主要污染物为氟化物、硫酸雾、HCl等。酸性废气采用废气洗涤塔进行处理,该装置对污染物的吸收效率为90③碱性废气.碱性废气76000m3/h,主要来源于清洗、显影、去胶、湿法刻蚀、CMP等工序产生的工艺排气,主要污染物为NH3。碱性废气采用废气④有机溶剂废气有机废气94000m3/h,主要是来自于光刻区、扩散区的及清洗用之异丙醇等有机溶剂废气;以及涂胶、去胶、湿法刻蚀工序剥离、光刻区、扩散区的光阻剂及清洗用有机废气经由特殊的沸石浓缩转轮将有机溶剂废气浓缩后通入天然气燃烧处理,该装置处理效率为90~95%左右。主要污染物指标均能达到相应排放标准要求。表3-7工艺废气主要污染物处理及排放情况表废气种类排放参数污染物名称处理前处理后处理效率评价标准达标情况排气筒数量高度(m)排气总量(m3/h)排放速率(kg/h)排放浓度(mg/m3)排放速率(kg/h)排放浓度(mg/m3)排放速率(kg/h)排放浓度(mg/m3)酸性废气430430000氟化物0.741.720.070.1790%0.599.0达标HCl0.330.770.0330.07790%1.4100达标硫酸雾1.3190%8.845达标NOX0.110.260.0110.02690%4.4240达标碱性废气13076000NH30.8611.30.0861.1390%20/达标有机废气13094000异丙醇2.80995%/320/TVOC9.095.70.909.690%//注:1.除氨执行《恶臭污染物排放标准》GB14554-93外,其余均执行《大气污染物综合排放标准》(GB16297--1996)中二级标准(第二时段)。2.氮氧化物以NO2计,氟化物以F计.在我国台湾地区目前执行的是《半导体制造业空气污染管制及排放标准》对特征污染物挥发性有机物VOC的控制标准为排放削减率(要求大于90%)或排放速率(要求低于0.6kg/h)。而目前我国国内尚未完成相应的控制标准制订工作。根据国内外同类生产企业的运行、测试经验,本项目采取的特殊的沸石浓缩转轮将有机溶剂废气浓缩后通入天然气燃烧处理,效果完全能达到90%以上,能满足台湾地区《半导体制造业空气污染管制及排放标准》的要求。=5\*GB3⑤天然气燃烧废气生产过程中产生的有机溶剂废气(VOC),使用沸石浓缩转轮将有机溶剂废气浓缩后燃烧处理,以及区域性除害装置在处理特殊气体时,所需燃料为天然气。使用的天然气约120m3/h,年总用量为100.8万m3/a(一年按350天,一天按24小时计),烟气排放量为1058.4万m3/a,污染物排放量为:NOx1.77t/a、SO20.0058t/a、烟尘=6\*GB3⑥特殊气体废气在生产过程中使用的硅烷、磷烷等特殊性气体自设备排出后先经专用的区域除害装置进行处理,然后再进入酸性废气处理系统,通过中央湿式洗涤塔处理后,洗涤后的废气由防腐离心风机经置于屋顶的排气筒(高度:30区域性废气处理系统主要采用吸附、燃烧、水洗和热氧化4种处理方式,分别处理不同性质的废气污染物。在设备尾端对制程尾气(如SiH4,AsH3,PH3,H2,C4F6等)直接处理,以降低废气输送过程中的风险,经处理后废气通过输送管道进入中央处理系统再次进行酸碱洗涤处理,处理效率为85%左右工程特殊废气处理措施见表3-8。表3-8特殊废气处理措施废气处理设备原理废气来源废气种类排气类型备注区域性废气处理系统电热水洗式BOCE-HOX通过电加热(750度)使废气氧化产生固体废物和可溶于水的气体,再由三级水洗系统吸收溶于水的气体并排走固体废物炉管蚀刻CO、HCl、HF、HBr、SiCl4、SiF4、ClF3、、PFC酸性排气废水进入工业废水处理系统处理填充水洗式BOC-Tempest逆流水淋洗废气吸收易溶于水气体蚀刻、清洗HCl、HBr酸性排气废水进入工业废水处理系统处理燃烧式BOCE-TCS/TPU通入燃气(CH4,C3H8等)高温燃烧(700-1100度)处理废气,产生固体废物和可溶于水的气体,再由三级水洗系统吸收溶于水的气体并排走固体废物化学气相沉淀,物理气相沉淀,炉管PFC,H2、SiF4,PH3,AsH3酸性排气废水进入工业废水处理系统处理干式吸附式BOCE-GRC使用吸附剂(金属酶和钙盐),通过物理或化学吸附法处理各类有害气体。