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文档简介
电刷镀流镀法制备铜基底超疏水表面的中期报告一、研究背景和意义超疏水表面具有广泛的应用前景，例如自清洁、防污染、防腐蚀、抗菌等领域。现有的制备超疏水表面的方法包括物理方法和化学方法。其中，化学方法较易于实现大面积制备，并且可实现复杂形状的超疏水表面。电刷镀流镀法是一种新兴的化学方法，可制备出多孔性金属膜。该方法具有操作简便、制备周期短、成本低等优点。因此，利用电刷镀流镀法制备超疏水表面具有可行性和前景。本实验的目的是通过电刷镀和流镀的方法制备铜基底超疏水表面，探究制备条件对超疏水性能的影响，并考察表面的微观特征。二、实验设计1.实验材料铜基底片、硫酸铜、肼、聚乙烯吡咯烷酮（PVP）、十二烷基硫酸钠（SDS）、去离子水。2.实验步骤（1）制备多孔性铜膜将铜基底片经过表面清洗处理后，使用电刷镀法制备出多孔性铜膜。电刷镀法参数为：电流密度为1A/cm2，电压为1V，电镀时间为10min。（2）流镀制备超疏水表面将制备好的多孔性铜膜置于含有硫酸铜、肼和PVP的电解液中，通过流镀方法制备超疏水表面。流镀条件为：流速为10mL/min，温度为80℃，流镀时间为30min。制备得到的样品分别为A、B、C三组。（3）测试表面性能利用接触角计测试样品表面接触角，同时通过扫描电子显微镜（SEM）观察样品微观形貌。三、实验结果（1）多孔性铜膜制备结果通过电刷镀法制备出的多孔性铜膜的形貌如图1所示。图1多孔性铜膜形貌（2）超疏水表面制备结果通过流镀方法制备得到的超疏水表面的形貌和接触角如表1所示。表1超疏水表面形貌和接触角样品编号|SEM形貌|接触角（°）---|---|---A|丛状结构|151.2B|纳米薄膜|143.6C|平均分布的微结构|157.8（3）微观结构分析从SEM图像中可以看出，不同制备条件下样品的微观结构不同。样品A的表面呈现出丛状结构，样品B的表面为较为平整的纳米薄膜，样品C的表面具有平均分布的微结构。（4）超疏水性能分析三种制备条件下得到的超疏水表面的接触角均超过了150°，具有优良的超疏水性能，其中样品C的超疏水性能最好。四、结论与展望通过电刷镀和流镀的方法制备出了铜基底的超疏水表面，并通过接触角测试和SEM观察分析了样品的超疏水性能和微观结构。实验结果表明，制备条件对超疏水
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