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文档简介
玻璃制品镀膜工改进竞赛考核试卷含答案玻璃制品镀膜工改进竞赛考核试卷含答案考生姓名:答题日期:判卷人:得分:题型单项选择题多选题填空题判断题主观题案例题得分本次考核旨在评估学员对玻璃制品镀膜工改进的实际操作能力,检验其理论知识与实际应用相结合的能力,以促进学员在镀膜工艺优化、成本控制及产品质量提升方面的专业素养。
一、单项选择题(本题共30小题,每小题0.5分,共15分,在每小题给出的四个选项中,只有一项是符合题目要求的)
1.玻璃制品镀膜前,通常使用的清洁剂是()。
A.乙醇
B.丙酮
C.氨水
D.氢氟酸
2.镀膜过程中,常用的干燥方法不包括()。
A.热风干燥
B.真空干燥
C.紫外线干燥
D.水浴干燥
3.镀膜过程中,防止膜层划伤的方法不包括()。
A.使用柔软的布料擦拭
B.在膜层形成前避免触摸
C.使用硬质刷子清洁
D.操作人员穿戴无尘服
4.玻璃表面处理中,常用的粗化方法不包括()。
A.磨砂
B.火焰喷烧
C.化学腐蚀
D.机械抛光
5.镀膜过程中,膜层厚度控制的理想方法是()。
A.通过目测判断
B.使用薄膜厚度计测量
C.依靠经验估计
D.随机抽查
6.在镀膜过程中,提高膜层附着力常用的方法不包括()。
A.粗化处理
B.表面活化处理
C.使用有机溶剂处理
D.热处理
7.玻璃制品镀膜工,以下哪种镀膜技术不属于物理气相沉积(PVD)?()
A.真空镀膜
B.离子镀膜
C.镀银
D.镀金
8.玻璃制品镀膜工,以下哪种镀膜技术不属于化学气相沉积(CVD)?()
A.气相反应沉积
B.液相沉积
C.气相沉积
D.固相沉积
9.镀膜过程中,以下哪种气体用于去除玻璃表面的有机污染物?()
A.氮气
B.氩气
C.氢气
D.氧气
10.玻璃制品镀膜工,以下哪种材料不是常用的镀膜材料?()
A.铝
B.镍
C.硅
D.金
11.镀膜过程中,以下哪种方法不是用于提高膜层均匀性的?()
A.旋转基片
B.使用均匀的气体流量
C.调整镀膜距离
D.恒温镀膜
12.玻璃制品镀膜工,以下哪种镀膜技术不属于真空镀膜?()
A.真空镀膜
B.真空磁控溅射
C.真空蒸发镀膜
D.真空离子镀膜
13.镀膜过程中,以下哪种现象不是膜层缺陷?()
A.空泡
B.溅射坑
C.色差
D.膜层脱落
14.玻璃制品镀膜工,以下哪种镀膜技术不属于磁控溅射?()
A.磁控溅射
B.直流溅射
C.交流溅射
D.真空溅射
15.镀膜过程中,以下哪种方法不是用于提高膜层反射率的?()
A.调整膜层厚度
B.使用多层镀膜
C.选择高反射率材料
D.增加膜层厚度
16.玻璃制品镀膜工,以下哪种镀膜技术不属于电镀?()
A.电镀
B.电镀镍
C.电镀银
D.电镀铜
17.镀膜过程中,以下哪种方法不是用于提高膜层耐腐蚀性的?()
A.镀层合金化
B.镀层氧化
C.镀层钝化
D.镀层退火
18.玻璃制品镀膜工,以下哪种镀膜技术不属于阳极氧化?()
A.阳极氧化
B.阳极氧化铝
C.阳极氧化铜
D.阳极氧化铬
19.镀膜过程中,以下哪种现象不是膜层应力?()
A.膜层翘曲
B.膜层开裂
C.膜层发黄
D.膜层脱落
20.玻璃制品镀膜工,以下哪种镀膜技术不属于溅射镀膜?()
A.溅射镀膜
B.磁控溅射
C.电子束蒸发
D.真空镀膜
21.镀膜过程中,以下哪种方法不是用于提高膜层透光率的?()
A.调整膜层厚度
B.使用多层镀膜
C.选择高透光率材料
D.增加膜层厚度
22.玻璃制品镀膜工,以下哪种镀膜技术不属于离子注入?()
A.离子注入
B.离子注入氮
C.离子注入氧
D.离子注入金属
23.镀膜过程中,以下哪种方法不是用于提高膜层耐磨性的?()
A.镀层合金化
B.镀层氧化
C.镀层钝化
D.镀层退火
24.玻璃制品镀膜工,以下哪种镀膜技术不属于金属有机化学气相沉积(MOCVD)?()
A.MOCVD
B.PECVD
C.CVD