离子植入AsH3,PH3,B2H6酸性排气吸附材料由指定厂商定期更换、再生(二)锅炉烟气本项目工艺中所需热源为开发区提供的热水。项目用蒸汽量为40t/h,另设热水锅炉房做为备用热源,有5台5600KW热水锅炉。根据园区市政情况,热水锅炉将使用燃料轻质柴油(0#、10#),5台锅炉年运行5天,柴油用量为1320L/h,烟气排放情况见表3-15。从表中可见,使用燃料轻质柴油时,锅炉烟气排放能达到GB13271-2001表3-9热水锅炉烟气排放情况统计排放参数污染物名称排放速率(kg/h)排放浓度(mg/m3)评价标准(mg/m3)达标情况排气筒数量高度(m)烟气温度℃排气总量(Nm3/h)11520024006氮氧化物3.6148400达标二氧化硫1.1179500达标烟尘0.113100达标(三)无组织排放无组织排放是指排气筒高度小于15(1)气体及化学品的储存过程本项目特殊气体和化学品根据生产需要由供应商负责储存、运输、供货。特殊气体采用钢质高压容器,工艺中使用的化学品,全部采用不锈钢、不锈钢聚已烯内胆、锰钢等钢质瓶、罐密封后用车运的方式运输入厂,然后根据其不同的用途和性质分别储存在化学品库内。储罐采用密封,在储存过程中不存在损耗,基本没有污染物的无组织排放。(2)气体及化学品的使用过程本项目大宗气体(氮气、氧气、氢气)由专业气体公司在项目建设地内建设气体工厂,根据使用量现场制备并通过管道直接输送至生产车间。特殊气体和化学品在使用前分别转运至特气、药品自动供给室,在开罐使用时不可避免会有少量逸出,由于特气及药品配送站设计位于密闭的洁净厂房内,设置有紧急排气系统,废气将通过30m高度的排气筒有组织排放。特气及化学品在输送至生产工序时管道采用双层套管,避免了物料的跑、冒、滴、漏,对于产生的废液也作了储存处理。本项目生产车间大部分为超洁净室,全封闭式操作,易挥发有机、无机废气分别抽取到4类废气净化系统中进行处理,再通过30m高度的(3)化学品运输过程中的极微量泄漏管道输送液体的过程中,在管道接口处有极微量液体泄漏。根据类比数据,化学材料在运输过程中,在罐装、管道等接口处可能的极微量泄漏约为总量的0.05%。本评价考虑的是使用量较大的氟化氢、氨,年使用量分别按91182kg/a、87747kg/a计,泄漏量按最坏情况来考虑,为总量的0.8%计,可得到氟化氢、氨的极微量无组织排放约为0.084kg噪声本项目生产设备位于洁净厂房内,声级较小。产噪设备主要为冷冻机组、空压机、真空泵、风机、水泵等动力设备。本项目的主要动力设备情况见表3-10。通过选用低噪声设备,布置于厂房内,并采取了隔声、吸声、减振等有效的降噪措施,可大大降低了其噪声影响。表3-10拟建工程主要噪声污染源一览表序号噪声源名称数量(台)数量(台)来源源强(dBA)备注治理前治理后1通风机5酸性废气处理系统(包括特殊性废气)≤95752通风机2碱性废气处理系统≤95753通风机2有机废气处理系统≤95754冷冻机组12冷冻站85左右75~802台备用冷冻水一次泵12建筑物外1m处冷冻水二次泵6循环冷却水泵125冷却塔6冷却塔75左右70冷却塔风机6冷却塔90左右856生活/生产加压泵4生活/生产给水系统78左右707热水泵5锅炉房70左右705台备用8真空泵3工艺真空系统80左右701台备用9真空泵2清扫真空系统80左右70701台备用旋风式分离器210新风机组14生产厂房化学品库80~85752台备用空调器机组665~757011风机1065~757012空气压缩机6~7大宗气体供应站(BulkGasYard)≤10075~80建筑物外1m处为75~80膨胀机2~3≤10075~8013柴油发电机6柴油发电机房<9075~8014主变压器2主变压器室<70固体废物本项目建成投产后,产生的废物的排放情况见表3-11。