标准解读

《T/CEMIA 030-2022 半导体用正胶显影液》标准针对半导体制造过程中使用的正胶显影液进行了详细规定。该文件首先明确了适用范围，适用于半导体行业中作为光刻工艺一部分的正性光刻胶去除溶剂。接下来，标准定义了术语和定义部分，为后续内容提供了基础理解框架。

在技术要求章节中，《T/CEMIA 030-2022》列出了正胶显影液需要满足的各项性能指标，包括但不限于纯度、pH值、粘度等物理化学性质的要求。这些具体参数确保了显影过程能够达到预期效果，并且不会对后续工序造成负面影响。此外，还特别强调了产品稳定性以及与不同材料兼容性的考量。

试验方法部分描述了如何通过一系列测试来验证上述技术要求是否得到满足。这包括样品准备、实验条件设定、操作步骤及结果分析等内容。通过标准化的检测流程，可以客观准确地评估正胶显影液的质量水平。

最后，在包装、标志、运输和贮存方面也给出了明确指导。例如，对于包装材料的选择、标签信息的标注、运输过程中的注意事项以及存储环境的要求都做了详细说明，以保证产品从生产到使用整个链条的安全性和有效性。


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  • 现行
  • 正在执行有效
  • 2022-04-20 颁布
  • 2022-07-20 实施
©正版授权
T/CEMIA 030-2022半导体用正胶显影液_第1页
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文档简介

ICS31030

CCSL.90

团体标准

T/CEMIA030—2022

半导体用正胶显影液

Positivephotoresistdeveloperforsemiconductormanufacture

2022-04-20发布2022-07-20实施

中国电子材料行业协会发布

T/CEMIA030—2022

前言

本文件按照标准化工作导则第部分标准化文件的结构和起草规则的规定

GB/T1.1—2020《1:》

起草

。

请注意本文件的某些内容可能涉及专利本文件的发布机构不承担识别专利的责任

。。

本文件由中国电子材料行业协会提出并归口

。

本文件主要起草单位杭州格林达电子材料股份有限公司

:。

本文件参与起草单位北方集成电路技术创新中心北京有限公司无锡三开高纯化工有限公司

:()、、

沧州信联化工有限公司晶瑞湖北微电子材料有限公司

、()。

本文件主要起草人邢攸美李潇逸张之钧赵健胡涛李盈盈陈东良顾峻徐文干孙炜刘新雨

:、、、、、、、、、、、

王琪周利超李林佳余红刚倪芸岚陈海刚杨小平章帅迪刘永南姚艺融刘为波翁雪平傅华

、、、、、、、、、、、、、

高小云

。

Ⅰ

T/CEMIA030—2022

半导体用正胶显影液

1范围

本文件规定了半导体用正胶显影液的分类和标记要求检验方法检验规则以及标志包装运输

、、、、、、

贮存和安全

。

本文件适用于半导体用正胶显影液其主要组分为通过季铵盐化合物电解制得的四甲基氢氧化铵

,。

四甲基氢氧化铵的基本信息见附录中的

AA.1。

2规范性引用文件

下列文件中的内容通过文中的规范性引用而构成本文件必不可少的条款其中注日期的引用文

。,

件仅该日期对应的版本适用于本文件不注日期的引用文件其最新版本包括所有的修改单适用于

,;,()

本文件

。

危险货物包装标志

GB190

化学试剂标准滴定溶液的制备

GB/T601

化学试剂杂质测定用标准溶液的制备

GB/T602

化学试剂试验方法中所用制剂及制品的制备

GB/T603

液体化学产品颜色测定法单位铂钴色号

GB/T3143(Hazen———-)

液体化工产品采样通则

GB/T6680

数值修约规则与极限数值的表示和判定

GB/T8170

纯氮高纯氮和超纯氮

GB/T8979、

电子级水

GB/T11446.1

化学品安全标签编写规定

GB15258

常用化学危险品贮存通则

GB15603

化学试剂离子色谱法测定通则

GB/T34672

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GB/T37403—2019(TFT-LCD)

洁净厂房设计规范

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SJ/T11634

电子工业用显影液中碳酸根离子的测定自动电位滴定法

SJ/T11635

电子工业用显影液中四甲基氢氧化铵的测定自动电位滴定法

SJ/T11636

电子化学品中颗粒的测试方法

SJ/T11638

3术语

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