标准解读

《T/CEMIA 036-2021 半导体显示用高碱浓度负胶显影液》标准规定了用于半导体显示领域的高碱浓度负胶显影液的技术要求、试验方法、检验规则以及标志、包装、运输和贮存等方面的内容。该标准适用于液晶显示器（LCD）、有机发光二显示器件（OLED）等平板显示制造过程中使用的高碱浓度负胶显影液。

技术要求部分详细列出了显影液的外观、pH值、密度、粘度、固含量、残留量、显影速率、分辨率等多项关键性能指标及其相应的测试条件与合格范围，确保产品能满足特定工艺需求。例如，对于pH值的要求可能涉及到控制在某个特定范围内以保证化学反应的有效性；而显影速率则直接关系到生产效率及最终产品的质量。

试验方法章节提供了测定上述各项性能参数的具体步骤和技术手段，包括但不限于使用精密仪器如pH计、密度计等进行测量，并通过标准化实验来评估显影效果。这些方法旨在为用户提供一个客观公正且可重复性强的检测依据。

检验规则明确了出厂检验与型式检验的不同要求及抽样方案，确保每批次产品质量稳定可靠。此外，还对不合格品处理方式进行了说明，以维护消费者权益。

最后，在标志、包装、运输和贮存方面，标准给出了明确指示，比如标签上应包含哪些信息、采用何种类型的容器盛装、如何安全搬运以及适宜的存储环境等，以此保障产品从生产到使用的全过程都处于最佳状态。


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  • 现行
  • 正在执行有效
  • 2023-11-06 颁布
  • 2023-12-30 实施
©正版授权
T/CEMIA 036-2023半导体显示用高碱浓度负胶显影液_第1页
T/CEMIA 036-2023半导体显示用高碱浓度负胶显影液_第2页
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文档简介

ICS31030

CCSL.90

团体标准

T/CEMIA036—2023

半导体显示用高碱浓度负胶显影液

Highalkaliconcentrationnegativephotoresistdeveloperforsemiconductordisplay

2023-11-06发布2023-12-30实施

中国电子材料行业协会发布

中国标准出版社出版

T/CEMIA036—2023

前言

本文件按照标准化工作导则第部分标准化文件的结构和起草规则的规定

GB/T1.1—2020《1:》

起草

。

请注意本文件的某些内容可能涉及专利本文件的发布机构不承担识别专利的责任

。。

本文件由中国电子材料行业协会提出并归口

。

本文件起草单位福建省佑达环保材料有限公司福州大学福建华佳彩有限公司

:、、。

本文件主要起草人刘小勇侯琳熙姚慧君田博肖龙强黄晓莉黄子勗房龙翔陈泽生肖小江

:、、、、、、、、、、

邱小真叶鑫煌李丛香吴玲玲

、、、。

Ⅰ

T/CEMIA036—2023

半导体显示用高碱浓度负胶显影液

1范围

本文件规定了半导体显示用高碱浓度负胶显影液的缩略语技术要求检验方法检验规则标志及

、、、、

包装运输贮存和安全事项

、、。

本文件适用于由氢氧化钾表面活性剂和水组成其中氢氧化钾的质量百分比大于的半导体显

、,8%

示用高碱浓度负胶显影液此半导体显示用高碱浓度负胶显影液主要用于半导体制程中负性光刻胶的

。

显影及薄膜晶体管液晶显示器或有机发光二极管显示器彩膜工艺光刻胶的

,(TFT-LCD)(OLED)

显影

。

2规范性引用文件

下列文件中的内容通过文中的规范性引用而构成本文件必不可少的条款其中注日期的引用文

。,

件仅该日期对应的版本适用于本文件不注日期的引用文件其最新版本包括所有的修改单适用于

,;,()

本文件

。

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GB/T5559-

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