表3-11废物、废液处置与排放情况统计表类别废物名称主要成分排放量(吨/年)危害性处置去向废液废光刻胶、废显影液(HW16)EKC、EBR、A515等142.5易挥发燃烧委托具有危险废物处理资质的单位进行收集处置混合有机溶剂废液(HW42)NMP等70.5易挥发燃烧、低毒硫酸铵废液(HW34)(NH4)2SO4237.6一般异丙醇废液(HW42)IPA560刺激、低毒;有火灾爆炸得危险废酸(废硫酸、磷酸等)(HW34)H2SO4、H3PO4等928.8刺激、腐蚀含氟废液HF等128.5腐蚀、刺激、低毒浓废光阻液(HW42)115.2易挥发燃烧小计=SUM(ABOVE)2183.1固体废物废芯片5.6生产厂回收电子混合废料废五金15具有危险废物处理资质的单位进行收集处置含砷废物含砷抹布等3含汞废物含汞灯泡0.4废化学试剂瓶玻璃75废水处理污泥CaF2、SiO21164.6一般废包装材料等一般事业废弃物纸、塑料等97.5废品回收商办公及生活垃圾纸、厨余等540一般城市垃圾处理场小计1901.1合计4084.2第3章自然与社会环境概况3.1自然环境概况3.1.1项目地理位置本次项目位于烟台市福山区工业用地内,处于福桃路与五区连环路交叉口的西南角,地理位置详见图2-1。烟台市福山区位于胶东半岛东北部、黄海之滨,是全国首批14个沿海开放城市—烟台市的市辖区,东以大沽夹河为界与芝罘区、莱山区隔河相望,东南与牟平区为邻,西南与栖霞市相连,西北与蓬莱市接壤,北临烟台经济技术开发区。总面积482.83平方公里,辖4个镇、2个街道办事处和1个省级高新技术产业区,179个行政村,52个居委会。烟台市工业用地位于福山区南部,距离莱山机场7km;与主城区联系便捷。该地区也是烟台的西南门户,站立在烟台对外开放的最前沿;并位于绕城高速北侧,有着极其优越的区位条件。3.1.2地形地貌项目区地形属山丘陵区,山丘起伏,沟壑纵横。总的地势是西高东低,南高北洼,自西南向北倾斜。南部山峰多为东西走向,西部峰峦多为南北走向。主要山脉为嗒垆山,主峰塔顶,海拔630.4m。沿河多为小片平原。3.1.3气候气象烟台市属于暖温带大陆性气候,四季分明。春季温暖而干燥,风大雨少;夏季湿热多雨;秋季天高气爽;冬季寒冷少雨雪。流域地处中纬度,属于暖温带季风型大陆性气候。具有四季分明,气候温和等特点。常年主要气象特征为:多年平均气温11.8℃,最冷月份平均气温-2.9℃,最热月份平均气温25℃,极端最高气温39.8℃,极端最低气温-17.3℃。多年平均无霜期207.3天,最大冻土深3.1.4水文地表水烟台境内河流属半岛边沿水系,主要河流有:清洋河,俗称内夹河,发源于栖霞城南小灵山,境内长27公里,流域面积330平方公里;大沽夹河,俗称外夹河,发源于海阳县郭城镇牧牛山,境内长43公里,流域面积130平方公里。两河分别自西、南入境,流贯全区,蜿蜒于福山城东北永福园村东,汇流入黄海。境内有烟台市最大的水库——门楼水库,库容可达1.2亿立方米,是烟台市区生产、生活用水的主要水源地。内夹河控制流域面积1224平方公里,河道长度65公里,流域平均长度52公里,宽度22.5公里。地貌为低山丘陵区,其中山区面积占80%,丘陵占20%。地势为西南高、东北低。流域内水土保持一般,森林覆盖率在21.7%以上。流域内现有门楼大(2)型水库1座,庵里中型水库1座,小型水库86座,控制总流域面积1079平方公里,总库容3.52亿立方米,兴利库容1.95亿立方米。地下水本区地下水按其赋存条件,可分为第四系松散岩类孔隙水、碳酸盐岩类岩溶裂隙水和基岩裂隙水三种类型。第四系松散岩类孔隙水主要分布于沿内夹河发育的山间河谷河道、河漫滩及河流阶地内。其沉积厚度由南向北渐增加,一般6~23m左右。含水层岩性以砂、砾、卵石为主,赋存孔隙潜水、微承压水。地下水埋深一般4~12m。主含水层渗透系数50~80m/d,单井涌水量1200~2000m33.1.5地质条件本区在大地构造上属胶东隆起区,处于次一级单元胶北隆起的北部边缘。位于岗嵛一古现向斜东翼,该向斜主要由粉子山群软质云母片岩组成。桃村一东陡山断裂在本区东南10公里处的莱山、初家一带穿过,向东北入黄海。芝罘岛北侧,有北西向烟台一蓬莱北断裂通过。项目区域内,无大的活动性断裂构造存在。据《中国地震动参数区划图》(GBl8306—2001),地震动峰值加速度为0.10g,场地地震动反映谱特征周期为0.40S,相应的地震基本烈度为Ⅶ度,属设计地震第一组。3.2社会环境概况3.2.1福山区概况福山区是烟台市的市辖区,在1949年至2002年间,行政区划几经调整,至2002年9月,福山区辖清洋街道办事处、福新街道办事处、高疃镇、门楼镇、张格庄镇、回里镇和福山高新技术产业区;共4个镇、2个街道办事处和1个省级高新技术产业区。