D.MOCVD
25.镀膜过程中,以下哪种现象不是膜层缺陷?()
A.空泡
B.溅射坑
C.色差
D.膜层透明
26.玻璃制品镀膜工,以下哪种镀膜技术不属于分子束外延(MBE)?()
A.MBE
B.MOCVD
C.CVD
D.MBE
27.镀膜过程中,以下哪种方法不是用于提高膜层耐候性的?()
A.镀层合金化
B.镀层氧化
C.镀层钝化
D.镀层硬化
28.玻璃制品镀膜工,以下哪种镀膜技术不属于等离子体增强化学气相沉积(PECVD)?()
A.PECVD
B.MOCVD
C.CVD
D.PECVD
29.镀膜过程中,以下哪种方法不是用于提高膜层导电性的?()
A.镀层合金化
B.镀层氧化
C.镀层钝化
D.镀层退火
30.玻璃制品镀膜工,以下哪种镀膜技术不属于磁控溅射?()
A.磁控溅射
B.直流溅射
C.交流溅射
D.真空溅射
二、多选题(本题共20小题,每小题1分,共20分,在每小题给出的选项中,至少有一项是符合题目要求的)
1.玻璃制品镀膜前表面处理的主要目的是()。
A.提高膜层附着力
B.增强玻璃表面的清洁度
C.减少膜层缺陷
D.降低生产成本
E.提高膜层透明度
2.镀膜过程中,以下哪些因素会影响膜层的均匀性?()
A.镀膜设备性能
B.气氛压力
C.基片温度
D.镀膜时间
E.膜层材料
3.玻璃制品镀膜工,以下哪些镀膜技术属于物理气相沉积(PVD)?()
A.真空镀膜
B.离子镀膜
C.镀银
D.镀金
E.化学气相沉积
4.镀膜过程中,以下哪些气体用于去除玻璃表面的有机污染物?()
A.氮气
B.氩气
C.氢气
D.氧气
E.二氧化碳
5.玻璃制品镀膜工,以下哪些材料是常用的镀膜材料?()
A.铝
B.镍
C.硅
D.金
E.钛
6.镀膜过程中,以下哪些方法可以用于提高膜层附着力?()
A.粗化处理
B.表面活化处理
C.使用有机溶剂处理
D.热处理
E.化学腐蚀
7.玻璃制品镀膜工,以下哪些镀膜技术不属于化学气相沉积(CVD)?()
A.气相反应沉积
B.液相沉积
C.气相沉积
D.固相沉积
E.溶剂沉积
8.镀膜过程中,以下哪些现象可能是膜层缺陷?()
A.空泡
B.溅射坑
C.色差
D.膜层脱落
E.膜层透明
9.玻璃制品镀膜工,以下哪些镀膜技术不属于真空镀膜?()
A.真空镀膜
B.真空磁控溅射
C.真空蒸发镀膜
D.真空离子镀膜
E.真空电镀
10.镀膜过程中,以下哪些方法不是用于提高膜层反射率的?()
A.调整膜层厚度
B.使用多层镀膜
C.选择高反射率材料
D.增加膜层厚度
E.减少膜层厚度
11.玻璃制品镀膜工,以下哪些镀膜技术不属于电镀?()
A.电镀
B.电镀镍
C.电镀银
D.电镀铜
E.真空镀膜
12.镀膜过程中,以下哪些方法不是用于提高膜层耐腐蚀性的?()
A.镀层合金化
B.镀层氧化
C.镀层钝化
D.镀层退火
E.镀层硬化
13.玻璃制品镀膜工,以下哪些镀膜技术不属于阳极氧化?()
A.阳极氧化
B.阳极氧化铝
C.阳极氧化铜
D.阳极氧化铬
E.阳极氧化塑料
14.镀膜过程中,以下哪些现象不是膜层应力?()
A.膜层翘曲
B.膜层开裂
C.膜层发黄
D.膜层脱落
E.膜层透明
15.玻璃制品镀膜工,以下哪些镀膜技术不属于溅射镀膜?()
A.溅射镀膜
B.磁控溅射
C.电子束蒸发
D.真空镀膜
E.溅射沉积
16.镀膜过程中,以下哪些方法不是用于提高膜层透光率的?()
A.调整膜层厚度
B.使用多层镀膜
C.选择高透光率材料
D.增加膜层厚度
E.减少膜层厚度
17.玻璃制品镀膜工,以下哪些镀膜技术不属于离子注入?()
A.离子注入
B.离子注入氮
C.离子注入氧
D.离子注入金属
E.离子注入塑料
18.镀膜过程中,以下哪些方法不是用于提高膜层耐磨性的?()
A.镀层合金化
B.镀层氧化
C.镀层钝化
D.镀层退火
E.镀层硬化
19.玻璃制品镀膜工,以下哪些镀膜技术不属于金属有机化学气相沉积(MOCVD)?()
A.MOCVD
B.PECVD
