• 现行
  • 正在执行有效
  • 2025-04-23 颁布
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【正版授权-英语版】 IEC 62047-46:2025 EN Semiconductor devices - Micro-electromechanical devices - Part 46: Silicon based MEMS fabrication technology - Measurement method of tensile strength of_第1页
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基本信息：

  • 标准号：IEC 62047-46:2025 EN
  • 标准名称：半导体器件-微机电设备-第46部分：硅基MEMS制造技术-纳米厚度膜拉伸强度的测量方法
  • 英文名称：Semiconductor devices - Micro-electromechanical devices - Part 46: Silicon based MEMS fabrication technology - Measurement method of tensile strength of nanoscale thickness membrane
  • 标准状态：现行
  • 发布日期：2025-04-23

文档简介

硅基MEMS制造技术-纳米厚度膜拉伸强度的测量方法标准内容如下：

该标准规定了纳米厚度膜（厚度在几纳米到几百纳米之间）拉伸强度的测量方法，适用于硅基MEMS器件的生产和测试。该标准提供了详细的测试方法和要求，以确保膜的拉伸强度符合设计要求和性能标准。

测试步骤如下：

1.准备样品：选择合适的硅基MEMS器件样品，确保其符合生产标准和规格要求。

2.切割和制备样品：根据测试要求，对样品进行切割和制备，确保膜的平整度和完整性。

3.测量膜的厚度：使用适当的测量设备和方法，精确测量膜的厚度，确保其符合设计要求。

4.加载和测量拉伸强度：使用适当的设备和方法，对膜进行加载，并测量其拉伸强度。拉伸强度是指膜在受到拉伸应力时所能承受的最大应力值。

5.数据分析和报告：根据测试结果，对数据进行分析和报告，确保膜的拉伸强度符合标准要求。

标准还规定了测试过程中的注意事项和要求，例如测试环境的控制、测试设备的校准和验证、测试数据的记录和保存等。此外，标准还对测试过程中的异常情况进行了说明和处理方法，以确保测试结果的准确性和可靠性。

该标准为硅基MEMS器件生产商提供了详细的测试方法和要求

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