2003年全区国内生产总值50.2亿元,地方财政收入1.96亿元;社会消费品零售总额11.5亿元;城镇居民人均可支配收入8586元,农民人均纯收入3939元;城乡居民储蓄余额29亿元。福山区按照“以园区化带动工业化、推进城市化,建设新型工业化河滨市区”的总体发展思路,以福山高新技术产业区为重要载体,膨胀发展机械制造、纺织服装、电子信息和高档食品加工四大主导产业。2003年全区规模以上工业企业完成增加值7.9亿元,销售收入28.6亿元,利税2.1亿元。同时加快农业结构调整,促进农业增效、农民增收。到2003年,全区大樱桃种植面积7万亩,无公害蔬菜基地面积3000亩,粮经种植比例达到1:9;畜禽规模养殖场340个,奶牛存养量3000头,形成了以林果、蔬菜和奶牛养殖为重点的三大高效主导产业。农业产业化水平不断提高,农产品加工企业达到27家,年加工能力25万吨,促进了全区农产品的销售,增加了农民收入。项目位于福山城市规划的工业用地。位于福山区南部,距离莱山机场7km,至烟台火车站7km,至八角港码头15km。现状有正在建设的芝阳小区及卫家疃、房家疃、南塗山等村庄,已有通用显示、华俊科技电子、福山政府接待中心等企事业单位入驻,土地平整已基本完成。本区主要由产业研发区、信息产业区、展示区、普通一类产业区和居住片区组成,规划总用地682.6公顷。3.2.2厂址周围社会概况拟建项目厂址东临福桃路;西与内夹河相望;北临新五区连接路,经调查评价范围内无名胜古迹及重点文物保护区,也无旅游区。厂址周围均为已经平整的信息产业区土地。经调查,本项目厂址一期工程占地的单位正在搬迁,距离厂址最近的居民点为前埠村居民点,共有24户,72口人。项目厂址附近主要敏感目标分布情况详见表3-1和图5-1。表3-1拟建项目厂址附近主要敏感目标一览表序号名称相对厂址方位相对厂址距离(m)1吕格庄SW16002芝阳山医院N11003房家疃ENE16004前埠村居民点W1505福山区政府N28006东留公W13007水厂地下水取水口WNW11008芝阳小区N14009南涂山SE17003.2.3套子湾污水处理厂简介套子湾污水处理厂于1996年开工建设,1998年10月投入试运行,一期设计一级处理能力为25万m3/d,二级处理能力为4万m3/d,目前,实际处理量约为16万m3/d。主要用于处理烟台市芝罘区、福山区和经济开发区的城市污水。该污水处理厂一期工程总投资4.53亿元,经过二级AAO处理工艺及深度处理的废水量仅为4万m3/d,其余废水经一级机械处理后,经污水处理厂内排海泵站通过4950米管道及穿山隧道深海排放。排放管线见图3-1。该污水处理厂二期工程共投资2.35亿元,目前正处于招标阶段,将于2007年中旬投入运行。该工程根据城市排水量的变化,计划将二级处理的能力扩建16万m3/d,处理工艺采用改良的AAO工艺。二期投产后,项目废水经套子湾污水处理厂处理后,达到《城镇污水处理厂污染物排放标准》(GB18918-2002)中二级排放标准,深海排放。本次项目污水最终进入套子湾污水处理厂,地理位置见图2-1B。3.3环境质量概况3.3.1环境空气质量现状根据2005年烟台市福山区例行监测点(环保局)例行监测数据显示,福山区环境空气质量现状良好,PM10、SO2、NO2年均值满足《环境空气质量标准》(GB3095-1996)中二级标准要求。详见表3-2。表3-22005年烟台市福山区例行监测点(环保局)例行监测数据名称时间可吸入颗粒物二氧化硫二氧化氮1月0.0250.0380.0382月0.0280.0310.0313月0.0950.0480.048一季均值0.0490.0390.0394月0.1050.0320.0115月0.0720.0170.0176月0.0820.0450.017二季均值0.0860.0130.0157月0.0850.0490.0178月0.0550.0050.0089月0.0670.0090.020三季均值0.0690.0210.01510月0.0710.0200.04211月0.0900.0360.05212月0.0420.0450.034四季均值0.0680.0340.042年日平均值0.0680.0270.0283.3.2地表水环境质量现状根据2005年烟台市城市环境综合整治定量考核结果报表显示,本次项目5km范围内的河流断面地表水环境质量良好,能够满足《地表水环境质量标准》(GB3838-2002)中Ⅲ类标准。