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文档简介

第页共页常压脱硅操作规程第一章总则第一条为了规范常压脱硅操作过程，保障操作人员的安全，确保设备的正常运行，制定本操作规程。第二条常压脱硅操作是指在常压条件下进行硅元素的去除工作，通常包括硫酸水解法、醋酸水解法和氧化还原法等。第三条本操作规程适用于常压脱硅操作人员。对于无操作资格或者未接受培训的人员，禁止进行常压脱硅操作。第四条在进行常压脱硅操作前，操作人员应熟悉常压脱硅的工艺流程、设备的操作原理和操作要点。第二章常压硫酸法脱硅第五条常压硫酸法脱硅采用硫酸水解的方法进行。操作人员应严格遵守以下操作规程：1.检查设备是否正常运行，确认相关设备是否开启。2.接通水源，通入适量硫酸。3.检查设备是否密封正常，确保不发生泄漏。4.按照规定的比例，将待处理的硅材料加入设备中。5.根据设备要求设置温度、压力等参数。6.注意观察设备运行情况，确保操作过程中没有异常。7.根据设备要求定时加入酸，确保反应进行顺利。8.操作完毕后，关闭设备，停止供水和加酸。9.清理设备，保持设备的清洁卫生。第三章常压醋酸水解法脱硅第十条常压醋酸水解法脱硅采用醋酸水解的方法进行。操作人员应严格遵守以下操作规程：1.检查设备是否正常运行，确认相关设备是否开启。2.加入合适的醋酸，调节设备温度和压力。3.检查设备是否密封正常，确保不发生泄漏。4.将待处理的硅材料加入设备中。5.根据设备要求设置温度、压力等参数。6.注意观察设备运行情况，确保操作过程中没有异常。7.定时加入酸，确保反应进行顺利。8.操作完毕后，关闭设备，停止供酸。9.清理设备，保持设备的清洁卫生。第四章常压氧化还原法脱硅第十一条常压氧化还原法脱硅采用氧化还原的方法进行。操作人员应严格遵守以下操作规程：1.检查设备是否正常运行，确认相关设备是否开启。2.加入合适的氧化剂和还原剂，调节设备温度和压力。3.检查设备是否密封正常，确保不发生泄漏。4.将待处理的硅材料加入设备中。5.根据设备要求设置温度、压力等参数。6.注意观察设备运行情况，确保操作过程中没有异常。7.定时加入氧化剂和还原剂，确保反应进行顺利。8.操作完毕后，关闭设备，停止供氧化剂和还原剂。9.清理设备，保持设备的清洁卫生。第五章安全措施第十二条在进行常压脱硅操作过程中，操作人员应严格遵守以下安全措施：1.操作人员应戴好个人防护装备，如防护服、手套、护目镜等。2.在操作过程中，应注意观察设备运行状态，如发生异常应及时报告相关人员。3.禁止在操作过程中吃东西、喝水或者吸烟。4.禁止将硅材料随意堆放或者摔打。5.操作人员在操作过程中，不得与设备上的管路、阀门等进行随意调试。6.在操作结束后，应及时清洁设备，保持设备的清洁卫生。第六章紧急处理第十三条在常压脱硅操作过程中，如发生紧急情况，操作人员应做到以下处理措施：1.紧急情况发生时，应立即停止操作，按照设备相关章程操作相应的应急操作。2.如果无法处理，应立即报告相关人员，协助处理紧急情况。3.在紧急情况处理结束后，应对设备进行彻底

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