C.CVD
D.MOCVD
E.溶剂沉积
20.镀膜过程中,以下哪些现象可能是膜层缺陷?()
A.空泡
B.溅射坑
C.色差
D.膜层脱落
E.膜层透明
三、填空题(本题共25小题,每小题1分,共25分,请将正确答案填到题目空白处)
1.玻璃制品镀膜工,常用的粗化处理方法包括_________、_________和_________。
2.镀膜过程中,提高膜层附着力常用的表面处理方法有_________和_________。
3.物理气相沉积(PVD)技术中,常用的镀膜方法有_________、_________和_________。
4.化学气相沉积(CVD)技术中,常用的镀膜方法有_________、_________和_________。
5.玻璃制品镀膜工,用于去除玻璃表面有机污染物的常用气体是_________。
6.镀膜过程中,提高膜层均匀性的方法包括_________、_________和_________。
7.玻璃制品镀膜工,常用的镀膜材料包括_________、_________和_________。
8.镀膜过程中,膜层厚度控制的理想方法是使用_________。
9.玻璃制品镀膜工,提高膜层反射率的方法包括_________、_________和_________。
10.镀膜过程中,提高膜层耐腐蚀性的方法有_________、_________和_________。
11.玻璃制品镀膜工,阳极氧化处理可以提高玻璃的_________和_________。
12.镀膜过程中,膜层应力可以通过_________、_________和_________的方法来缓解。
13.玻璃制品镀膜工,常用的镀膜设备包括_________、_________和_________。
14.镀膜过程中,为了提高膜层的耐磨性,可以采用_________、_________和_________的方法。
15.玻璃制品镀膜工,为了提高膜层的耐候性,通常会选择_________、_________和_________的材料。
16.镀膜过程中,膜层缺陷主要包括_________、_________、_________和_________。
17.玻璃制品镀膜工,为了提高膜层的导电性,可以采用_________、_________和_________的方法。
18.镀膜过程中,为了提高膜层的透光率,可以采用_________、_________和_________的方法。
19.玻璃制品镀膜工,离子注入技术可以用于_________、_________和_________。
20.镀膜过程中,为了提高膜层的耐温性,可以采用_________、_________和_________的方法。
21.玻璃制品镀膜工,镀膜过程中,为了提高膜层的耐化学性,可以采用_________、_________和_________的方法。
22.镀膜过程中,为了提高膜层的耐辐射性,可以采用_________、_________和_________的方法。
23.玻璃制品镀膜工,镀膜过程中,为了提高膜层的耐冲击性,可以采用_________、_________和_________的方法。
24.镀膜过程中,为了提高膜层的耐水性,可以采用_________、_________和_________的方法。
25.玻璃制品镀膜工,镀膜过程中,为了提高膜层的耐候性,可以采用_________、_________和_________的方法。
四、判断题(本题共20小题,每题0.5分,共10分,正确的请在答题括号中画√,错误的画×)
1.玻璃制品镀膜工,粗化处理可以使玻璃表面更加光滑,有利于膜层的附着力。()
2.镀膜过程中,提高膜层附着力通常采用化学腐蚀的方法。()
3.物理气相沉积(PVD)技术中,蒸发镀膜是利用加热使材料蒸发并沉积在玻璃表面的方法。()
4.化学气相沉积(CVD)技术中,等离子体增强化学气相沉积(PECVD)可以提高沉积速率。()
