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Q/ZMS(N)郑州磨料磨具磨削研究所有限公司企业标准Nano-polishingslurryforsiliconcarbide(SiC)waferchemicalmechanicalpolishing郑州磨料磨具磨削研究所有限公司发布I本标准起草单位:郑州磨料磨具磨削研究所有限公司制1碳化硅(SiC)晶圆化学机械抛光用纳米抛光液本标准规定了碳化硅(SiC)晶圆化学机械抛光用纳米抛光液的产品代号和标记、本标准适用于碳化硅(SiC)晶圆化学机械三代半导体材料化学机械抛光用纳米抛光液产品的代号为524技术要求4.2pH值pH值要求见下表4。pH值4.3净质量偏差35±100±500目测。氧化铝/氧化铈类纳米抛光液轻轻摇晃,观察底部沉淀磨料是否易摇匀。氧化硅类纳米抛光5.2pH值5.3磨料粒径使用马尔文ZetasizerNanoZS测试粒径。用干净的取样器取出抛光液,使用纯水将样品稀释至205.4净质量偏差),47.2.1产品内包装采用定制塑料壶/桶,整体干净、无7.2.2产品外包装采用硬质纸箱包装,符合运输有关7.3.2纳米抛光液应在5
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