详见表3-3。表3-32005年烟台市城市环境综合整治定量考核明细表监测水域监测项目执行标准监测情况(毫克/升(PH除外))水体断面3月5月7月8月10月11月大沽夹河(外夹河)大沙埠PH6-97.267.527.127.057.147.18DO≥56.417.526.886.446.446.22CODcr≤2011.09.810.6CODmn≤65.025.325.113.443.445.92BOD5≤43.723.013.333.953.853.41NH3-N≤1.00.650.9520.7540.8770.8770.987总氨≤1.00.8540.9890.9580.9980.9850.997氰化物≤0.2未检出未检出未检出未检出未检出未检出挥发酚≤0.005未检出未检出未检出未检出未检出未检出氟化物≤1.0未检出未检出未检出未检出未检出未检出砷≤0.05未检出未检出未检出未检出未检出未检出汞≤0.0001000000六价铬≤0.05未检出未检出未检出未检出未检出未检出铅≤0.05未检出未检出未检出未检出未检出未检出镉≤0.005未检出未检出未检出未检出未检出未检出阴离子表面活性剂≤0.2未检出未检出未检出未检出未检出未检出石油类≤0.05未检出未检出未检出未检出未检出未检出硫化物≤80.070.090.080.08仉村河PH6-96.897.40--7.117.057.10DO≥56.226.88--6.876.875.95CODcr≤209.2010.8--8.508.458.52CODmn≤64.445.24--2.882.885.31BOD5≤43.123.15--3.613.612.53NH3-N≤1.00.3320.955--0.9850.9850.856总氨≤1.00.5540.995--0.9950.9990.956氰化物≤0.2未检出未检出--未检出未检出未检出挥发酚≤0.005未检出未检出--未检出未检出未检出氟化物≤1.0未检出未检出--未检出未检出未检出砷≤0.05未检出未检出--未检出未检出未检出汞≤0.000100--000六价铬≤0.05未检出未检出--未检出未检出未检出铅≤0.05未检出未检出--未检出未检出未检出镉≤0.005未检出未检出--未检出未检出未检出阴离子表面活性剂≤0.2未检出未检出--未检出未检出未检出石油类≤0.05未检出未检出--未检出未检出未检出硫化物≤0.20.090.08--0.050.070.09内夹河福山水闸下PH6-97.986.95断流DO≥55.556.35CODcr≤2018.525.50CODmn≤65.8814.8BOD5≤43.943.85NH3-N≤1.00.7550.898总氨≤1.00.9560.997氰化物≤0.2未检出未检出挥发酚≤0.005未检出未检出氟化物≤1.0未检出未检出砷≤0.05未检出未检出汞≤0.000100六价铬≤0.05未检出未检出铅≤0.05未检出未检出镉≤0.005未检出未检出阴离子表面活性剂≤0.2未检出未检出石油类≤0.05未

温馨提示

  • 1. 本站所有资源如无特殊说明,都需要本地电脑安装OFFICE2007和PDF阅读器。图纸软件为CAD,CAXA,PROE,UG,SolidWorks等.压缩文件请下载最新的WinRAR软件解压。
  • 2. 本站的文档不包含任何第三方提供的附件图纸等,如果需要附件,请联系上传者。文件的所有权益归上传用户所有。
  • 3. 本站RAR压缩包中若带图纸,网页内容里面会有图纸预览,若没有图纸预览就没有图纸。
  • 4. 未经权益所有人同意不得将文件中的内容挪作商业或盈利用途。
  • 5. 人人文库网仅提供信息存储空间,仅对用户上传内容的表现方式做保护处理,对用户上传分享的文档内容本身不做任何修改或编辑,并不能对任何下载内容负责。
  • 6. 下载文件中如有侵权或不适当内容,请与我们联系,我们立即纠正。
  • 7. 本站不保证下载资源的准确性、安全性和完整性, 同时也不承担用户因使用这些下载资源对自己和他人造成任何形式的伤害或损失。

评论

0/150

提交评论