标准解读

《GB/T 42789-2023 硅片表面光泽度的测试方法》是一项国家标准，旨在规范硅片表面光泽度的测量过程。该标准适用于单晶硅、多晶硅等半导体材料制成的硅片，其主要目的是通过统一的测试方法来确保不同实验室或检测机构之间获得的结果具有可比性。

根据标准内容，测试前需要对样品进行适当的准备，包括但不限于清洁处理以去除可能影响测量结果的污染物。对于测试环境也有明确要求，比如温度和湿度应控制在一定范围内，以减少外界因素对测试结果的影响。

该标准详细规定了使用何种类型的仪器进行测试，并且描述了具体的测量步骤。通常情况下，会采用反射率测定法或者散射光强度法来进行硅片表面光泽度的评估。其中，反射率测定法是基于特定角度下入射光线与反射光线之间的关系来计算光泽度值；而散射光强度法则关注于非镜面方向上的散射光量作为评价依据。

此外，《GB/T 42789-2023》还包含了数据处理部分，指导如何从原始读数中提取有效信息并转换成最终报告形式。这包括但不限于平均值计算、重复性检验以及异常值剔除等方面的内容。

最后，在附录部分提供了示例表格及图表格式，帮助用户更好地理解和应用本标准所提出的方法论。同时，也给出了一些关于设备校准、维护保养等方面的建议性说明，虽然这些不属于强制执行条款，但对于保证长期稳定可靠的测试结果仍然非常重要。


如需获取更多详尽信息，请直接参考下方经官方授权发布的权威标准文档。

....

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  • 现行
  • 正在执行有效
  • 2023-08-06 颁布
  • 2024-03-01 实施
©正版授权
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文档简介

ICS77040

CCSH.21

中华人民共和国国家标准

GB/T42789—2023

硅片表面光泽度的测试方法

Testmethodforglossofsiliconwafer

2023-08-06发布2024-03-01实施

国家市场监督管理总局发布

国家标准化管理委员会

GB/T42789—2023

前言

本文件按照标准化工作导则第部分标准化文件的结构和起草规则的规定

GB/T1.1—2020《1:》

起草

。

请注意本文件的某些内容可能涉及专利本文件的发布机构不承担识别专利的责任

。。

本文件由全国半导体设备和材料标准化技术委员会与全国半导体设备和材料标准

(SAC/TC203)

化技术委员会材料分技术委员会共同提出并归口

(SAC/TC203/SC2)。

本文件起草单位浙江金瑞泓科技股份有限公司浙江海纳半导体股份有限公司有色金属技术经

:、、

济研究院有限责任公司天津中环领先材料技术有限公司山东有研半导体材料有限公司上海合晶硅

、、、

材料股份有限公司麦斯克电子材料股份有限公司广东金湾高景太阳能科技有限公司浙江旭盛电子

、、、

有限公司巢湖学院金瑞泓科技衢州有限公司

、、()。

本文件主要起草人梁兴勃李琴张海英林松青潘金平李素青张雪囡由佰玲边永智庄智慧

:、、、、、、、、、、

沈辉辉焦二强韩云霄徐志群付明全詹玉峰王可胜

、、、、、、。

Ⅰ

GB/T42789—2023

硅片表面光泽度的测试方法

1范围

本文件描述了采用光反射法以或几何条件测试硅片表面光泽度的方法

20°、60°85°。

本文件适用于硅腐蚀片抛光片外延片表面光泽度的测试不适用于表面有图形的硅片的测试

、、,。

2规范性引用文件

下列文件中的内容通过文中的规范性引用而构成本文件必不可少的条款其中注日期的引用文

。,

件仅该日期对应的版本适用于本文件不注日期的引用文件其最新版本包括所有的修改单适用于

,;,()

本文件

。

色漆和清漆不含金属颜料的色漆漆膜的和镜面光泽的测定

GB/T975420°、60°85°

半导体材料术语

GB/T14264

镜向光泽度计和光泽度板

JJG696—2015

3术语和定义

和界定的以及下列术语和定义适用于本文件

GB/T9754GB/T14264。

31

.

光泽度gloss

对于规定的光源和接收角从物体镜向方向反射的光通量与从折射率为的黑玻璃镜向方向

,1.567

反射的光通量之比

。

注1为了确定镜向光泽的标度对于和几何角度折射率为的抛光黑玻璃规定其光泽度值

:,20°、60°85°1.567,

为

100。

注2对双面硅抛光片背面光泽度的评价是以抛光片正面光泽度为基准计算的

:。

4方法原理

在规定入射角和规定光束的条件下入射光经过透镜照射到样品表面得到镜向反射角方向的光

,,

束此时反射光强度由样品材料表面性质决定接收器收集样品反射光与标准表面反射光强度对比

,,,,

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