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电子有效质量: 能带极值附近电子速度:浅能级杂质电离能的简单计算: 硅、锗的相对介电常数分别为16和12;锗,硅导带底的状态密度: 硅,锗价带顶的状态密度: 硅,锗费米分布函数(对于能量为的一个量子态被电子占据的概率): 玻耳兹曼分布函数(适用范围,): 导带中的电子浓度: 价带中的空穴浓度: 本征半导体, 费米能级: 载流子浓度: “单”杂质半导体,电子(空穴)占据施主(受主)能级的概率: 施主(受主)能级上电子(空穴)浓度: 电离施主(受主)浓度: n型 p型电中性方程: 弱电离区 强电离区 , ,过渡区 在有杂质补偿情况下, n型 p型极低温情况下 低温下,与“单”杂质半导体低温下弱电离相同强电离,以 当(或)与相近时,(或) 载流子的漂移运动 ,, 迁移率: 电导率: , 半导体电导率:半导体的主要散射机构:电离杂质散射 (散射概率) 晶格震动散射 (声学波散射) (光学波散射) 平均自由时间: 电子、空穴迁移率: ,存在多种散射机构时: ,随非平衡载流子注入产生的附加电导率: 单位时间单位体积内净复合消失的电子—空穴对数称为非平衡载流子的复合率。准费米能级: 非平衡载流子越多,准费米能级偏离就越远。直接复合: ,其中表示电子—空穴复合概率分情况有:当时,当间接复合: 复合中心浓度,复合中心能级上电子浓度电子俘获系数,电子激发概率,空穴俘获系数,空穴激发概率①电子俘获率,②电子产生率,③空穴俘获率,④空穴产生率,有①+④=②+③,得,在小注入情况下,寿命只取决于,,,;且主要分别由,,和决定。(详见P137-P138)陷阱效应:杂质能级(施主、受主、复合中心或任何其它杂质能级)的积累非平衡载流子的作用。(详见5.5)载流子
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