5.玻璃制品镀膜工,镀膜过程中使用的气体越纯,膜层的质量越好。()
6.镀膜过程中,膜层厚度越厚,其透光率越高。()
7.镀膜过程中,阳极氧化处理可以提高玻璃的机械强度和耐腐蚀性。()
8.玻璃制品镀膜工,膜层应力可以通过热处理的方法来缓解。()
9.镀膜过程中,膜层缺陷如空泡和溅射坑可以通过机械抛光来修复。()
10.玻璃制品镀膜工,离子注入技术可以提高膜层的导电性。()
11.镀膜过程中,为了提高膜层的耐温性,可以采用低温镀膜的方法。()
12.玻璃制品镀膜工,镀膜过程中,为了提高膜层的耐化学性,可以采用添加稳定剂的方法。()
13.镀膜过程中,膜层的透光率可以通过增加膜层厚度的方法来提高。()
14.玻璃制品镀膜工,镀膜过程中,为了提高膜层的耐冲击性,可以采用增加膜层硬度的方法。()
15.镀膜过程中,膜层缺陷如色差可以通过调整镀膜工艺参数来改善。()
16.玻璃制品镀膜工,为了提高膜层的耐水性,可以采用添加防水剂的方法。()
17.镀膜过程中,膜层的耐候性可以通过选择具有良好耐候性的材料来提高。()
18.玻璃制品镀膜工,镀膜过程中,为了提高膜层的耐辐射性,可以采用添加抗辐射材料的方法。()
19.镀膜过程中,膜层的附着力可以通过提高基片的表面粗糙度来增强。()
20.玻璃制品镀膜工,镀膜过程中,为了提高膜层的耐温性,可以采用高温镀膜的方法。()
五、主观题(本题共4小题,每题5分,共20分)
1.阐述玻璃制品镀膜工在提高镀膜效率方面可以采取哪些具体措施,并解释这些措施如何影响最终的产品质量。
2.分析玻璃制品镀膜过程中常见的膜层缺陷及其产生原因,并提出相应的预防和解决方法。
3.讨论如何在保证膜层性能的前提下,通过优化镀膜工艺来降低生产成本。
4.举例说明玻璃制品镀膜技术在现代工业和日常生活中有哪些具体应用,并分析这些应用对相关领域的影响。
六、案例题(本题共2小题,每题5分,共10分)
1.某玻璃制品公司计划生产一批用于太阳能电池的玻璃基板,要求基板表面镀上一层高效率的太阳能吸收膜。请根据镀膜工艺的要求,设计一个镀膜流程,并简要说明每个步骤的目的和注意事项。
2.一家生产安全玻璃的企业发现,其生产的钢化玻璃在镀膜过程中出现了膜层脱落的问题。请分析可能的原因,并提出相应的解决方案,以确保产品质量和生产效率。
标准答案
一、单项选择题
1.B
2.D
3.C
4.A
5.B
6.C
7.E
8.B
9.C
10.C
11.D
12.D
13.E
14.E
15.E
16.E
17.D
18.E
19.D
20.D
21.E
22.E
23.D
24.E
25.E
二、多选题
1.A,B,C
2.A,B,C,D
3.A,B,C,D
4.A,B,C,D
5.A,B,C,D,E
6.A,B,C,D
7.B,C,D
8.A,B,C,D
9.A,B,C,D
10.A,B,C
11.A,B,C,D
12.A,B,C,D
13.A,B,C,D
14.A,B,C,D
15.A,B,C,D
16.A,B,C,D
17.A,B,C,D
18.A,B,C,D
19.A,B,C,D
20.A,B,C,D
三、填空题
1.磨砂、火焰喷烧、化学腐蚀
2.粗化处理、表面活化处理
3.真空镀膜、离子镀膜、蒸发镀膜
4.气相反应沉积、液相沉积、气相沉积
5.氢气
6.旋转基片、使用均匀的气体流量、调整镀膜距离
7.铝、镍、硅、金、钛
8.薄膜厚度计
9.调整膜层厚度、使用多层镀膜、选择高反射率材料
10.镀层合金化、镀层氧化、镀层钝化
11.阳极氧化、耐腐蚀性
12.粗化处理、表面活化处理、热处理
13.真空镀膜机、离子镀膜机、蒸发镀膜机
14.镀层合金化、镀层氧化、镀层硬化
15.阳极氧化铝、金属有机化合物、高耐候性材料
16.空泡、溅射坑、色差、膜层脱落、膜层透明
17.镀层合金化、镀层氧化、镀层钝化
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